「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To impart gettering capability to a semiconductor device which is thinned in a device post-step and has a polished rear surface.例文帳に追加

デバイス後工程で薄型化され、且つ、裏面研磨された半導体デバイスにゲッタリング能力を付与する。 - 特許庁

By using a polymer having an intrinsic functional group, a separate surface activation step is avoided.例文帳に追加

固有の官能基を有するポリマーを使用することによって、別個の表面活性化工程が避けられる。 - 特許庁

The upper surface 25a of the step part 25 is formed on the position indexing a regulated level of dust removing oil.例文帳に追加

そして、この段部２５の上面２５ａを除塵用オイルの規定レベルを指標する位置に形成する。 - 特許庁

A surface protection layer is formed on the glass substrate so as to cover the TFT array (step P2).例文帳に追加

ＴＦＴアレイを形成した領域を覆う表面保護層をガラス基板に形成する（工程Ｐ２）。 - 特許庁

In step S3, a moisturizing liquid containing a moisturizer and water is applied on a surface of the air-laid nonwoven fabric 100.例文帳に追加

ステップＳ３では、エアレイド不織布１００の表面に、保湿剤と水を含む保湿液を塗布する。 - 特許庁

The field plate 6f comprises a step part which bends downward from the surface of the substrate 1.例文帳に追加

フィールドプレート６ｆは、基板１の表面から下側へ向かって屈曲している段差部分を有している。 - 特許庁

After the chop is cured, the resin molded article is removed from the P mold and fins are shaven off the facing surface (step 5).例文帳に追加

チョップが硬化した後、樹脂成形物をＰ型から脱型し合せ目のバリを削り落す（工程５）。 - 特許庁

In a second element forming step, a capacitor element portion 4b is formed on the upper surface of an anode electrode 2c.例文帳に追加

第２素子形成工程では、陽極電極２ｃの上面にコンデンサ素子部４ｂを形成する。 - 特許庁

The step (c) forms the electrode layer 5 on the surface of the protective film 4 using a wet process technique.例文帳に追加

工程（ｃ）では、ウェットプロセス技術を用いて、保護膜４の表面上に電極層５を形成する。 - 特許庁

Plasma application is performed in a process step (4) for cleaning the surface of metal electrodes which are formed on a substrate.例文帳に追加

（４）の工程でプラズマ印加を行い、基板に形成された金属電極の表面をクリーニングする。 - 特許庁

Thereafter, a vulcanizing treatment is performed, and a conductive silicone film is formed on the outer peripheral surface of the urethane sponge (step 5).例文帳に追加

その後、加硫処理を行い、ウレタンスポンジの外周面に導電性シリコン皮膜を形成する（ステップ５）。 - 特許庁

The method for surface-treating a fluororesin molding includes: a step (S11) of applying an etching treatment to the surface to be treated of the fluororesin molding with a solution containing an alkali metal; and after the step of applying etching treatment, a step (S14) of applying a modifying treatment to the surface to be treated with a solution containing a carboxylic acid.例文帳に追加

フッ素樹脂成形体の表面処理方法は、フッ素樹脂成形体の被処理面に対し、アルカリ金属を含有する溶液でエッチング処理を施すステップ（Ｓ１１）と、エッチング処理を施すステップの後に、被処理面に対し、カルボン酸を含有する溶液による改質処理を施すステップ（Ｓ１４）とを有する。 - 特許庁

The rolling element further comprises a gap forming piece 7 whose end faces the step surface 2b with a gap 12 formed therebetween.例文帳に追加

先端が前記段差面２ｂに隙間１２を介して対面する隙間形成片７を設ける。 - 特許庁

In the method of manufacturing the semiconductor device using the silicon carbide single-crystal substrate, a metal contamination removing process for the silicon carbide surface is applied which comprises: a step of oxidizing the silicon carbide surface; and a step of removing a film mainly composed of silicon dioxide, the film being formed on the silicon carbide surface in the step.例文帳に追加

炭化珪素単結晶基板を用いた半導体装置の製造方法において、炭化珪素表面を酸化するステップと、該ステップにより炭化珪素表面に形成された二酸化シリコンを主成分とする膜を除去するステップとからなる炭化珪素表面の金属汚染除去工程を適用する。 - 特許庁

The production method of the semiconductor device comprises a step for forming a conductive layer 27 on the semiconductor substrate 23 through an insulation film 26, a step for making smooth the surface 27a of the conductive layer 27 by filling recesses in the surface with a material 44 itself shaven off from the surface, and a step for forming the dielectric element by patterning the conductive layer 27 spirally.例文帳に追加

半導体基板２３上に絶縁膜２６を介して導電層２７を形成する工程と、導電層２７の表面２７ａを、該表面から削られた材料自体４４で表面の凹部を埋め込んで平滑化する工程と、導電層２７をスパイラル状にパターニングして誘導素子を形成する工程を有する。 - 特許庁

The method for producing the laminate 10 comprises the step of melt bonding the adhesive sheet 4 to the joining surface A of the substrate 1 and the step of bonding a joining object 2 to the joining surface A through the melted adhesive sheet 4, wherein the adhesive 3 is adhered to at least a part of the joining surface A before the melting step.例文帳に追加

基体１の被接合面Ａ上に接着シート４を融着する工程と溶融させた接着シート４を介して被接合面Ａ上に被接着体２を接合する工程を含み、融着工程に先立って、被接合面Ａの少なくとも一部に接着剤３を付着させる積層体１０の製造方法である。 - 特許庁

The method for producing the laminate having a film formed on the surface of the substrate with the cold spray method includes: a substrate treatment step of previously activating the surface of the substrate; and a film-forming step of forming the film on the surface of the substrate after the substrate treatment step.例文帳に追加

本発明は、コールドスプレー法によって基材の表面に皮膜を形成する積層体の製造方法において、前記基材の表面を予め活性化する基材処理工程と、この基材処理工程後に、前記基材の表面に前記皮膜を形成する皮膜形成工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

A step unit is constituted by fixing a fan-shaped tread to an outside surface 4 of a basic body 1 of a strut piece 27.例文帳に追加

踏段ユニットは支柱片２７の基体１の外側面４に扇形の踏板を固定してなる。 - 特許庁

In this step, a thermal-sprayed film 27 is formed even on the inner surface 8 of a masking cylinder of the masking member 3.例文帳に追加

この際、マスキング部材３のマスキング円筒内面８にも溶射皮膜２７が形成されてしまう。 - 特許庁

A manufacturing method of an electronic component comprises: a step of mounting a surface acoustic wave element 20 on a mounting substrate 10; a step of forming a sealing resin 40 so as to cover the surface acoustic wave element 20 mounted on the mounting substrate 10; and a step of performing a plasma treatment on a surface of the sealing resin 40.例文帳に追加

電子部品の製造方法は、実装基板１０上に弾性表面波素子２０を実装する工程と、実装基板１０上に実装された弾性表面波素子２０を覆うように封止樹脂４０を形成する工程と、封止樹脂４０の表面にプラズマ処理を行なう工程とを備える。 - 特許庁

At the step (S20), the electrode is arranged to be opposed to the front surface of the plate-shaped body.例文帳に追加

電極を配置する工程（Ｓ２０）では、板状体の表面と対向するように電極を配置する。 - 特許庁

A step is formed slightly inward from a longitudinal end of the film on a contact surface with the film in a ceramic heater.例文帳に追加

セラミックヒータのフィルムとの接触面において、フィルムの長手端部より少し内側に、段差を設ける。 - 特許庁

To obtain an escalator in which a step surface can be easily distinguished from a riser in each footstep.例文帳に追加

各踏段の踏み面とライザとを容易に区別することができるエスカレータを得ることを目的とする。 - 特許庁

The bacterial removing system of the dental caries, the periodontal diseases and the opportunistic infection bacteria is composed of a step of removing bacterial plaque formed of Streptococcus mutans etc., from the tooth surface, a step of coating the tooth surface with the 3DS home care agent having ≥1 wt.% content of low crystalline or amorphous hydroxyapatite and a step of washing the tooth surface.例文帳に追加

ミュータンス等で形成されたプラークを歯牙表面から除去するステップ、低結晶性或いは非晶質のハイドロキシアパタイトの含有量が1重量％以上である３ＤＳホームケア剤を歯牙表面に塗布するステップ、及び歯牙表面を洗浄するステップからなるう蝕、歯周病、日和見感染菌除菌システムである。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a glass fiber mat supply step of supplying a glass fiber mat 2 on the under surface material 1, a liquid concentrate supply step of supplying the rigid polyurethane foam liquid concentrate composition on the glass fiber mat 2 to be supplied, and an upper surface material supply step of supplying an upper material on the upper surface where the liquid concentrate is supplied.例文帳に追加

下面材１上に、ガラス繊維マット２を供給するガラス繊維マット供給工程と、供給されたガラス繊維マット２上に硬質ポリウレタンフォーム発泡原液組成物を供給する原液供給工程と、原液供給されたその上面に上面材を供給する上面材供給工程と、を有する。 - 特許庁

Subsequently, a contact pin is brought into contact with the second main surface of the semiconductor device (step S3).例文帳に追加

次に、半導体素子の第２の主面に形成された電極にコンタクトピンを接触させる（ステップＳ３）。 - 特許庁

A fifth step S5 etches the FIB irradiation surface of the processing object substrate by being soaked in a KOH aqueous solution.例文帳に追加

第５ステップＳ５では、ＫＯＨ水溶液に浸漬して被加工基板のＦＩＢ照射面をエッチングする。 - 特許庁

The method for printing on the curved surface includes: a step (S20) of determining whether the print-target surface of a print target is curved; a step (S21) of dividing a print design into at least two printing zones if the print-target surface is curved; and a step (S22) of separately printing the printing zones one by one.例文帳に追加

曲面プリント方法は、被プリント部品の被プリント面が曲面であるかを判断するステップ（Ｓ２０）と、前記被プリント面が曲面であれば、プリント図案を少なくとも２つのプリント区域に分割するステップ（Ｓ２１）と、前記各々のプリント区域を別々に順番にプリントするステップ（Ｓ２２）と、を含む。 - 特許庁

The jaws 21 and the surface plates 40 hold the workpiece from above and below when projection portions 31 are fitted in step portions 3.例文帳に追加

口金２１と定板４０とは段部３に突起部３１が入り込み上下でワークを挟み込む。 - 特許庁

In the backside metal film formation step, a backside metal film is formed on the second primary surface of the semiconductor wafer.例文帳に追加

裏面金属膜形成工程では、半導体ウェハの第二主面に裏面金属膜を形成する。 - 特許庁

In addition, it is also manufactured without a step for removing surface roughness larger than the mean free path.例文帳に追加

また、平均自由行程よりも大きい表面粗さを、取り除く工程を省略して製造する。 - 特許庁

A step 9 is formed between the opening 7a of the vent 7 and the bottom surface 6a of the dent 6.例文帳に追加

ベント７の開口７ａと窪み部６の底面６ａとの間に段差９が形成されている。 - 特許庁

Further, the method comprises an etching step for physically or chemically activating the surface of the injection-molded key.例文帳に追加

さらに射出されたキーの表面を物理的または化学的に活性化させるエッチング工程を含む。 - 特許庁

The polyhedron shapes and the generated curved-surface shapes are held in a set in a system (STEP 1).例文帳に追加

多面体形状と生成した曲面形状とは組みにしてシステム内に保持しておく（ＳＴＥＰ１）。 - 特許庁

A surface potential (toner layer potential) according to the output value to the electrostatic charger 26 is measured (step S8).例文帳に追加

帯電チャージャ２６への出力値に応じた表面電位（トナー層電位）を測定する（ステップＳ８）。 - 特許庁

Since a mirror surface polishing step conventionally required can be made unnecessary, the prism can be efficiently manufactured.例文帳に追加

従来必要であった鏡面研磨工程を不要にできるから、プリズムを効率よく製造できる。 - 特許庁

In this step, final adjustment is done by checking for small scratches, blade thickness and Jiba (blade surface). 例文帳に追加

この時に細かな疵や、肉の付き具合、地刃の姿を確かめながら最終的な調整を行う。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A subsidiary CPU 82 displays an initial guide menu display surface in a liquid crystal display device 22 (step 161).例文帳に追加

サブＣＰＵ８２は、まず、液晶表示装置２２に初期ガイドメニュー画面を表示する（ステップ１６１）。 - 特許庁

To provide a caster for reconciling the getting-over performance of a step difference on a road surface and operability.例文帳に追加

路面上の段差の乗り越え性と操作性とを両立するキャスターを提供することを目的とする。 - 特許庁

An exposure method for transferring an exposure light pattern to an object surface includes: a pattern formation step of forming a pattern; a projection step of projecting the pattern on the object surface using a projection optical system; and an adjustment step of dividing the pattern according to the shape of the projection region on which the pattern is projected on the object surface.例文帳に追加

露光光のパターンを対象面に転写する露光方法であって、パターンを形成するパターン形成ステップと、投影光学系を用いてパターンを対象面に投影する投影ステップと、対象面のうちパターンが投影される投影領域の形状に応じて、パターンを分割する調整ステップとを含む。 - 特許庁

In the end, in a drying process (a step S4), water adhered to the external surface of the core bar is dried.例文帳に追加

最後に、乾燥工程（ステップＳ４）において、芯金の外表面に付着している水を乾燥させる。 - 特許庁

This method for producing an epitaxial structure includes a first step of providing a substrate having at least one crystal surface, a second step of arranging a carbon nanotube layer containing a plurality of voids on the crystal surface of the substrate, and a third step of growing an epitaxial layer on the crystal surface of the substrate.例文帳に追加

本発明のエピタキシャル構造体の製造方法は、少なくとも一つの結晶面を有する基板を提供する第一ステップと、前記基板の結晶面に複数の空隙を含むカーボンナノチューブ層を配置する第二ステップと、前記基板の結晶面にエピタキシャル層を成長させる第三ステップと、を含む。 - 特許庁

At step S301, an adhesive is applied onto the surface of one of a lens holder 10 and an element holder 11, the surface being to be bonded to the other.例文帳に追加

ステップＳ３０１でレンズホルダ１０と素子ホルダ１１とのうちの少なくとも一方の、他方への接着面に接着剤を塗布する。 - 特許庁

In the compression step 140, the surface of the material deposition layer is compressed by a roller, and the carbon layer with smooth surface is formed (condition E).例文帳に追加

圧縮工程１４０において、材料堆積層の表面をローラにより圧縮し、表面の平滑なカーボン層を形成する（状態Ｅ）。 - 特許庁

The step part 51 abuts on an abutting surface being an upper end surface 2B of a head part 2A of a nail 2 inserted from the lower end of the nail guide 50.例文帳に追加

段部５１には、ネイルガイド５０の下端から挿入されてきた釘２の頭部２Ａの上端面２Ｂたる当接面が当接可能である。 - 特許庁