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strut aboutとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 肩をそびやかして歩く
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「strut about」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
The mechanism 8 is attached, so as to be moved vertically along the strut 7 and integrally rotatable about the center line A with the strut 7.例文帳に追加
反転受渡し機構８は、支柱７に沿って上下動可能に取り付けられていると共に、中心線Ａの周りに支柱７と一体に回転可能とされている。 - 特許庁
The lower snowbreaking group 7, the intermediate snowbreaking plate group 8 and the upper snowbreaking plate group 9 are set to a longitudinal width about 1/3 each of the strut 3, thereby reducing the rolling moment applied to the strut 3.例文帳に追加
そして、下部防雪板群７、中間部防雪板群８及び上部防雪板群９は支柱３の約３分の１ずつの縦幅に設定してあり、支柱３に掛かる転動モーメントを低減してある。 - 特許庁
A length L1 of the feeding part skirt 30 is set to about λ/4, and an interval L2 between the lower end of the feeding part skirt 30 and the upper end of the cover strut 11 is set to about λ/4 or more.例文帳に追加
給電部スカート３０の長さＬ１を約λ／４、給電部スカート３０の下端部とカバー支柱１１の上端部との間隔Ｌ２を約λ／４以上に設定する。 - 特許庁
The three struts 11 are placed at about the same intervals in the width direction of the duct, and at required intervals in the direction of the flow of the fluid, so that each strut is placed nearly at a part of the vertex angle of a regular triangle.例文帳に追加
三本のストラット１１を、ダクトの幅方向へ略等間隔で且つ流体の流れ方向へ所要間隔をあけて配置し各ストラットが略正三角形状の角頂角部分に位置するように構成する。 - 特許庁
A two-piece airfoil includes a strut 12 and a flap 14, each of which is mounted to articulate about a common, radially oriented axis 16.例文帳に追加
本発明の例示的な実施形態では、このことは、その各々が共通の半径方向に向いた軸線（１６）の周りで関節動作するように取付けられたストラット（１２）及びフラップ（１４）を含む２部品型翼形部を設けることによって達成される。 - 特許庁
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strut about
「strut about」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
For this resolver stator structure, the rear (2) of each annular resolver cover (1) is provided with a plurality of cover struts (3) and weld receivers (4) symmetrically about an axis, and the chip of each cover strut (3) is welded at the weld receiver, and each annular resolver cover (1) is in the same form.例文帳に追加
本発明によるレゾルバステータ構造は、各輪状レゾルバカバー(1)の裏面(2)には、軸対象に複数のカバー支柱(3)及び溶着受け(4)が設けられ、各カバー支柱(3)の先端は溶着受けで溶着され、各輪状レゾルバカバー(1)は同一形状である構成である。 - 特許庁
A stencil or a scattering-material mask, used together with a charged particle beam lithography as a projection electron beam lithography is provided with a film layer made of a material, having Young's modulus of at least about 400 GPa and provided with a supporting strut for supporting the surface of the film.例文帳に追加
投影電子ビームリソグラフィなど荷電粒子ビームリソグラフィと共に使用するステンシルまたは散乱体マスクは、少なくとも約４００ＧＰａのヤング率を有する材料の膜層と、膜の表面を支持する支持ストラットとを備える。 - 特許庁
A swing body 13 having a circular or fan-like outer shape having a horizontal shaft 12 as the center is pivotally fixed to the single horizontal shaft 12 supported in a prescribed height from the ground by a strut 10 so as to be rockable about the horizontal shaft 12.例文帳に追加
支柱１０により地上から所定の高さに支持された単一の水平軸１２に、この水平軸１２を中心とする円形状または扇型の外形を備えたブランコ本体１３を、この水平軸１２を中心として揺動可能に枢着する。 - 特許庁
A strut of a dry film 10 almost about 50 or 75 μm thick is arranged between the IC chip 1 and the substrate 4 in order to hold the IC chip 1 at a prescribed height.例文帳に追加
一方の面にＩＣチップ１と接続する配線パターン６が形成された基板４にＩＣチップ１がフリップチップ（ＦＣ）接続され、ＩＣチップ１と基板４との間にアンダーフィル樹脂８を充填・固着し、配線パターン６に沿って半田の流出を防止するソルダーレジスト７を有し、ＩＣチップ１と基板４との間にＩＣチップ１を所定の高さに保持するために厚みが略５０μｍ又は略７５μｍ程度のドライフィルム１０の支柱を配設する。 - 特許庁
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