「あいごま」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

Ｓｉ基板１３に回路素子形成領域１４と当該回路素子形成領域を覆う表面保護膜１６が形成されている。例文帳に追加

The circuit-element forming region 14 and a surface protecting film 16 covering the circuit-element forming region are formed in a Si substrate 13. - 特許庁

一方、ＬＣＤ部１０７及び表示装置２０に表示される画像データが動画データである場合、その画像データは最後まで表示される。例文帳に追加

Then, when the image data displayed in the LCD section 107 and the display device 20 represent dynamic image data, the image data are displayed to the end. - 特許庁

ＳｉＯ_２膜の凹凸パターンが形成されている面上に反射膜７、記録膜６及び保護膜５を形成する。例文帳に追加

A reflection film 7, a recording film 6 and a protective film 5 are formed on the surface formed with the rugged patterns of the SiO_2 film. - 特許庁

式（Ｉ）によって表現された小グループからなる環状イミノカルボン酸のオリゴマー及びポリマー。例文帳に追加

The artificial polypeptide-like molecules are oligomers and polymers of cyclic imino carboxylic acids comprising small groups represented by formulae (I). - 特許庁

事前の組立の間、およびトラス上への最終的な搭載後まで、くし板（５）は２つのくし板キャリア（６）間の接続要素として機能する。例文帳に追加

The comb plate (5) functions as a connecting element between the two comb plate carriers (6) during preassembling until the comb plate is finally mounted on the truss. - 特許庁

また、多環芳香族オリゴマーを含むことにより、常温で貯蔵した場合であっても粘度が上昇し難く、貯蔵安定性が良好となる。例文帳に追加

Since the polycyclic aromatic oligomer is contained, the sol has a viscosity hard to increase even when stored at normal temperature and exhibits a good storage stability. - 特許庁

高屈折率層１２はＴａ_２Ｏ_５、ＨｆＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、又はＺｒＯ_２で形成され、かつ、低屈折率層１３はＳｉＯ_２で形成されている。例文帳に追加

The high refractive index layer 12 is formed of one selected from Ta_2O_5, HfO_2, Nb_2O_5 and ZrO_2 and the low refractive index layer 13 is formed of SiO_2. - 特許庁

固体レーザ２の作動温度Ｔが、制御手段４により４０℃から５５℃までの間で調節されている。例文帳に追加

The operating temperature T of the solid state laser 2 is adjusted by the controlling means 4 to between 40°C and 55°C. - 特許庁

マウスと電子機器１００ａ間の接続確立後、マウスから電子機器１００ａへ操作可能な電子機器が通知される。例文帳に追加

Operable electronic devices are notified from a mouse to an electronic device 100a after establishing connection between the mouse and the device 100a. - 特許庁

反射膜２８は、屈折率が異なるＳｉＯ_２膜２８ａとＴａ_２Ｏ_５膜２８ｂの対を２対以上積層したものである。例文帳に追加

The reflective film 28 is formed by laminating two or more pairs of SiO_2 films 28a and Ta_2O_5 films 28b differing in refractive index. - 特許庁

ＩＣチップ１１１上にも同様に，パッド１１２，表面保護膜１１３，１１４，導体１１５，導体１１６，接続材料１１７を設ける。例文帳に追加

Likewise, die pads 112, surface protective films 113, 114, conductors 115, 116 and a connection material 117 are installed on the IC chip 111. - 特許庁

所定間隔Ｈ１で並列配置されたヒューズ２ａ〜２ｃの間の保護膜３にスリット４ａ、４ｂを設ける。例文帳に追加

The protective film 3 between the fuses 2a-2c arranged in parallel with a predetermined interval H1 are provided with slits 4a, 4b. - 特許庁

使用されている言語が第１言語又は第２言語である場合、電子メールの本文を記録用紙にプリントアウトする（Ｓ１９）。例文帳に追加

If the language used is the first language or second language, the text of the email is printed out on recording paper (S19). - 特許庁

地図表示中に、スクロール操作などにより地図表示の中心位置が移動した場合でも、迅速に周辺の施設のロゴマークを表示する。例文帳に追加

To quickly display logo marks of surrounding facilities even when the center position of a displayed map moves by a scroll operation or the like while the map is displayed. - 特許庁

電極保護膜として用いた場合に電極の放電開始電圧を低くでき、且つ、製造コストが低い酸化マグネシウム膜を提供すること。例文帳に追加

To provide a magnesium oxide film capable of making discharge starting voltage of an electrode low in case of use as an electrode protection film, and of reduced manufacturing cost. - 特許庁

ＩＴＯ層は、光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．８５〜２．３５、膜厚が５〜５０ｎｍである。例文帳に追加

The ITO layer has a refractive index in the wavelength 400 nm of light being 1.85-2.35 and a film thickness of 5-50 nm. - 特許庁

カッタロール７とアンビルロール６との間に供給されたワークを回転するカッタロール５又はアンビルロール６によって加工する。例文帳に追加

A workpiece supplied between the cutter roll 7 and the anvil roll 6 is machined by the rotating cutter roll 5 or anvil roll 6. - 特許庁

第１保護膜２５が表面電極１７およびゲート金属配線１８の間に配置されると共に、ゲート金属配線１８を覆っている。例文帳に追加

In the semiconductor device, a first protective film 25 is disposed between a surface electrode 17 and a gate metal wiring 18, and covers the gate metal wiring 18. - 特許庁

この製造方法は、特性チェック工程（Ｓ１６）と、保護膜形成工程（Ｓ１８）と、Ｎｉ膜形成工程（Ｓ２２）と、ダイシング工程（Ｓ２４）を備える。例文帳に追加

A manufacturing method has a characteristic check step (S16), a protection film forming step (S18), an Ni film forming step (S22) and a dicing step (S24). - 特許庁

保護膜形成工程（Ｓ１８）は、上記の特性チェック工程後に、ダイシング領域上にＳｉＯ_２膜を形成する工程である。例文帳に追加

The protection film forming step (S18) is a step of forming SiO_2 film on the dicing region after the characteristic check step. - 特許庁

複数の拡大レンズ４３からフライアイレンズ４５までの光路を囲んで反射部材５０を設ける。例文帳に追加

In the proximity exposure device, a reflection member 50 is arranged to surround an optical path ranging from a plurality of magnifying lenses 43 to a fly-eye lens 45. - 特許庁

スロット１２の内周面と磁性体２１表面の保護膜２２との間に樹脂膜３１を形成する。例文帳に追加

A resin film 31 is formed between the inner circumferential surface of the slot 12 and the protective film 22 on the surface of the magnetic body 21. - 特許庁

保護膜を形成するために塗布される液状樹脂の飛散等に起因する装置本体の不具合を防止すること。例文帳に追加

To prevent deficiencies of a laser beam machining apparatus due to spattering or the like of liquid resin to be applied for forming a protective film. - 特許庁

よって光電変換素子１２と偏光フィルタ１６との間に薄膜状の保護膜１３が介在することになる。例文帳に追加

Consequently, the thin-film shaped protective film 13 is interposed between the optoelectric transducer 12 and the polarization filter 16. - 特許庁

連続演出の実行中において遊技者が演出キャンセルとなる操作を行った場合でも、連続演出が最後まで継続される。例文帳に追加

Even when a player performs an operation to cancel the performance during the execution of the continuous performance, the continuous performance is continued to the last. - 特許庁

マスク面体にアイピースを取り付けるのに特殊な工具等を必要とせず、保守整備及び組立が簡単な防護マスクを提供すること。例文帳に追加

To provide a protective mask in which no special tool or the like is required to attach an eyepiece to a mask face piece, and maintenance and assembling are simple. - 特許庁

高抵抗保護膜１８ｇは、（Ｔａ_１−ｘＳｉ_ｘ）_１−ｙＯ_ｙ（但し、ｘ＝０．３０〜０．４５、ｙ＝０．６８〜０．７０）からなる。例文帳に追加

The high-resistance protection film 18g is composed of the expression of (Ta_1-xSi_x)_1-yO_y (here, x=0.30-0.45, and y=0.68-0.70). - 特許庁

ＺｎＳ母体中に分散して光記録媒体保護膜形成用焼結体ターゲットを製造するためのＳｉＯ_2粉末の改良である。例文帳に追加

The method is to improve the SiO_2 powder for manufacturing the sintered compact target for forming the optical recording medium protective film by dispersing an SiO_2 powder in a ZnS matrix. - 特許庁

Ｓｉ基板１の上に層間絶縁膜３、配線層間膜４１、４２および４３、並びに、保護膜８を形成する。例文帳に追加

An interlayer insulating film 3, wiring interlayer films 41, 42, 43, and a protecting film 8 are formed on an Si substrate 1. - 特許庁

この場合、送信側の１９０ＭＨｚという中間周波数を＋／−５または＋／−１０ＭＨｚだけずらすことができる。例文帳に追加

In this case, the intermediate frequency of 190 MHz of the transmission side can be deviated by ±5 or by ±10 MHz. - 特許庁

また、この不良判定がなされない場合には、第２の定電流定電圧充電工程により最後まで充電を行う。例文帳に追加

Further, if this defect determination is not made, the charging is carried out up to the final stage in the second constant current and constant voltage charging process. - 特許庁

図８（ｃ）のように、１３５°から２２５°までの場合には、同期信号６１と２分周ＣＬＫ４７の異方向エッジ同士を同期させる。例文帳に追加

As shown in the figure (c), in the case that it is from 135° to 225°, the different direction edges of the synchronizing signals 61 and the 2 frequency division CLK 47 are synchronized with each other. - 特許庁

この場合、シリコン基板１の下面には、該下面をクラック等から保護するために、下層保護膜１８が設けられている。例文帳に追加

An under layer protection film 18 is provided therein, on a lower face of the silicon substrate 1, to protect the lower face from a crack or the like. - 特許庁

ランプヒータＬＨが保護膜１０で保護されているので、溶液槽１２から溶液ＳＯＬが漏出した場合でも引火・爆発の危険はない。例文帳に追加

Since the lamp heater LH is protected with the protective film 10, so that even when the solution SOL leaks from the solution tank 12, there is no danger of flashing and explosion. - 特許庁

実施例では、中段ライン５３での成立ラインデータの発生割合が高いことから、「設定値５又は６」と推測できる。例文帳に追加

In an embodiment, since the generation ratio of the establishment line data on a middle stage line 53 is high, "setting value 5 or 6" is predicted. - 特許庁

ベルトを最後まで引き締める場合でも、そのための操作力を軽減し、かつ、単線などの小径の被結束物でもしっかりとクランプできるようにする。例文帳に追加

To reduce operating force in fastening up a belt and to tightly clamp even a bound object of small diameter such as single wires. - 特許庁

不純物拡散後の保護膜の剥離が容易であり、より高い保護効果を有するＳｉＯ_２系の膜形成組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide an SiO_2-based film formation composition that is easy to peel a protection film after the diffusion of impurities and has superior protection effect. - 特許庁

この場合、シリコン基板１の下面には、該下面をクラック等から保護するために、下層保護膜１７が設けられている。例文帳に追加

In this case, on the lower surface of the silicon board 1, a lower layer protective film 17 is mounted to protect the lower surface from the crack or the like. - 特許庁

ＳＯＩ基板７の表面に金属膜８を形成し、金属膜８の表面に保護膜１２を形成する。例文帳に追加

A metal film 8 is formed on the surface of a SOI substrate 7, and a protection film 12 is formed on the surface of the metal film 8. - 特許庁

Ｓｉ基板上に発熱抵抗体部３１、層間絶縁膜３６、金属配線層３８、表面保護膜４１をこの順で形成する。例文帳に追加

A heating resistor section 31, an interbedded insulation film 36, a metallic pattern layer 38 and a surface protection film 41 are formed on an Si substrate in the above order. - 特許庁

ファイル生成システム１００においてサーバ５、まず、利用者ＩＤに基づいて、利用者に関する属性情報を抽出する。例文帳に追加

In a file generation system 100, a server 5 first extracts attribute information about a user according to a user ID. - 特許庁

ＣＴモードでのメダルの総払い出し枚数が２３９枚〜２４３枚の範囲内である場合には１５枚役図柄の蹴飛ばし制御を行う。例文帳に追加

When the number of total putout tokens in the CT mode is within the range from 239 to 243, this game machine executes a skipping control of 15-role symbols. - 特許庁

したがって、乗場呼び登録灯１６又は１７は乗場呼びボタン５又は６を押している間だけ点灯する。例文帳に追加

Accordingly, a floor selection registration light 16 or 17 is lighted only while the floor selector button 5 or 6 is being pressed. - 特許庁

そして、固形のＳｉやＳｒ等を加熱して気化し、ＥＵＶ集光鏡３の表面に保護膜を形成する。例文帳に追加

Si, Sr or the like as a solid form is heated and vaporized, and a protective film is formed on the surface of the EUV-light condensing mirror 3. - 特許庁

測定終了後、窓板ホルダ２３を引き上げ、退避していたヘッド１４を窓板２２と試料滴下台１１の間に移動する。例文帳に追加

After the measurement is completed, a window plate holder 23 is raised, and a retreated head 14 is moved between the window plate 22 and the sample holding platform 11. - 特許庁