「thin- layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(73ページ目) - Weblio英語例文検索

The semiconductor silicon carbide substrate is preferably a semiconductor silicon carbide substrate in which surface silicon of an SOI substrate is made thin, the extremely thin silicon layer is denatured into a silicon carbide layer through carbonization, and a silicon carbide epitaxial film is deposited thereon by a CVD (chemical vapor-deposition) method.例文帳に追加

炭化珪素基板としては、ＳＯＩ基板の表面シリコンを薄層化し、その極薄シリコン層を炭化処理により炭化珪素層に変性し、その上にＣＶＤ（化学気相成長）法により炭化珪素エピタキシャル膜を形成させたものが好ましい。 - 特許庁

To provide a manufacturing method capable of obtaining a semiconductor device in a configuration where a semiconductor thin-film layer is covered with a protective film, without damaging the semiconductor thin-film layer provided on a substrate without depending on the constituent material and the film-formation method of the protective film.例文帳に追加

保護膜の構成材料や成膜方法によらずに、基板上に設けた半導体薄膜層に対してダメージを与えることなく、この半導体薄膜層を保護膜で覆った構成の半導体装置を得ることが可能な製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transfer method which avoids deterioration of a thin-film device such as a thin-film transistor formed on a transferred layer in a transfer method of the transferred layer, to provide a manufacturing method of a semiconductor device, and to provide an electronic apparatus.例文帳に追加

本発明はこのような問題を解決し、被転写層の転写方法において薄膜トランジスタ等の被転写層に形成された薄膜素子の劣化を回避し得る転写方法、半導体装置の製造方法及び電子機器を提供することを目的としている。 - 特許庁

To perform stable transfer electrification over a long period by decreasing the friction or the like with a recording material carrying body by a low friction thin film layer and preventing the crack or the like of the low friction thin film layer as of the transfer member of a transfer means.例文帳に追加

転写手段の転写部材につき、低摩擦薄膜層により記録材担持体との摩擦力等を軽減させるとともに、その低摩擦薄膜層の割れ等を防止して、長期間にわたって安定した転写帯電を行うことを可能とすることである。 - 特許庁

The method comprises spreading a polymer solution prepared by dissolving a polymer in an organic solvent over the surface of a liquid layer 2 liquid at normal temperature to form a liquid film, forming a thin film 3 on the layer 2 by desolventation, and grinding the thin film 3.例文帳に追加

ポリマーが有機溶剤に溶解されている重合体溶液を、常温で液体である液層２の液面上に膜状に展開させ、脱溶剤して前記液層２の上に薄膜３を形成させ、この薄膜３を粉砕するポリマーの微粉末の製造法である。 - 特許庁

The light diffusing plate has a thin film of at least one layer formed on at least one side of a thermoplastic resin sheet by a transfer method, wherein at least one layer of the thin film contains an antistatic agent.例文帳に追加

本発明の光拡散板は、熱可塑性樹脂シートの少なくとも片面に転写法により形成された少なくとも１層の薄膜を有する光拡散板であって、前記薄膜のうち少なくとも１層が帯電防止剤を含有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a material for an organic thin film transistor insulating layer, capable of forming a crosslinked structure without requiring a high-temperature treatment, and of enabling an organic thin-film transistor to have a threshold voltage (Vth) of a small absolute value, when used for the formation of a gate insulating layer.例文帳に追加

高温での処理を行わないで架橋構造を形成することが可能であり、ゲート絶縁層を形成するのに用いた場合に有機薄膜トランジスタの閾値電圧（Ｖｔｈ）の絶対値が小さくなる有機薄膜トランジスタ絶縁層材料を提供すること。 - 特許庁

The metal-containing fabric is manufactured by forming the thin metal film layer on at least one surface of the fabric by metal vapor deposition, and applying a treating liquid of a coloring agent-containing resin to the yarn portion of the thin metal film layer.例文帳に追加

布帛の少なくとも片面に、金属蒸着によって金属薄膜層を形成し、次いでその金属薄膜層の糸条部に着色剤含有樹脂からなる処理液を塗布した後、乾燥させることを特徴とする金属含有布帛の製造方法。 - 特許庁

A manufacturing method for the diffuse reflecting plate includes a process of pressing the laminated body for transfer so that the bonded surface of the thin film layer comes into contact with an applied substrate, a process of peeling the temporary base, and a process of forming a reflecting film on the uneven surface of the thin film layer.例文帳に追加

さらに、この転写用積層体を適用基板に薄膜層の接着面が接するように押し当てる工程、前記仮支持体を剥がす工程及び薄膜層の凹凸表面に反射膜を形成する工程を含む拡散反射板の製造方法。 - 特許庁

Wide or several openings are formed in an insulating film, then conductive films connected to a thin film transistor are formed in the openings, and then a layer having the thin film transistor is transposed to a substrate having a conductive film and the like using a separating layer.例文帳に追加

絶縁膜に広い、又は複数の開口部を形成し、該開口部に薄膜トランジスタに接続された導電膜を形成し、その後、剥離層を用いて、薄膜トランジスタを有する層を、導電膜等が形成された基板へ転置することを特徴とする。 - 特許庁

At first, a thin metallic layer is deposited on the non-conductive supporting body by physical vapor deposition so as to apply the electroplating of one or more thick metallic layers on the thin metallic layer for providing an electro-magnetic wave shielding function and, preferably, an additional protecting function.例文帳に追加

電磁波シールド機能および好ましくは付加的な防護機能を備えるために、薄い金属層の上に一つ以上の厚い金属層を電気メッキできるようにすべく、まず、不導体性支持体の上に、物理蒸着により、薄い金属層が堆積される。 - 特許庁

To reduce the manufacturing cost of a piezoelectric element and increase the reliability thereof by suppressing the occurrence of cracks in a piezoelectric thin film layer 16 when forming, on a substrate 11, the piezoelectric thin film layer 16 having a coefficient of linear expansion larger than that of the substrate 11.例文帳に追加

基板１１上に、該基板１１よりも線膨張係数が大きい圧電体薄膜層１６を形成する場合に、その圧電体薄膜層１６にクラックが生じるのを抑制して、圧電素子の製造コストを低減しつつ、その信頼性を向上させる。 - 特許庁

On at least one face of a transparent plastic film base material, an ion implantation layer is formed by a plasma implantation method, and on its implantation layer, a transparent conductive thin film made of a non-crystalline oxide thin film is laminated.例文帳に追加

透明なプラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、プラズマイオン注入法によってイオン注入層が形成されており、そのイオン注入層の上には非結晶性の酸化物薄膜からなる透明導電性薄膜が積層されていることを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing a substrate for a photovoltaic cell includes a first step of forming a zinc oxide thin film layer doped with a dopant on a transparent substrate, and a second step of controlling a surface structure of the zinc oxide thin film layer by etching using hydrogen plasma.例文帳に追加

本発明は、光電池用基板の製造方法に関し、透明基板にドーパントがドーピングされた酸化亜鉛薄膜層を形成する第１ステップ、及び、水素プラズマによるエッチングを通じて前記酸化亜鉛薄膜層の表面構造を制御する第２ステップを含む。 - 特許庁

To provide a laminate having a gas barrier thin film layer such as a vapor deposition thin film layer, having high-degree gas barrier properties almost equal to those of a metal foil and stably holding the high-degree gas barrier properties even during use.例文帳に追加

蒸着薄膜層などのガスバリア性の薄膜層を有する積層体であって、金属箔並みの高度なガスバリア性を有し、しかもその高度なガスバリア性が使用中においても安定的に保持し続けるようにした積層体の提供を目的とする。 - 特許庁

A thin film layer 11 composed of black ceramic is formed on the circumferential part of the surface of the driver's cab side of a glass window attached to the window frame of an driver's cab of a vehicle, and a light shielding thin film layer 12 having a punctiform pattern which is composed of the black ceramic is formed on the surface.例文帳に追加

車両の運転室の窓枠に取り付けられる運転室用ガラスの室内側の表面に、周縁部の黒色セラミックよりなる薄膜層１１を形成するのと同時に、遮光用の黒色セラミックよりなる点状の薄膜層１２を形成する。 - 特許庁

This stencil mask is provided with: a support formed with an opening; an etching stopper layer pattern-formed on the support; and a thin film formed with a transfer penetration pattern on the etching stopper layer wherein the surface or the whole surface of the support part and the thin film is oxidized.例文帳に追加

開口部が形成された支持部と、支持部上にパターン形成されたエッチングストッパ層と、エッチングストッパ層上に転写貫通パターンが形成された薄膜層と、を備え、支持部及び薄膜層の表面もしくは全面が酸化されたことを特徴とするステンシルマスク。 - 特許庁

To provide a resist pattern causing no intermixing on an interface between an upper resist layer and a lower resist layer and thereby, having a favorable profile, and to provide a method for forming a resist pattern, and a method for patterning a thin film using the resist pattern, and a method for manufacturing a thin film magnetic head.例文帳に追加

上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

An n-type thin-film transistor is provided on a surface at a liquid-crystal side of at least one of substrates that are arranged oppositely via liquid crystal, and a layer that is subjected to hydrogen treatment or high- condensation doping is formed on the sidewall surface of a semiconductor layer in the thin-film transistor.例文帳に追加

液晶を介して対向配置される基板のうち少なくとも一方の基板の液晶側の面にｎ型薄膜トランジスタを備え、該薄膜トランジスタの半導体層の側壁面には水素処理あるいは高濃度ドープがなされた層が形成されている。 - 特許庁

The resin duplication plate comprises a rugged pattern layer made of a resin and having a rugged pattern as a master for duplication on a base material, and a silica thin film and a fluorine-containing thin film layered in this order on the rugged pattern face of the pattern layer.例文帳に追加

基材上に樹脂製で且つ複製の親となる凹凸パターンが形成された表面を有する凹凸パターン層の凹凸パターン面に、シリカ薄膜及び含フッ素薄膜がこの順序で積層されていることを特徴とする樹脂製複製版である。 - 特許庁

Furthermore, according to a second aspect, a method of manufacturing the thin-film solar cell comprises a step of etching part of a photoelectric conversion layer by anisotropic etching to create a texture during formation of the photoelectric conversion layer of a silicon thin-film solar cell.例文帳に追加

また、本発明の薄膜太陽電池の製造方法は、第２の局面によれば、シリコン薄膜太陽電池の光電変換層形成時に、異方性エッチングにより光電変換層の一部をエッチングし、テクスチャを作成する工程を備えることを特徴とする。 - 特許庁

An electromagnetic wave shield material 5 for an FPC is comprised of a substrate 1 made of a thin-film resin film of an applied dielectric body, a thin-film adhesive layer 2 and a conductive paste layer 3, which are laminated in order on one surface of a support film 6.例文帳に追加

支持体フィルム６の片面の上に、塗布された誘電体の薄膜樹脂フィルムからなる基材１、薄膜の接着剤層２、導電性ペースト層３、が順に積層されてなることを特徴とするＦＰＣ用電磁波シールド材５を提供する。 - 特許庁

The upper layer of the thin film is etched by a dry etching process by using a chlorine-based gas that substantially does not contain oxygen, and subsequently the lower layer of the thin film and the substrate are etched together by a dry etching process using a fluorine-based gas to obtain a mold for imprint.例文帳に追加

薄膜の上層を、酸素を実質的に含まない塩素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工し、続いて薄膜の下層及び基板を、弗素系ガスを用いたドライエッチング処理により一度にエッチング加工することによりインプリント用モールドを得る。 - 特許庁

The conductor layer made of the conductive material is formed on the surface of the thin film base material since the particulate material injected from a nozzle at high speed enters and diffuses into the thin film base material by breaking through a passive coated film formed on the surface of the thin film base material.例文帳に追加

ノズルから高速で噴射された微粒子材料は、薄膜基材表面に形成された不動態被膜を突き破って薄膜基材内に進入・拡散して導電性材料からなる導電体層を薄膜基材表面に形成する。 - 特許庁

The index 7 is composed of the transmissive substrate 1 having the part 3a exfoliating the first metal thin film 3 and an exposure surface 1a and the second metal thin film 5, and makes a laminated layer of the transmissive substrate 1 having the exposure surface 1a and the second metal thin film 5.例文帳に追加

指標７は第１の金属薄膜３の剥離した部分３ａと露出表面１ａを持った透過性基板１と第２の金属薄膜５とで構成し、露出表面１ａを持った透過性基板１と第２の金属薄膜５との積層構造にする。 - 特許庁

To provide a base coat coating composition which can inhibit the crack of a metal thin film, even if a firm top coat layer, which can sufficiently protect the metal thin film, is formed on the metal thin film, and heat test is performed, and to provide a composite coating film and a method for manufacturing the film.例文帳に追加

金属薄膜を十分に保護できる強固なトップコート層を金属薄膜上に形成したり、耐熱試験を行ったりしても、金属薄膜の割れを抑制できるベースコート塗料組成物、および複合塗膜とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a treatment method of a silicon thin film which can obtain a poly-silicon thin film having a uniform crystal particle size and no crack even if a metal layer is partly disposed between a substrate and an amorphous silicon thin film, and a flash lamp irradiation device for use in the method.例文帳に追加

基板とアモルファスシリコン薄膜との間に部分的に金属層が配置されていても、結晶粒径が均一でクラックのないポリシリコン薄膜を得ることができるシリコン薄膜の処理方法およびこの方法に用いられるフラッシュランプ照射装置を提供する。 - 特許庁

The thin film transistors are provided in the pixels, each thin film transistor has a semiconductor layer, a gate insulating film and two gate electrodes, the flatness imparting film is provided as the insulating film on the thin film transistors and display is performed in the OCB mode.例文帳に追加

また、画素に薄膜トランジスタが設けられ、前記薄膜トランジスタは、半導体層と、ゲート絶縁膜と、２つのゲート電極を有し、前記薄膜トランジスタ上の絶縁膜には、平坦性を付与する膜が設けられており、ＯＣＢモードで表示を行う構成をとる。 - 特許庁

Whereupon, although the sacrificial layer 2 is gradually melted from parts where breaks are cut, since the optical thin film 5 is in the state of being held between the net 8 and the substrate 1, the optical thin film 5 is pressed down by the self-weight of the substrate 1 and warpage is never generated in the optical thin film 5.例文帳に追加

すると、切れ目を入れた部分から犠牲層２が順次溶解していくが、多層光学薄膜５は、ネット８と基板１で挟まれた状態であるので、基板１の自重により押さえされており、多層光学薄膜５に反りが発生することがない。 - 特許庁

The manufacturing method of the EL element includes a process to laminate a first electrode 12 of ITO thin film or the like, an insulating thin film 13 of aluminum oxide or the like, a high dielectric layer 14 and MG metal thin film on an arbitrary solid substrate successively.例文帳に追加

本発明のＥＬ素子の製造方法は，任意の固体基板上に，ＩＴＯ薄膜等の第一電極１２，酸化アルミニウム等の絶縁薄膜１３，高誘電体層１４，ＭＧ金属薄膜を順次積層する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The wound magnetic core is formed by winding amorphous alloy thin belt and has an insulating layer made of a resin between layers of the amorphous alloy thin belt, and amorphous alloy thin belts are not mutually fixed to each other at parts of insulating layers.例文帳に追加

非晶質合金薄帯を巻き回した巻磁心であって、前記非晶質合金薄帯の層間には樹脂からなる絶縁層を有するとともに、前記絶縁層の部分で前記非晶質合金薄帯同士が固着していないことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a thin-film capacitor, which ensures adhesion between a metal thin film and its foundation insulation layer and is superior in capacitor characteristics, wherein a metal thin film is formed and a dielectric is formed by anode oxidation of it, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

金属薄膜を形成し、これを陽極酸化することにより誘電体を形成する薄膜コンデンサにおいて、金属薄膜とその下地絶縁層との密着性を確保し、かつコンデンサ特性の良好な薄膜コンデンサ及びその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for the formation of a multilayer thin film wherein a multilayer thin film product can be formed at high speed, by forming the film in such a way that the film thickness of a thin film at least on a specific layer being formed on a substrate is formed with an accuracy of 0.5 nm or less.例文帳に追加

基板上に製膜中の少なくとも特定の層の薄膜の膜厚を０．５ナノメーター以下の精度で製膜することによって多層薄膜製品の歩留りを高くすることができる多層薄膜形成方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

This is the organic electroluminescent element which has one or more of the organic thin-film layers in between a positive electrode and a negative electrode, and in which at least one organic thin-film layer is jointed to the positive electrode, the negative electrode or other organic thin-film layers via a chemical bondage.例文帳に追加

陽極と陰極との間に１またはそれ以上の有機薄膜層を有し、少なくとも１の有機薄膜層が化学結合を介して陽極、陰極または他の有機薄膜層と結合していることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 特許庁

To provide a write-once type two-layered optical disk medium of high sensitivity, high PRSNR, and high reflectance ratio which has a simple, uncomplicated layer structure whose recording layer is a thin film including Bi as a primary component (an Re layer) and enables high density recording.例文帳に追加

Ｂｉを主成分として含有する薄膜（Ｒｅ層）を記録層とする簡易で単純な層構成を有し、高密度記録が可能で、高感度、高ＰＲＳＮＲ、高反射率の追記型２層構成光記録媒体の提供。 - 特許庁

In the battery electrode provided with a current collector, and an active material layer containing an active material formed on the surface of the collector, a thin part thinner than the other part of the active material layer is formed on the active material layer.例文帳に追加

集電体と、前記集電体の表面に形成された、活物質を含む活物質層と、を有する電池用電極において、活物質層に、当該活物質層の他の部位と比較して厚さの小さい薄部を存在させる。 - 特許庁

Using an ink composition in which tertiary alcohol is added into the ink having water as a main solvent, an electronic device such as a pixel portion forming organic layer such as a hole injection layer of an organic EL panel or an active layer or the like of an organic thin film transistor.例文帳に追加

水を主溶剤とするインクに三級アルコールを添加したインク組成物を用いて有機ＥＬパネルのホール注入層等の画素部形成有機層または有機薄膜トランジスタの活性層等の電子装置を製造する。 - 特許庁

The thin layer structure on the first side is arranged on the first side, and at the same time includes a conductive layer on at least one first side that is alternately arranged with a dielectric layer 28 on at least one first side.例文帳に追加

第一の側面の薄層構造は、第一の側面に配置されると共に、少なくとも１つの第一の側面の誘電体層２８と交互に配置される少なくとも１つの第一の側面の伝導性の層を含む。 - 特許庁

The method includes forming an assembly of the initial substrate (1) with one face (25) of a silicone polymer layer (20), this face having been treated under an ultraviolet radiation, and processing the initial substrate (1) to form the thin layer (5) on the silicone polymer layer (20).例文帳に追加

シリコン型ポリマー層（２０）の一面（２５）に前記初期基板（１）を接合させ、前記一面には紫外線処理が施されており、前記初期基板（１）を薄化することで前記シリコン型ポリマー層（２０）上に薄層（５）を形成する。 - 特許庁

A thin antireflection film coating layer which is made of a different material from the outermost layer of the antireflection film and which does not exert adverse influences on the optical properties is applied on the antireflection film, and the antireflection film coating layer is subjected to the water-repellent and oil-repellent treatment.例文帳に追加

反射防止膜上に反射防止膜の最表層と異なる材料で光学的に悪影響を与えない薄膜の反射防止膜被覆層を設け、この反射防止膜被覆層に撥水撥油処理を行う。 - 特許庁

The metallic layer 71 is formed with a thin rolled metallic layer with a thickness of e.g., 0.05 mm to 0.5 mm, and the metallic particle containing resin layer 72 is formed with a mixture of metallic particles 721 and a transparent resin 722.例文帳に追加

金属層７１は、例えば０．０５ｍｍ〜０．５ｍｍ程度の薄い圧延金属板にて形成れており、金属粒子入り樹脂層７２は、金属粒子７２１と 透光性の樹脂７２２との混合物にて形成れている。 - 特許庁

The reflection preventive layer 12 includes a layer, a multi-layer film formed over the substrate 11, acquired by alternately layering inorganic thin films having different refractive indices, and provided with an ultraviolet-ray-cutting function or an infrared-ray-cutting function.例文帳に追加

反射防止層１２は、基材１１の上に形成され、屈折率の異なる無機薄膜を交互に積層して得られる多層膜であるとともに、紫外線カット機能または赤外線カット機能を備える層を含んでいる。 - 特許庁

The organic thin-film solar cell includes a gas barrier film substrate, an organic power generation laminate including at least a positive electrode, an organic photoelectric conversion layer, a metal oxide layer, and a negative electrode including metal nobler than iron in this order, and a first gas barrier layer.例文帳に追加

ガスバリアフィルム基板と、少なくとも、正極、有機光電変換層、金属酸化物層、及び鉄よりも貴な金属を含む負極をこの順序で含む有機発電積層体と、第１のガスバリア層とを備えている。 - 特許庁

When the drift layer 3 is formed, since the substrate flattening is performed so that the p-type epitaxial growth layer 23 may remain on the substrate front surface, the drift layer 3 does not become thin too much, and there is no possibility that the breakdown voltage may become low.例文帳に追加

ドリフト層３を形成する際に、基板表面にｐ型エピタキシャル成長層２３が残存するように基板平坦化処理を行うため、ドリフト層３が薄くなりすぎることがなく、耐圧が低くなるおそれがない。 - 特許庁

The recording head has a lower part magnetic pole layer and an upper part magnetic pole layer 13 which include magnetic pole parts and face each other across a recording gap layer 12, and a thin film coil 10 arranged between them in an insulted state.例文帳に追加

記録ヘッドは、記録ギャップ層１２を介して互いに対向する磁極部分を含む下部磁極層および上部磁極層１３と、これらの間に絶縁された状態で配設された薄膜コイル１０とを有している。 - 特許庁