「sputtering yield」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a sputtering method carrying out sputtering process in a correction part in a circuit in an intended process shape without reducing processing yield.例文帳に追加

加工歩留まりを低下させることなく、回路修正個所におけるスパッタ加工を意図した加工形状にて行うことのできるスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cylindrical sputtering target which has a high production yield of a filming step even when sputtering film formation is performed by using a long cylindrical sputtering target composed of a plurality of cylindrical target materials.例文帳に追加

複数の円筒形ターゲット材からなる長尺の円筒形スパッタリングターゲットを用いてスパッタ成膜した場合においても、成膜工程の製造歩留まりの高い円筒形スパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate holder capable of enhancing a manufacturing yield in a sputtering process of a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板のスパッタリング処理における歩留まりを向上させることができる半導体基板保持装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target material with which a W target having a uniform particle size can be obtained, thereby particles and the reduction of sheet resistance value at the time of sputtering are reduced, and the productivity and yield in products can be remarkably improved.例文帳に追加

均一な粒径のＷターゲットが得られ、それによりスパッター時のパーティクルやシート抵抗値が低下し、製品生産性並びに歩留を顕著に向上し得るスパッターリングターゲット材を提供すること。 - 特許庁

To provide a film-forming method which causes an adequate nitriding reaction, is suitable for producing a nitride thin film, and forms a film at a high sputtering yield and at a high film-forming speed.例文帳に追加

窒化反応が良好で窒化物薄膜の生成に適し、かつ、スパッタリングイールドが高く成膜速度が高い成膜を行う。 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus which can deposit a sputtered film having an excellent uniformity in a film thickness distribution on a wafer without increasing the cost and size of the sputtering apparatus, and further without reducing the reliability and yield of a product, and to provide a sputtering method using the same.例文帳に追加

スパッタ装置を高コスト化・大型化させることなく、さらには製品の信頼性や歩留りを低下させることなく、ウェーハ上に膜厚分布の均一性の優れたスパッタ膜を形成することができるスパッタ装置及びそれを用いたスパッタ方法を提供する。 - 特許庁

To inhibit the remarkable lowering of the yield factor of a Bi amount in a thin film formed with the use of an Ag-Bi alloy sputtering target.例文帳に追加

Ａｇ−Ｂｉ系合金スパッタリングターゲットを使用して形成される薄膜中のＢｉ量の歩留まりの著しい低下を抑制する。 - 特許庁

To provide a target for sputtering capable of ameliorating the texture of crystal orientation of the target, of improving the uniformity of a film when sputtering is carried out, and of enhancing the quality of sputtering deposition and greatly improving the yield of manufacturing and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

ターゲットの結晶配向の組織を改善し、スパッタリングを実施した際の、膜の均一性（ユニフォーミティ）を良好にし、スパッタ成膜の品質を向上させ、さらに製造歩留まりを著しく向上させることができるスパッタリング用ターゲット及びその製造方法を得ることを課題とする。 - 特許庁

To provide a target for sputtering in which the structure of crystal orientation is improved, thus the uniformity of a film upon sputtering is made satisfactory, the quality of sputtering film deposition is improved, and further, a production yield can be remarkably improved, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

ターゲットの結晶配向の組織を改善し、スパッタリングを実施した際の、膜の均一性（ユニフォーミティ）を良好にし、スパッタ成膜の品質を向上させ、さらに製造歩留まりを著しく向上させることができるスパッタリング用ターゲット及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering device which can shorten the maintenance time, realize high productivity, reduce production of particles by suppress film peeling, and improve the yield.例文帳に追加

メンテナンス時間を短くし、高い生産性を実現し、膜剥がれを抑制してパーティクルの発生を低減し、歩留まりを向上したスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a high frequency magnetron sputtering apparatus in which consistent film deposition is performed with high productivity and high yield.例文帳に追加

基板上での膜形成で、高い生産性を有し、安定した膜形成を行うことができ、歩留まりが高い高周波マグネトロンスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

The support structure comprises an element 20, provided with a material with a small sputter rate, a material with a large sputter threshold energy, or a material with a large ion implantation yield, in order to suppress the sputtering and the generation of sputtering product.例文帳に追加

支持構造は、スパッタリングおよびスパッタリング生成物の生成を抑制するための、スパッタ率が小さい材料、スパッタ閾値エネルギーが大きい材料、またはイオン注入歩留りが大きい材料を備えたエレメント２０を備えている。 - 特許庁

In the method for analyzing the depth direction profile of the ion implantation element measured by a secondary ion mass analyzing method, the change of the sputtering yield changed by the degree of damage formed at the time of ion implantation is calculated from the attenuation depth and the depth axis of a measuring profile is corrected on the basis of the change of the sputtering yield.例文帳に追加

二次イオン質量分析法で測定されたイオン注入元素の深さ方向プロファイルを分析する方法であって、イオン注入時に形成されたダメージの度合いにより変化するスパッタ収率の変化を減衰深さから求め、そのスパッタ収率の変化に依って測定プロファイルの深さ軸を補正する。 - 特許庁

To provide a metal mask for sputtering which does not flaw a black matrix and coloring pixels when aligning the metal mask for sputtering to a glass substrate formed with the black matrix and coloring pixels and superposing the metal mask thereon and which does not give rise to abnormal discharge right after sputtering and consequently does not yield defective articles.例文帳に追加

ブラックマトリックス及び着色画素が形成されたガラス基板上に、スパッタ用メタルマスクを位置を合わせして重ねる際に、ブラックマトリックスや着色画素に傷を付けしまうことのない、また、スパッタを行った直後に異常放電がおこることのない、従って、不良品を発生させないスパッタ用メタルマスクを提供すること。 - 特許庁

To provide an ITO(indium tin oxide) sputtering target capable of improving product yield by inhibiting the occurrence of nodules in an erosion region and simultaneously preventing the peeling of sticking matter adhering to a non-erosion region on an ITO target during sputtering.例文帳に追加

エロージョン部のノジュール発生を抑制すると同時に、スパッタリング中にＩＴＯターゲット上の非エロージョン部に付着した付着物質の剥離を防止することによって、製品の歩留まりを向上させるＩＴＯスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an Al-based alloy sputtering target material comprising a rare earth element and a high melting point element having a melting point higher than that of Al at a high yield.例文帳に追加

希土類元素、およびＡｌよりも高融点の高融点元素を含有するＡｌ基合金スパッタリングターゲット材を歩留良く製造できる方法を提供する。 - 特許庁

When the β iron silicide region is manufactured on the silicon substrate by using a sputtering method, the conditions of the type of ion and its accelerating voltage, a pressure in an apparatus, an incident angle of ion or their combination are set to set a sputtering yield to 2.4 or more.例文帳に追加

シリコン基板にβ鉄シリサイド領域をスパッタ法を用いて作製する際、スパッタリング収率を２．４以上に設定するような、イオンの種類及びその加速電圧、装置内の圧力、イオンの入射角、またはその組み合わせの条件を設定する。 - 特許庁

This ECR sputtering method attains an excellent nitriding reaction and a high sputtering yield by irradiating a substrate with plasma originating from a sputter target, simultaneously ionizing reactive gases such as nitrogen gas and irradiating the substrate with ions of the ionized reactive gas.例文帳に追加

ＥＣＲスパッタにおいて、スパッタターゲットのプラズマを基板に照射するとともに、窒素ガス等の反応性ガスをイオン化し、このイオン化した反応性ガスイオンを基板に照射することによって、窒化反応を良好なものとするとともに、高いスパッタリングイールドを得る。 - 特許庁

To provide a method for stably manufacturing a Mg-containing ITO sputtering target and an evaporation material while preventing cracking during manufacture without causing reduction in yield.例文帳に追加

製造工程中にクラックが発生するのを抑制し、歩留まりの低下をまねくことなく、安定的にＭｇ含有ＩＴＯスパッタリングターゲットおよび蒸着材を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for stably manufacturing a high-density Mg- containing ITO sputtering target at a low cost by which cracking during a manufacturing process can be suppressed and high yield can be attained.例文帳に追加

製造工程中にクラックが発生するのを抑制し高い歩留まりを達成することができ、安定的に低コストで高密度なＭｇ含有ＩＴＯスパッタリングターゲットを製造する方法を提供する。 - 特許庁

To reduce working cost and obtain high yield by weight in a unidirectional solidified silicon ingot, a manufacturing method thereof, a silicon plate, a substrate of a solar cell and a target base material for sputtering.例文帳に追加

一方向凝固シリコンインゴット及びこの製造方法並びにシリコン板及び太陽電池用基板及びスパッタリング用ターゲット素材において、加工コストが低いと共に、高い重量歩留まりを得ること。 - 特許庁

To provide a sputtering target of Al-(Ni, Co)-(Cu, Ge)-(La, Gd, Nd)-based alloy, which reduces the occurrence of splash at the initial stage of the use of the sputtering target, thereby prevents a defect from occurring in a wiring film or the like, and can improve the yield or performance of FPD, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

スパッタリングターゲットの使用初期段階でのスプラッシュの発生を軽減し、これにより配線膜等に生じる欠陥を防止し、ＦＰＤの歩留りや動作性能を向上させることが可能なＡｌ−（Ｎｉ，Ｃｏ）−（Ｃｕ，Ｇｅ）−（Ｌａ，Ｇｄ，Ｎｄ）系合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sintered composite oxide capable of obtaining a TFT panel excellent in uniformity of a TFT characteristic, reproducibility of the TFT characteristic and yield of the TFT, and to provide a sputtering target comprising the same.例文帳に追加

ＴＦＴ特性の均一性、ＴＦＴ特性の再現性及びＴＦＴの歩留りが良好なＴＦＴパネルが得られる複合酸化物焼結体、及びそれからなるスパッタリングターゲットを提供すること。 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus capable of depositing a sputter film of excellent step coverage in a contact hole of high aspect ratio without degrading productivity, life time of a target, yield of a product, and reliability.例文帳に追加

生産性、ターゲット寿命、製品歩留り及び信頼性を低下させることなく、高アスペクト比のコンタクトホール内に優れたステップカバレッジを有するスパッタ膜を形成することができるスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To prevent a semiconductor device from deteriorating in manufacturing yield due to the fact that a large number of pinholes occur in a titanium film which is formed through a sputtering method so as to be used as a metal mask for manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置製造用メタルマスクとしてスパッタ法で形成したチタン膜にピンホールが多数発生し、マスク材として有効に機能せずこれを用いた半導体装置の製造時の歩留が低くなるのを防止する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a magnetic disk which is capable of easily manufacturing protective films having excellent durability and corrosion resistance with extremely thin films and improving the yield in manufacturing and a sputtering device used for the same.例文帳に追加

極薄膜で耐久性及び耐腐食性に優れた保護膜を容易に製造することができ、製造する際の歩留まりを向上させることができる磁気ディスクの製造方法及びそれに使用するスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To provide an optical information recording medium having an inorganic recording layer formed by a sputtering or a vapor deposition by solving defects that it is low yield and impossible to tracking in a single sided two-layer DVD-R disk.例文帳に追加

片面２層DVD-Rディスクにおける低歩留まりとトラッキングできない等の欠点を解決し、スパッタリングまたは蒸着によって形成された無機記録層を有する、光情報記録媒体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the deposition of foreign matter due to, e.g. formation of particles onto a substrate, to improve product yield by maintaining sputtering deposition rate at fixed and high rate, and to obtain a target suitable for production of a dielectric protective film of an optical disk.例文帳に追加

パーティクルの発生等に起因する基板への異物堆積を抑制し、またスパッタリング成膜速度を一定かつ高速に維持して製品歩留りを向上させ、光ディスクの誘電体保護膜の作成に好適なターゲットを得る。 - 特許庁

To provide a sputtering target useful for forming a protective film of a phase-change recording medium, which does not crack or break when manufacturing the sintered compact, has a high manufacturing yield, and does not cause cracks even when being sputtered in high power, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

焼結体の作製時にクラックや割れが発生せず、製造歩留りが高く、かつ大電力でのスパッタを行っても割れが発生しない相変化記録媒体の保護膜形成に有用なスパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film magnetic head, with which patterning accuracy, a sputtering film deposition distribution and/or an etching distribution can be improved, a wafer suction defect in a vacuum chuck or electrostatic chuck can be prevented, and a yield can be improved.例文帳に追加

パターニング精度、スパッタ成膜分布及び／又はエッチング分布を向上させ、さらに、真空チャック又は静電チャックにおけるウエハの吸着不良を防止でき、歩留り改善を可能とする薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To inhibit formation of particles by inhibiting occurrence of abnormal discharge in a vacuum chamber in a sputtering apparatus, to improve a manufacturing yield of a product formed on a semiconductor wafer, and to increase an operating efficiency of an apparatus by improving consumption efficiency of a target.例文帳に追加

スパッタ装置において、真空室内での異常放電の発生を抑制してパーティクルの発生を無くし、半導体ウエハ上に形成される製品の製造歩留りの向上を図り、かつターゲットの消費効率を向上させて装置の稼働率向上を図る。 - 特許庁

To provide a method for purifying cobalt, nickel, and iron, which efficiently reduces impurities such as oxygen, phosphorus, and sulfur, contained in metals especially cobalt, nickel, and iron, prevents contamination with impurities during film formation by sputtering, prevents nodules from generating and particles from increasing, both of which initiate from the impurities, and improves workability and yield, and to manufacture a sputtering target of high purity metal.例文帳に追加

金属、特にコバルト、ニッケル、鉄等に含有されている酸素、燐、硫黄等の不純物を効率良く低減することができ、スパッタリング成膜中の不純物混入を防止し、かつ該不純物を起点とするノジュールの発生やパーティクルの増大を抑制することができ、さらに加工性を改善し歩留まりを向上させることができるコバルト、ニッケル、鉄の高純度化方法得、かつスパッタリング用高純度金属ターゲットを製造する。 - 特許庁

To provide an ITO sputtering target in which the amount of nodule produced on the surface of an ITO target caused by a solder material is reduced, and simultaneously, the reduction in the yield of a product caused by sticking of a melted solder material to the film face of a flat panel display or the like can be prevented.例文帳に追加

半田材起因で発生するＩＴＯターゲット表面に発生するノジュール量を低減すると同時に、溶融した半田材がフラットパネルディスプレイ等の膜面に付着することによる製品の歩留まりの低下を防止できるＩＴＯスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask blank capable of manufacturing a high-quality mask blank with a high yield, while suppressing generation of defects in a thin film for forming a mask pattern, to provide a method for manufacturing a transfer mask manufactured by patterning the thin film of the mask blank, and to provide a sputtering target that is used for manufacturing the mask blank.例文帳に追加

マスクパターンを形成するための薄膜の欠陥発生を抑えた高品質のマスクブランクを、高い歩留まりで製造することのできるマスクブランクの製造方法と、前記マスクブランクの薄膜をパターニングして製造する転写マスクの製造方法、並びに前記マスクブランクの製造に用いるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To stably produce a target for depositing a phase transition type optical recording medium protective film provided with fine crystal grains, and having a high density of ≥97% at a low cost, and to increase a product yield by preventing or suppressing discoloration such as color irregularity in the target, and to improve the quality of the optical recording medium by performing sputtering using the target.例文帳に追加

微細結晶粒を備え９７％以上の高密度を有する相変化型光記録媒体保護膜形成用ターゲットを安定して低コストで製造できるようにするとともに、該ターゲットの色むら等の変色を防止又は抑制することにより製品歩留りを上げ、かつ該ターゲットを用いてスパッタリングすることによって光記録媒体の品質を向上させる。 - 特許庁