This method accesses design contents of a circuit to confirm critical paths in design.例文帳に追加

本方法は回路の設計内容にアクセスし、設計におけるクリティカルパスを確認する。 - 特許庁

Accurate representation of peak flow may be critical to a design study for a flood control structure.例文帳に追加

正確なピーク流量の表記は，洪水防止構造物の設計研究に欠かせないかもしれない。 - 英語論文検索例文集

Accurate representation of peak flow may be critical to a design study for a flood control structure.例文帳に追加

正確なピーク流量の表記は，洪水防止構造物の設計研究に欠かせないかもしれない。 - 英語論文検索例文集

Accurate representation of peak flow may be critical to a design study for a flood control structure.例文帳に追加

正確なピーク流量の表記は洪水防止構造物の設計研究に欠かせないかもしれない。 - 英語論文検索例文集

CRITICAL PATH ESTIMATION PROGRAM, ESTIMATION DEVICE, ESTIMATION METHOD, AND INTEGRATED CIRCUIT DESIGN PROGRAM例文帳に追加

クリティカルパス推定プログラム、推定装置、推定方法、および集積回路設計プログラム。 - 特許庁

THERMAL CRITICAL OUTPUT CORRELATION EXPRESSION FORMATION METHOD AND FUEL ASSEMBLY DESIGN METHOD例文帳に追加

熱的限界出力相関式作成方法および燃料集合体設計方法 - 特許庁

To provide an automatic critical path generator, with which time for extracting a critical path can be shortened, the critical path can be easily generated and time for design can be shortened.例文帳に追加

クリティカルパスの抽出時間を短縮することができると共にクリティカルパスの生成を容易に行うことができ、設計時間の短縮を図ることができるクリティカルパス自動生成装置を得る。 - 特許庁

Once an optimum separation is calculated, it is incorporated into the design rule to optimize the mask layout for improved ILS throughout the mask, including critical and non-critical parts of the mask.例文帳に追加

計算された最適な離間距離は設計ルール内に取り込まれ、マスクレイアウトは最適化され、マスクのクリティカル及び非クリティカル部分を含むマスク全体にわたってＩＬＳが改善される。 - 特許庁

Further, critical interconnect lines which are affected by the crossing lines in the preliminary design are identified (22) and a transmission line model is defined to represent each critical interconnect line (23).例文帳に追加

さらに、その基本設計においてクロス・ラインの影響を受けるクリティカル相互接続ラインがあればそれを識別２２し、各クリティカル相互接続ラインを表す伝送ライン・モデルを定義２３する。 - 特許庁

It is critical for a development institution like the Bank to reflect the views of low income countries in the design and implementation of its policies and projects.発音を聞く 例文帳に追加

開発機関である世銀においては、低所得国の意見が政策やプロジェクトに反映されることがとりわけ重要です。 - 財務省

Pitch analysis or interval analysis is performed to identify the distribution of a critical pitch in design.例文帳に追加

ピッチ分析またはインターバル分析が実行されてデザインにおける臨界ピッチの分布を識別する。 - 特許庁

METHOD, APPARATUS AND COMPUTER PROGRAM FOR DISPLAYING AND MODIFYING CRITICAL AREA OF INTEGRATED CIRCUIT DESIGN例文帳に追加

集積回路設計のクリティカル・エリアを表示し、変更するための方法、装置、及びコンピュータ・プログラム - 特許庁

At that localized level, the design rules are adjusted appropriately (207) to capture critical aspects from a productivity standpoint (209).例文帳に追加

その局所化したレベルにおいて、設計ルールをしかるべく調節２０７し、生産性の観点から重要な側面を取り込む２０９。 - 特許庁

To provide a design method for a scan test circuit allowing the inspection of a critical path of a semiconductor integrated circuit by a scan test.例文帳に追加

スキャンテストによって半導体集積回路のクリティカルパスの検査を可能にするスキャンテスト回路の設計方法を提供する。 - 特許庁

At this time, the critical design of the hub 4a becomes possible to solve the problem since strength of the mounting flange 8a is not lowered.例文帳に追加

この際に、この取付フランジ８ａの強度が低下しない為、上記ハブ４ａの限界設計が可能となり、上記課題を解決できる。 - 特許庁

The studded trailing shield design maintains critical spacing between the trailing shield 329 and the writing magnetic pole 310 and also maintains critical spacing between the studded trailing shield and a connecting structure 316, even in a head design having reading and writing elements that are not aligned with one another.例文帳に追加

スタッド付きトレーリングシールド設計は、互いに並んでいない読み取り／書き込み素子を有するヘッド設計においても、トレーリングシールド３２９と書き込み磁極３１０との間の重要な間隔を維持し、またスタッド付きトレーリングシールド接続構造３１６の間の重要な間隔も維持する。 - 特許庁

A layout design of the integrated circuit comprising circuit components and parameters thereof is then defined by using the preliminary design and the transmission line model for each critical interconnect line (24).例文帳に追加

次に、回路コンポーネントおよびそのパラメータを含む、集積回路のレイアウト設計を、基本設計および各クリティカル相互接続ラインの伝送ライン・モデルを使用して定義２４する。 - 特許庁

To take account of heat capacity of each of components disposed on a board, and information on the amount of thermal distortion and critical temperature generated in terminal parts of the components, in the stage of circuit design/board design.例文帳に追加

回路設計・基板設計の段階において基板に配置される部品の各々の熱容量、部品の端子部に発生する熱ひずみ量及び限界温度情報を考慮する。 - 特許庁

The design step preferably comprises a step for determining a scaling factor function for relating the critical dimensions and the shaft of a pattern composition member with the necessary critical dimensions of the circuit composition member, while taking account of the fact that the scaling factor function is a function of the shift.例文帳に追加

好適には、設計ステップは、スケーリング係数関数が、またシフトの関数であることを考慮に入れながら、パターン構成部材の臨界寸法とシフトを回路構成部材の必要な臨界寸法へ関連づける、スケーリング係数関数を決定するステップを含むことが好ましい。 - 特許庁

A pattern is extracted by performing registration p1 of a pattern image with respect to a critical portion of the reference mask and registration p2 of a pattern in a critical portion of design data and applying extraction p4 of the critical pattern portion to a pattern image acquired by acquisition p3 of the pattern image of an inspection target mask.例文帳に追加

基準マスクのクリティカル部分についてのパターン画像の登録Ｐ１と、設計データのクリティカル部分のパターンの登録ｐ２を行い、検査対象マスクのパターン画像の取得ｐ３によって得たパターン画像に対してクリティカルパターン部の抽出処理ｐ４を施すことでパターンを抽出する。 - 特許庁

To obtain a method, a system and a computer program for providing information for correlating the edges of a layout shape to a critical area of design and defects so that a designer can improve the sensitivity of design to various types of faults.例文帳に追加

設計者が種々のタイプの障害に対する設計の感受性を改善することを可能にするように、設計のクリティカル・エリアと、欠陥に対してレイアウト形状の辺を関係付ける情報を提供する方法、システム、及びコンピュータ・プログラムを得ること。 - 特許庁

A critical pitch relative to an IC design is specified, and the optimal inner radial coordinate σ_inner and the optimal outer radial coordinate σ_outer of an annular illumination light source are determined so that an image projected through a mask is optimized throughout the pitch range in a design layout.例文帳に追加

ＩＣ設計について臨界ピッチを特定し、マスクを通して投影された像が設計レイアウト内のピッチの全範囲に関して最適化されるように輪帯照明光源の最適な内側半径座標σ_innerおよび外側半径座標σ_outerを決定する。 - 特許庁

Although this was not part of the original experimental design, the response of the process to an original load is critical in determining its utility for this application.例文帳に追加

これは本来の実験計画法の一部ではなかったけれども，本来の負荷量に対するプロセスの反応は，このアプリケーションではその利用を決定することにおいてきわめて重要である。 - 英語論文検索例文集

Although this was not part of the original experimental design, the response of the process to an original load is critical in determining its utility for this application.例文帳に追加

これは本来の実験計画法の一部ではなかったけれども，本来の負荷量に対するプロセスの反応は，このアプリケーションではその利用を決定することにおいてきわめて重要である。 - 英語論文検索例文集

Although this was not part of the original experimental design, the response of the process to an original load is critical in determining its utility for this application.例文帳に追加

これはオリジナルの実験計画法の一部ではなかったけれども，こオリジナルの負荷量に対するプロセスの反応は，このアプリケーションではその利用を決定することにおいてきわめて重要である。 - 英語論文検索例文集

Reticles which may be used in the exposure process are judged depending on accuracy of the relevant reticle, accuracy of the reticle used for exposure of the under-layer, and critical accuracy required for the design standard.例文帳に追加

露光時に使用可能なレチクルを、当該レチクルの精度と、下地層の露光に使われたレチクルの精度と、設計基準から要求されるクリティカルな精度とから判定する。 - 特許庁

To provide a method for designing an alternating phase shift/mask which projects an image of an integrated circuit design having a plurality of essentially parallel segments of critical width.例文帳に追加

複数の本質的に平行でクリティカルな幅のセグメントを有する集積回路設計の像を投影する交互位相シフト・マスクを設計する方法を提供すること。 - 特許庁

In an edging process of semiconductor manufacture, a monitor is installed at a place which is yield-critical in terms of circuit based upon circuit-dependent information obtained in the design stage.例文帳に追加

半導体装置製造のエッジング工程において、設計段階で得られる回路依存の情報をもとに、回路的に歩留クリティカルな箇所にモニタを設置する。 - 特許庁

To provide critical safety design program for a transportation cask for spent fuel and a storage rack for the spent fuel adopting a rational burn-up credit.例文帳に追加

合理的な燃焼度クレジットを採用した、使用済燃料の輸送キャスクおよび使用済燃料の貯蔵ラックの臨界安全設計プログラムを提供する。 - 特許庁

By such a process, the design intent information can be used to optimize processing during IC manufacturing to achieve the optimization of critical characteristics intended by a designer.例文帳に追加

その様な物として、設計者の意図した重要な特性の最適化を達成するため設計意図情報を使ってＩＣ製造中の処理を最適化できる。 - 特許庁

To provide a rolling bearing unit for supporting a wheel capable of reducing or eliminating rotational unbalance of a hub 4a while enabling a critical design of the hub 4a for weight reduction.例文帳に追加

軽量化を図る為のハブ４ａの限界設計を可能にしつつ、このハブ４ａの回転アンバランスを低減若しくは解消できる車輪支持用転がり軸受ユニットを提供する。 - 特許庁

The method, the apparatus and the computer program for visually indicating interaction between one or more edges of a design that contribute a pattern of a determined critical area are provided.例文帳に追加

定められたクリティカル・エリアのパターンに寄与する設計の１つ又は複数の辺間の相互作用を視覚的に表すための方法、装置、及びコンピュータ・プログラムが提供される。 - 特許庁

To provide a method simultaneously drawing and displaying a plurality of paths in a state allowing easy identification, in a critical path detected from design data of an LSI, and to provide a system therefor.例文帳に追加

ＬＳＩのデザインデータから検出されたクリティカル・パスに関して、識別が容易な態様で複数のパスを同時に描画し表示する方法およびそのシステムを提供する。 - 特許庁

During this design process, an environment terminal is provided every transmission line model representing critical interconnect lines affected by a crossing line.例文帳に追加

この設計プロセス中に、クロス・ラインの影響を受けるクリティカル相互接続ラインを表す各伝送ライン・モデルごとに環境ターミナルを提供する。 - 特許庁

To provide a design support program that designs a reliable semiconductor integrated circuit device in a short period by modifying routing layouts in an early stage in terms of the routing length of predetermined signals such as critical signals.例文帳に追加

クリティカルな信号等の所定の信号の配線長に着目して配線レイアウトを早い段階で変更することにより、信頼性の高い半導体集積回路装置を短期間で設計するための設計支援プログラム等を提供すること。 - 特許庁

According to certain aspects, the present invention enables full chip pattern coverage while lowering the computation cost by intelligently selecting a small set 306 of critical design patterns from the full set 302 of clips to be used in light source and mask optimization.例文帳に追加

いくつかの態様によれば、本発明は、フルチップパターンのカバーを可能にし、一方、光源およびマスク最適化で使用しようとするクリップの完全な集合３０２から重要な設計パターンの小さな集合３０６をインテリジェントに選択することによって、計算コストを低減する。 - 特許庁

To optimize the area of a function module to be mounted on an LSI chip by using the number of critical paths between function modules as constraint conditions in an LSI function module arrangement device to be used in an LSI mounting design.例文帳に追加

LSI実装設計において使用される、LSI機能モジュール配置装置及びLSI機能モジュール配置装置であって、機能モジュール間のクリティカルパス数を制約条件としてLSIチップ上に実装される機能モジュール面積を最適化する装置および方法を提供することにある。 - 特許庁

A critical area in which the yield can be estimated is defined as an evaluation cost, the evaluation cost is calculated by giving the predetermined dust distribution data to a plurality of layout data designed with the predetermined design rule to change the wiring width and wiring interval within the predetermined range, and the wiring width and the wiring interval which result in the minimum evaluation cost is determined as the design rule.例文帳に追加

歩留りの予測が可能なクリティカルエリアを評価コストと定義し、所定の設計ルールで設計された複数のレイアウトデータに対して所定のダスト分布データを与え配線幅と配線間隔を定められた範囲内で変化させて評価コストを算出し、その中から最小の評価コストとなる配線幅と配線間隔を設計ルールとするように構成する。 - 特許庁

Instead of ensuring excess stock or multiple supply routes, this method is to maintain and strengthen the line recoverability by ensuring portability of design information and by preparing and conducting training at peace time to allow prompt transfer of critical design information to other routes in the event of emergency without using several product supply routes.例文帳に追加

これは、過剰在庫や重複した供給ルートを確保するのではなく、製品の供給を無理に複数ラインにせず、緊急時にクリティカルな設計情報を他のラインに迅速に移転できるよう、設計情報の可搬性（ポータビリティ）を確保し、平時より準備・訓練を行うことで、ライン復旧能力を維持強化しておく手法である。 - 経済産業省

In this automatic layout method of LSI used in the layout design of the LSI, for the layout of initial arrangement (step S103), by extracting a critical path (step S104), inserting a buffer to the extracted critical path (step S106) and then conducting timing-driven for improved arrangement (step S107), a layout result without delay violation paths or with few delay violation paths is obtained.例文帳に追加

ＬＳＩのレイアウト設計において用いられるＬＳＩの自動レイアウト方法において、初期配置のレイアウト（ステップＳ１０３）に対して、クリティカルパスを抽出し（ステップＳ１０４）、この抽出されたクリティカルパスにバッファを挿入した後に（ステップＳ１０６）、タイミングドリブン改良配置を行うことにより（ステップＳ１０７）、遅延違反パスが無いか、若しくは遅延違反パスが少ないレイアウト結果を得る。 - 特許庁

In this initiative, Kyoto Institute of Technology, Kyoto Shisaku Net (group of small and medium-size processing companies) and product developing companies that represent the Keihan region collaborate closely with each other in developing a follow-up type internship program by organically combining problem solving, practical design training, internship and lectures. This internship program would enable students to have first-hand experience of the actual monodzukuri process leading up to the realization of their own product design in the form of a finished product, thereby fostering personnel with creativity and a critical mind and capable of looking at the monodzukuri process from a multi-faceted, broad perspective.例文帳に追加

本取組は、京都工芸繊維大学、京都試作ネット(中小加工企業群)、京阪地区を代表する製品開発企業、の三者が緊密に連携し、問題解決型デザイン実習とインターンシップおよび講義を有機的に結合することによって、学生が自ら企画設計した「マイプロダクト」が形になるまでのリアルなものづくりプロセスを追跡的に実体験する「川下り方式インターンシッププログラム」を開発し、創造性と批判的思考能力を持ち、ものづくりプロセスを多面的・俯瞰的に見通す力を持つ人材を育成することを目指している。 - 経済産業省

As mentioned above, in regards to the above difference, both upper and lower thickness limits of the polyethylene resin layer in the claimed invention are only an appropriately defined number that represents a matter of design in the earlier application invention to be appropriately selected by a person skilled in the art. And, as any specific technical meaning or critical importance cannot be found in the definition of the thickness, the claimed invention is substantially identical with the invention stated in the earlier application description.発音を聞く 例文帳に追加

以上によれば、上記相違点について、請求項に係る発明におけるポリエチレン樹脂層の厚さの限定は、その上限、下限とも、先行技術が実施者の適宜の選択にゆだねていた設計的事項について適宜数値を特定してみたものにすぎず、その限定に格別の技術的意義ないし臨界的意義を見いだすことができないから、請求項に係る発明は、先行技術と実質的に同一である。 - 特許庁