「ふじまめ」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

藤原麻呂の長男・藤原浜成を産んだ稲葉国造気豆女と同一人物と言う説が有力。例文帳に追加

It is a likely opinion that she was identical with 稲葉国造気豆女 (Inabano Kuninomiyatsuko kimame no musume), who gave birth to FUJIWARA no Hamanari, the first son of FUJIWARA no Maro.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

中華料理でも類似の豆腐を油で揚げた「炸豆腐」(ジャードウフ、ピンイン)、「豆腐泡」(ドウフパオ、)、「豆卜」(ドウブー、)などと呼ぶものを食材として利用している。例文帳に追加

Chinese dishes also use similar deep-fried tofu, including dzha dou fu, doufu pao, and dou bu.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

また、キャラクターの性格を用いるもの、既に1-3コマ目が充分に不条理であることを再認識させるものなど、様々なパターンがある。例文帳に追加

There are various other patterns; some deal with the personalities of characters, whereas others remind readers of the fact that the first three frames are already absurd.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

焙煎コーヒー豆量が多い場合や、焙煎が深いコーヒー豆を使用した場合でも、乳成分の浮上が抑制され、長期間保存しても凝集が起こらないコーヒー飲料を提供する。例文帳に追加

To provide coffee beverage suppressed in flotation of milk components even when a quantity of roasted coffee beans is large or coffee beans with deep roasting are used, and causing no cohesion even preserving for a long period. - 特許庁

枝豆等根部を掘り上げて後部にフォークを有した掘り上げ体と、掘り上げ体の揺動手段と、掘り上げ浮上した枝豆等の茎部を挾持して抜き上げる一対の搬送体を傾斜させて設けるものである。例文帳に追加

Under this digging and pulling out conveyer, the root soil remover is provided having beating rods arranged in parallel with the conveying direction. - 特許庁

植物生薬であり、タデ科のダイオウの抽出物及び／又はマメ科エンジュ属に属する植物で、別名黄藤（キフジ）とも呼ばれるエンジュ（Ｓｏｐｈｏｒａ ｊａｐｏｎｉｃａ）の抽出物を有効成分として含有する中性エンドペプチダーゼ阻害剤。例文帳に追加

This neutral endopeptidase inhibitor which is a plant galenical, includes an extract of rhubarb of Polygonaceae and/or Sophora japonica which is a plant belonging to the genus Sophora of Leguminosae and also called as yellow wisteria as an alias, as an active ingredient. - 特許庁

キシロオリゴ糖、ビタミンミックス粉末、ビーフジペプチド、漢方抽出液、パントテン酸カルシウム、ガルシニア粉末、生豆糖類発酵抽出粉末、ヒアルロン酸及び果汁を含有する健康飲料。例文帳に追加

This health beverage comprises xylooligosaccharides, vitamin mix powder, beef dipeptide, a Chinese herbal extract liquid, calcium pantothenate, galcinia powder, raw bean saccharide fermented extract powder, hyaluronic acid and fruit juice. - 特許庁

非金属膜３４が存在することにより、純水中に母体管３３の材料（金属）が溶出することが抑制され、被研磨面に金属不純物が付着することが抑制される。例文帳に追加

With the existence of the nonmetallic film 34, elution of a material (metal) of the host pipe 33 into pure water is suppressed, and adhesion of a metal impurity to a surface to be polished is suppressed. - 特許庁

吉井勇の『かにかくに』の歌で有名なお茶屋『大友』の女将で芸妓である磯田多佳や、井上流の名手として、また後輩の育成に努めた松本佐多、ほかに早崎春勇、三宅小まめ、玉木里春、藤本竹葉、安藤孝子（現役当時の芸名は孝千代、後に11PMに出演）、岩崎究香、高田真知子、佳つ乃など京都のみならず、世間に花を添えてきた芸妓が数多くいる。例文帳に追加

Other geisha include: Taka ISODA who was a geisha and the proprietress of the teahouse "Daitomo," known by the tanka poem "Kanikakuya" (meaning somehow) by Isamu YOSHII; Sata MATSUMOTO who was an excellent performer of the Inoue School of Dance and engaged in nurturing junior geisha and apprentice geisha; and many more geisha such as Haruyu HAYASAKI, Komame MIYAKE, Satoharu TAMAKI, Takeha FUJIMOTO, Takako ANDO (whose geisha name was Takachiyo when active and appeared on a TV program called "11 PM"), Mineko IWASAKI, Machiko TAKADA (高田真知子), and Katsuno, all of whom have enlivened not only Kyoto but also the world outside Kyoto.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

当初は碓井峠を越えてきた真田・依田に対して勝利し、駿豆国境方面でも布陣する豊臣方諸将に威力偵察するなど戦意は旺盛であったが、秀吉の沼津着陣後には、緒戦で山中城が落城。例文帳に追加

At first, the Hojo clan was highly motivated in fighting the war, beating the Sanada and Ida clans invading from Usui-toge Pass, and scouting to discover the force levels of warlords on the Toyotomi side in the Suruga-Izu border, and so so on, but after Hideyoshi arrived at Numazu, the Hojo clan lost the following battle and was forced to surrender Yamanaka-jo Castle.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

酸化セリウム粒子の原料であるセリウム塩の製造方法において、セリウム塩粒子中に含まれる不純物の量を低減して高純度化することにより、この酸化セリウム粒子を含むセリウム系研磨剤を用いた研磨時に被研磨面に発生するスクラッチを減少できる。例文帳に追加

To reduce scratch developed on a surface to be polished in polishing with a cerium-based abrasive material containing cerium oxide particles, by reducing the amount of impurities contained in cerium salt particles to heighten the purity, in a method for producing a cerium salt which is a raw material for cerium oxide particles. - 特許庁

磁気ヘッドの製造工程の最終浮上面研磨加工に用いる研磨定盤の作成において、研磨定盤の研磨面内の研磨レート分布を事前に測定し、測定した研磨レートの分布に従って研磨レートの修正を行う研磨レート修正システムを提供する。例文帳に追加

In production of a polishing surface plate used for final floating surface polishing working of a manufacturing step of a magnetic head, the polishing rate correction system for previously measuring the polishing rate distribution in the polishing surface of the polishing surface plate and performing correction of the polishing rate according to the measured distribution of the polishing rate is provided. - 特許庁

従来のコーヒー焙煎機で問題となっている、熱量の消費が大きく、焙煎時の温度を安定に保つことが困難であり、生豆の含有水分の除去が不十分で安定した品質が保証されないと言う問題を、比較的簡単な装置で解決することが課題である。例文帳に追加

To solve problems such that, since a conventional coffee roaster consumes a large amount of heat and it is difficult to stably keep the temperature in roasting, the removal of water content of raw beans is insufficient and a stable quality is not secured, by using a relatively simple device. - 特許庁

酸化セリウムスラリーの製造工程における不純物混入を低減させ、且つ高平坦化可能であり酸化珪素絶縁膜等の被研磨面を傷なく高速に研磨することが可能なＣＭＰ研磨剤の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a CMP abrasive capable of reducing contamination by impurities at the step for producing a slurry of cerium oxide, capable of highly flattening a surface, and capable of allowing the surface to be ground, such as an insulating film of silicon oxide to be polished without defects at a high speed. - 特許庁

タングステン膜と絶縁膜を同程度の研磨速度で研磨でき、その結果平坦性が良好で、研磨傷が無く、鉄イオンなどの不純物によって汚染されていない研磨面を創出することのできる研磨用組成物の提供。例文帳に追加

To provide a polishing composition which can polish a tungsten film and an insulating film at a substantially same polishing rate; and as a result, create a polishing surface on which no polishing scratches occur with proper flatness, and which is not contaminated with impurities, such as iron ions or the like. - 特許庁

化学機械研磨後に半導体部品の被研磨面に残留した不純物に対する洗浄効果が高く、かつ環境への負荷が少ない半導体部品洗浄用組成物を提供すること、および上記半導体部品洗浄用組成物を用いて洗浄する工程を含む半導体装置の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a cleaning composition for semiconductor component which has superior cleaning properties with respect to impurities remaining on a to-be-polished surface of a semiconductor component after chemical mechanical polishing, and further reduces burden on environment, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device comprising a step for cleaning, by using the cleaning composition for semiconductor component. - 特許庁

研磨装置の研磨工具に付着した固化した研磨剤や不純物を確実に除去でき、被研磨対象物へのスクラッチの発生を抑制でき、被研磨対象物の被研磨面に存在する残留パーティクルを減少させることができる研磨装置、研磨方法および研磨工具の洗浄方法を提供する。例文帳に追加

To provide a grinding apparatus, a grinding method and a cleaning method of a grinding tool in which grinding agents or impurities adhered to the grinding tool of the grinding apparatus and solidified can be reliably removed, generation of scratches on a work can be suppressed, and residual particles left on the surface to be ground of the work can be reduced. - 特許庁