「ビーム限界」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

レーザ光のビーム集束径を回折限界近くまで絞った場合でも、高いイオン生成効率を達成して十分な検出感度を確保する。例文帳に追加

To achieve a high ion generation efficiency and secure a sufficient detection sensitivity even when a beam convergence diameter of laser beam is reduced to near the diffraction limit. - 特許庁

得られたレーザビームは、集光レンズにより径を回折限界よりも小さくすることができ、光ピックアップ等に好適に用いることができる。例文帳に追加

In the laser beams obtained, the diameter can be reduced from a diffraction limit by a condensing lens, and can be suitably used for an optical pickup, or the like. - 特許庁

画像光ビームの回折限界点広がり関数（ＤＬ−ＰＳＦ）を最適化する眼科画像システム及び方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an ophthalmic imaging system and method for optimizing a diffraction limited point spread function (DL-PSF) of an imaging light beam. - 特許庁

光の波長や対物レンズの特性などによる限界を超えた微細な光ビームを利用した光ディスク原盤の製造技術を提供する。例文帳に追加

To obtain a technology for manufacturing an optical master disk which uses a fine light beam exceeding the limits due to the wavelength of light, the characteristics of an objective, etc. - 特許庁

スループットの低下を招かずに、解像度限界の向上を図るための電子ビーム描画データの作成方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of creating an electronic beam drawing data for improving the resolution limit without reducing the throughput. - 特許庁

超音波ビームの反射面として楕円面を使用し流速に関する測定限界を拡大し実用性を高める。例文帳に追加

To improve practicality by enlarging a measurement limit related to a flow rate using ellipsoid as the reflection surface of ultrasonic beams. - 特許庁

ヒューズ素子２０の高さＨは、照射するレーザビームの焦点深度ＤＯＦよりも大きく、ヒューズ素子２０の径Ｄは、レーザビームの回折限界ＤＬよりも小さい。例文帳に追加

A height H of the fuse element 20 is larger than a depth of focus DOF of a laser beam to be given, and the diameter D of the fuse element 20 is smaller than a diffraction limit DL of the laser beam. - 特許庁

レーザのビームサイズ（幅）の限界によるレーザビームの幅間に発生するステッチングむらを防止することができる有機膜のパターニング方法を提供する。例文帳に追加

To provide a patterning method of an organic film capable of preventing stitching unevenness occurring between widths of laser beams due to limit of beam sizes of a laser. - 特許庁

超解像光記録媒体の再生時に、読み取り用のレーザビームが解像限界以上の大きな記録マークから解像限界よりも小さな記録マークに移る際に、信号品質が悪化してしまうことを防ぎ、該信号品質を向上させる。例文帳に追加

To improve signal quality by preventing a signal quality from being detriorated when a laser beam for reading is shifted from a large recording mark of resolution limit or more to a small recording mark being less than resolution limit in reproducing a super resonance optical recording medium. - 特許庁

これにより、単位時間当たりに同一画素位置の蛍光体に与えられるビーム電流の総和が、その蛍光体の輝度飽和の限界を超えることのないよう、各分割画面を走査する各電子ビームの走査時刻に相対的な差が生じる。例文帳に追加

Thereby, a total of beam currents given to a fluorescent substance at the same pixel position per unit time prevents the generation of a relative difference in the scanning time of each electron beam to scan each split screen so that the limit of the brightness saturation of the fluorescent substance is not exceeded. - 特許庁

建築限界測定器１につき、上方の測定点Ｂまでの距離を測定可能な姿勢にレーザ距離計６０をセットした後、第１本体ビーム１０をレールＲ，Ｒに係合し、第３本体ビーム３０をレールＲ，Ｒと直交し且つ水平な状態に支持する。例文帳に追加

With respect to this measuring apparatus 1 for construction gauge, a last range finder 60 is set in such an attitude as to enable the distance to a measurement point B above to be measured, then a first body beam 10 is engaged with rails R and R, and a third body beam 30 is supported horizontally in perpendicular relation to the rails R and R. - 特許庁

ポンピングパワー密度の向上に対するレーザー結晶の破損限界の影響を少なくし、よってビームクオリティの改善と、ダイオードポンピングした固体レーザーの効率向上とを達成させる。例文帳に追加

To improve beam quality and efficiency of a solid laser by reducing the influence of the break limit of a laser crystal for improvement of pumping power density. - 特許庁

波長の異なる複数のビームを略回折限界内の良好な性能で情報記録媒体上に集光可能な光ディスク用対物レンズを提供する。例文帳に追加

To provide an objective lens for optical disk by which plural beams different in wavelength can be condensed on an information recording medium with a good performance within nearly a diffraction limit. - 特許庁

基本波を波長変換素子に入射するための精密な位置合わせが不要であり、平行ビーム化および回折限界の集光が可能で、且つ、波長の高効率変換が可能な波長変換装置の提供。例文帳に追加

To provide a wavelength conversion device which dispenses with precise alignment for making fundamental harmonics incident on a wavelength conversion element, and which realizes turning into parallel beam and diffraction-limited focusing and further converts a wavelength with high efficiency. - 特許庁

その後、選択された限界値に関連付けられるビーム形成行列及び候補計画に従って、データが、基地局から中継局を介してユーザ局に送信される。例文帳に追加

After that, data are transmitted from the base station to the user station through the relay station according to the beam formation matrix and the candidate plan which are associated with the selected limit value. - 特許庁

この結果、無収差の等方的なビデオ信号を得ることができ、収束ビームの強度プロファイルの径による限界を超える分解能の画像を再生することができる。例文帳に追加

Output signals from the processors 7a to 7n are supplied to the addition circuit 9, and image data obtained by the respective photodetectors 6a to 6n is collected to form a synthetic video signal and supplies it to a CRT 10. - 特許庁

ステージの移動距離が電子ビームの偏向限界に達してステージを停止し、再び、その位置での観察視野内のセル配置個数情報を抽出。例文帳に追加

A moved distance of the stage reaches a deflection limit of the electron beam and the stage is stopped, and information on the number of arrangements of cells in an observation visual field at that position is extracted again. - 特許庁

電子銃を構成する所要の電極Ｇ_2 が夫々ビーム孔を有する複数の電極板Ｇ_2A、Ｇ_2Bからなり、電極Ｇ_2 の少なくとも１つの電極板のビーム孔１９が、複数の電極板Ｇ_2A、Ｇ_2Bによる総合的な擬似板厚Ｔ_1 に対するプレス加工限界より小さい孔径φｄを有して成る。例文帳に追加

A necessary electrode G2 as a component of the electron gun is composed of a plurality of electrode plates G2A, G2B, and a beam hole 19 of at least one electrode plate of the electrode G2 has a small diameter ϕd which is smaller than the criteria of stable machining at an integral pseudo plate thickness T1, based on a plurality of the electrode plates G2A, G2B. - 特許庁

コントラスト増強フォトリソグラフィ法で微細パターンを形成する方法において、露光ビームに超解像を利用する際に、フォトレジスト層に安定したパターン形成を行なうための条件を規定することにより、回析限界以下の凹凸パターン形状を安定させる。例文帳に追加

To stabilize an uneven pattern equal to or smaller than a diffraction limit by specifying conditions for stably patterning a photoresist layer when utilizing a hyper-resolution for an exposure beam in a method for forming fine patterns with contrast enhancement photolithography. - 特許庁

ＡＰＩ規格５Ｌ−Ｘ６５以上の強度を有し、電子ビーム溶接あるいはレーザー溶接を適用した溶接部の溶接金属と溶融線の両方において、−１０℃での限界ＣＴＯＤが０．２０ｍｍ以上である鋼材及び構造物を提供する。例文帳に追加

To provide a steel member and a structure which have strength satisfying API (American Pipe Institute) standards 5L-X65 or higher, and in which critical CTOD (Crack Tip Opening Displacement) at -10°C is ≥0.20 mm in both of a weld metal and a weld line in the weld zone with electron beam welding or laser welding applied. - 特許庁

これによりメインビームのトレース位置はトラックピッチをｍ等分したそれぞれの位置となり、トラックピッチの１／ｍの幅で記録／再生位置を選択でき、従来の光学限界を超えたより高精度な光軸位置の調整ができる。例文帳に追加

Thus, a tracing position of a main beam is a position where a track pitch is equally divided by m, a recording/reproducing position is selected by a width 1/m of the track pitch, and an optical axis position is adjusted with accuracy higher than a conventional optical limit. - 特許庁

最小ファセットサイズを有するポリゴン・ビーム偏向器の使用を容易にし、かつ低レベルのバウ、回折限界収差補正、ウォブル補正、および合理的な程度のテレセントリック性を特徴とし、さらには比較的大きな作動距離を出力窓と光受容体の間に提供する。例文帳に追加

To provide a multiple beam scanning system characterized in that a polygon beam deflector having a minimum facet size is easily used, having a low level bow, diffraction-limit aberration correction, wobble correction and reasonable telecentric characteristic, and further comparatively large operating distance given between an output window and a light receiving body. - 特許庁

本発明は、各描画フィールドの境界部分に生じる誤差や描画位置の誤差を正確に測定しながらも、レジスト現像後の形状の影響を把握して描画精度の限界を解消することの可能な測定方法、描画方法、基材の製造方法、および電子ビーム描画装置を提供する。例文帳に追加

To provide a measuring method, a photolithography method, a manufacturing method for base material, and an electron beam lithography system which can grasp the influence of a shape after resist development and eliminate the limit of writing precision while accurately grasping an error generated at a border part between writing fields and an error in writing position. - 特許庁

赤外線センサー２０７及び制御装置で印画紙４０の処理量を検出し、処理量（処理液２０の劣化度合い）に応じて制御装置が光走査装置２０４のビームの強度を制御するので、処理液の使用限界まで一定した画像品質を得ることができる。例文帳に追加

Constant image quality can be obtained up to the use limit of the processing liquid, because an infrared sensor 207 and a controller detect a throughput of photographic paper 40, and the controller controls the intensity of the beam of an optical scanner 204 according to the throughput (deterioration degree of the liquid 20). - 特許庁

そして、その計測時間Ｔp1，Ｔp2に基づき有効走査領域を走査した直後の光ビームの最大振幅角θmaxが予測され、該予想結果θmaxが破壊限界角θth以上となっている際には、直ちに偏向器の駆動が停止される。例文帳に追加

The maximum amplitude angle θmax of the light beam just after the scanning of the effective scanning area is predicted on the basis of the measured time Tp1 and Tp2, and the driving of a deflector is immediately stopped when the result of the prediction shows that θmax exceeds a fracture critical angle θth. - 特許庁

荷電粒子ビーム・マスク製造と超短パルス・レーザ・アブレーションの利点の組合せを使用して、基板の加工時間を著しく短縮し、レーザ・アブレーションによって機械加工されるフィーチャの横方向解像度およびアスペクト比を向上させる、好ましくは機械加工レーザの回折限界よりも小さくする。例文帳に追加

A combination of the advantages of charged particle beam mask fabrication and ultra short pulse laser ablation are used to significantly reduce substrate processing time and improve lateral resolution and aspect ratio of features machined by laser ablation to preferably smaller than the diffraction limit of the machining laser. - 特許庁

記録マークの長さや、隣り合う記録マーク間のブランク領域の長さが、解像限界未満である場合にも、これらの記録マークおよびブランク領域を含む記録マーク列により構成されたデータを記録し、再生することができ、記録容量を大幅に増大することができる光記録ディスクに適用可能なレーザビームの再生パワーの決定方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a determination method for reproduced power of a laser beam applied to an optical recording disk, the method realizing recording and reproducing of data constituted of a recording mark string including recording marks and blank regions between adjacent recording marks even when the length of the recording mark and the length of the blank region are shorter than a resolution, thereby reralizing an increase in recording capacity. - 特許庁

複数の同一規格の記録層を含む光ディスク媒体９０を再生し、光学系１１を含むディスク再生装置において、対物レンズ１１ｊをその可動限界の一方から他方まで移動させるまでの間、ビームエキスパンダ１１ｉを動作させることによって対物レンズ１１ｊの位置に応じて変化する球面収差を補正しながら、ＦＥ信号のＳカーブを計数する。例文帳に追加

In the disk reproducing device which reproduces an optical disk medium 90 including a plurality of recording layers of the same standard and includes an optical system 11, the S curves of an FE signal are counted while the spherical aberration changing according to the position of an objective lens 11j is corrected by operating a beam expander lli during the time for moving the objective lens 11j from one to the other of its movable threshold. - 特許庁