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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > ベーキング工程に関連した英語例文

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ベーキング工程の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 28



例文

第2モジュールは、露光後にウエハを洗浄する工程及び露光後ベーキング工程を行う。例文帳に追加

The second module performs a step for cleaning the wafer and a post-exposure bake step after the exposure step. - 特許庁

後処理モジュールは、露光後にウエハを洗浄する工程、及び露光後ベーキング工程を行う。例文帳に追加

The post-treatment module performs a wafer cleaning step and a post-exposure bake step after the exposure step. - 特許庁

工程S105では、水素を含むガスを供給してベーキング処理を行う。例文帳に追加

In a process S105, a baking process is performed in supplying a gas containing hydrogen. - 特許庁

生分解性を有し、ベーキング工程にも使用でき、かつ、キャリアテープとして使用可能な導電性複合成形体を得ることを目的とする。例文帳に追加

To obtain a biodegradable conductive composite molded object having biodegradability and capable of being used even in a baking process and usable as a carrier tape. - 特許庁

例文

アンダーフィル材の充填時及びベーキング工程において、アンダーフィル材から発生したガスは、孔から放出される。例文帳に追加

Gases generated from the underfill material when underfilling the underfill material and during a baking step are dissipated from the hole. - 特許庁


例文

プラズマディスプレイパネルの製造工程において、ドライガス雰囲気装置100を用いて、保護層(MgO)形成工程S4、蛍光体層焼成工程S'7、封着工程P1、排気・ベーキング工程P2を水蒸気分圧が10mPa以下の乾燥ガス雰囲気下で行う。例文帳に追加

In a process for manufacturing a plasma display panel, a protecting layer (MgO) forming process S4, a phosphor layer burning process S'7, a sealing process P1, and a discharge and baking process P2 are performed by using a dry gas atmosphere device 100 in the dry gas atmosphere at 10 mPa or less of the steam partial pressure. - 特許庁

従来のベーキング工程では十分に除去しきれなかった電子部材の水分を除去すると共に、該工程中に進行していた酸化の進行を抑制する電子部材の乾燥方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of drying an electronic member removing moisture of the electronic member which has not been removed sufficiently in a conventional baking process and suppressing progress of oxidation made to progress in the process. - 特許庁

同じ1台の二軸押出機でフラッシング工程ベーキング工程とを連続的に行って、生産効率を大幅に向上し、安定した均一な高品質の顔料分散体を得る。例文帳に追加

To extremely improve a production efficiency and to obtain a pigment dispersion having stable, uniform and high qualities by continuously carrying out a flushing process and a baking process by the same one twin-screw extruder. - 特許庁

こうして、フラッシング工程ベーキング工程とが連続的に行われ、安定した均一な品質の、顔料濃度の高い多量の顔料分散体が短時間で得られる。例文帳に追加

Thus, the flushing process and a baking process are successively carried out and a large amount of a pigment dispersion having stable uniform qualities and a high pigment concentration is obtained in a short time. - 特許庁

例文

外包材3の製造工程は、中力粉、強力粉、イカ墨粉末、イーストおよび水を混合して混練物を形成する一次混合工程と、この混練物に強力粉、ベーキングパウダー、デンプン、砂糖、ラードおよび水を添加して生地を形成する二次混合工程と、を備えている。例文帳に追加

The process of producing the external wrapping material 3 comprises a first mixing process of mixing medium-ground flour, hard flour, squid-ink powder, yeast and water together to form a kneaded mixture, and a second mixing process of adding strong flour, baking powder, starch, sugar, lard and water to the mixture to form dough. - 特許庁

例文

従来のベーキング工程を変更することなく、蛍光体の酸化による輝度低下を抑制することのできる耐酸化性蛍光体及びその製造法を得る。例文帳に追加

To provide an oxidation-resistant phosphor of which the luminance is not degraded by oxidation without changing the conventional baking step and a production method therefor. - 特許庁

本発明の目的は、蛍光ランプ作製時のベーキング工程において劣化の少ない蛍光体及びそれを用いた蛍光ランプを提供することである。例文帳に追加

To provide a phosphor with little degradation in a baking process when a fluorescent lamp is produced, and the fluorescent lamp using the phosphor. - 特許庁

減圧工程では、略300℃以上のベーキング温度を保持した状態で、排気を行い、放電空間13内に残留する不純物ガス等が放出されて除去される。例文帳に追加

In a pressure reducing step, a gas is exhausted in a state of holding a baking temperature of about 300°C or more, and the impurity gas and the like remaining in a discharge space 13 are released and removed. - 特許庁

蛍光膜形成工程ベーキング処理による輝度劣化が少なく、発光効率の高い青色発光を呈する蛍光体、この蛍光体を用いた蛍光体ペースト組成物並びにVUV励起発光素子の提供。例文帳に追加

To obtain phosphor which has reduced luminance deterioration by baking of a fluorescent screen formation process and high luminous efficiency and emits a blue light, a phosphor paste composition and a VUV-excited light-emitting element using the phosphor. - 特許庁

酸化膜形成工程では、炉口部40をベーキングすることにより、炉口部金属部品41を構成するフランジ部27、キャップ部30の表面に酸化膜28を成長させ、耐腐食性を向上させる。例文帳に追加

In the oxidation film forming process, a furnace throat part 40 is baked to grow an oxide film 28 on the surface of a flange part 27 and a cap part 30 configuring a furnace throat part metal part 41, and to improve corrosion resistivity. - 特許庁

一組の基板を対向配置しかつその周辺を封着部材でシールしてパネルとする封着工程と、そのパネル内を真空に排気しかつ加熱する排気ベーキング工程とを有し、封着部材として結晶化ガラスを用いたものである。例文帳に追加

The manufacturing method comprises a sealing process in which a set of substrates are arranged opposed to each other and their surroundings are sealed by a sealing member to form a panel, and an exhaust air baking process in which the inside of the panel is evacuated and heated, and a crystallized glass is used as a sealing member. - 特許庁

また、このような蛍光体の製造方法は、In塩の水溶液中にZnS蛍光体を加えてIn塩から蛍光体粒子の表面にIn(OH)_3の層を形成する工程と、この蛍光体を加熱処理(ベーキング)することにより、In(OH)_3層をIn_2O_3層に変える工程を備える。例文帳に追加

The method for producing such a phosphor comprises the steps of: adding a ZnS phosphor into an aqueous In salt solution to form an In(OH)_3 layer from the In salt on a surface of phosphor particles; and subjecting the phosphor to heat treatment (baking) to convert the In(OH)_3 layer to an In_2O_3 layer. - 特許庁

フォトレジストの特性化方法は、支持構造上にフォトレジストを形成する工程102と、フォトレジストをベーキングする工程104と、フォトレジストを染色剤により染色する工程106と、TEM、SEMおよびAFMのうちの少なくとも1つを利用し、フォトレジストを特性化する工程108と、を含む。例文帳に追加

The method for photoresist characterization includes a step 102 of forming a photoresist on a supportive structure, a step 104 of baking the photoresist, a step 106 of staining the photoresist with a staining agent, and a step 108 of characterizing the photoresist using at least one of TEM, SEM and AFM. - 特許庁

液浸リソグラフィ方法は、基板上にレジストを形成する工程と、液浸リソグラフィシステムの流体内でレジストを露光する工程と、レジストをベーキングし、レジスト内にあるクエンチャーを液浸リソグラフィに拡散させる流体量を5×10−13モル/cm2にする工程と、露光後のレジストを現像する工程とを含む。例文帳に追加

The immersion lithography method includes: a step of forming a resist on a substrate; a step of exposing the resist in a fluid in an immersion lithography system; a step of baking the resist so that the amount of the fluid that diffuses the quencher in the resist in immersion lithography is confined to10^-13 mol/cm^2; and a step of developing the exposed resist. - 特許庁

カラーフィルタ形成用基板10Aに、ネガ型の感光性の着色層用材料13を塗布形成する着色層塗布工程と、着色層形成領域をプロキシミティ露光方法により露光用マスク20を介して一括露光する露光工程と、現像処理、乾燥、ベーキング処理のプロセス処理工程とを行い、着色層を形成する。例文帳に追加

A colored layer applying process for applying and forming a negative photosensitive material 13 for a colored layer on a substrate 10A for forming the color filter, an exposure process for collectively exposing a colored layer forming area via the exposure mask 20 by a proximity exposure method and a processing process of developing, drying and baking treatment are performed to form the colored layer. - 特許庁

非蒸発型ゲッタが封着時に受けるダメージを、より小さくして、より低温、または、より短時間のゲッタ活性化を可能とし、更に好ましくは、内部を真空維持するガラス外囲器の製造工程に不可欠な、真空ベーキング工程がゲッタ活性化工程を兼ねることができるガラス外囲器の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide the manufacture of a glass enclosure which enables lower- temperature of shorter-time getter activation by making smaller the damage that a non-vaporizable type getter has at the time of sealing and which preferably allows a vacuum baking process, essential for a manufacturing process for a glass enclosure wherein a vacuum is maintained inside, to serve also as a getter activating process. - 特許庁

ガス吸着部材を備える構成のPDPにおいて、ガス吸着作用が十分に得られ、また排気ベーキング工程において支障が発生することを抑制することができるプラズマディスプレイパネルを実現することを目的とする。例文帳に追加

To provide a plasma display panel (PDP) capable of sufficiently providing a gas sucking action, and of restraining a trouble from occurring in an exhaust baking process, in a PDP having a structure provided with a gas suction member. - 特許庁

本発明は所定の半導体基板の製造工程における加熱処理および冷却処理を行う半導体製造用加熱冷却装置に関し、単一のチャンバ内でベーキングと冷却において効率的な処理を可能として設備全体の縮小化を図ることを目的とする。例文帳に追加

To provide a heating and cooling apparatus for manufacturing semiconductors for carrying out heating processing and cooling processing in the manufacturing process of prescribed semiconductor substrates, and capable of applying efficient processing to baking and cooling in a single chamber so as to reduce the whole facility. - 特許庁

ブラックマトリックスおよびカラー画素パターン作製工程では、フィルタ基板上に形成されたブラックマトリックス層、レッド(R)画素パターン、グリーン(G)画素パターン、およびブルー(B)画素パターンの各レジストは、いずれも、マイクロウェーブ装置からのマイクロウェーブによってポストベーキングされる。例文帳に追加

A process of forming a black matrix and color pixel patterns, a black matrix layer, red (R) pixel pattern, green (G) pixel pattern and blue (B) pixel pattern formed on a filter substrate is post-baked with microwaves of a microwave device. - 特許庁

パターン膜を形成する現像工程において、高い残膜率を維持したまま、現像残渣がなく、高温ベーキング後においても光透過率、耐溶剤性等の塗膜物性を損なうことなく、低誘電特性に優れたパターン膜を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition having no development residue, while keeping a high residual film ratio, capable of forming a pattern film having excellent low dielectric characteristics without spoiling film properties such as a light transmittance or solvent resistance even after high-temperature baking, in a developing process for forming the pattern film. - 特許庁

無酸素無水分包装で製造直後から実装直前まで保存することにより、鉛フリーはんだ導入後、実施されてきた高温リフロー時のデラミネーションを防ぐ目的で実施されているベーキング工程を必要としない、電子部材の保存方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for storing electronic members which does not requiring a baking process having been performed to prevent delamination at a high temperature reflow after introduction of a lead-free soldering, by storing electronic members with a package having no oxygen and no moisture from just after manufacturing until just before mounting. - 特許庁

水、アルコール又は水とアルコールとの混合溶液に核酸を溶解させた核酸溶液中に、あらかじめ乾燥状態とした繊維を浸漬する工程と、前記核酸溶液から繊維を取り出し、その繊維を乾燥、ベーキング又は紫外線照射することにより、核酸を前記繊維に固定する工程とを含む方法により用紙を製造する。例文帳に追加

A method for producing the forgeryproof paper is provided, comprising the step of immersing fibers dried in advance in a solution prepared by dissolving a nucleic acid in water, alcohol or in a mixed solution of water and alcohol, and the step of taking the resultant fibers out of the nucleic acid solution, drying or baking the fibers or irradiating the fibers with ultraviolet rays to fix the nucleic acid to the fibers. - 特許庁

例文

パターン膜の形成工程において、2.38質量%水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を現像液として用いても、高い残膜率を維持したまま、現像残渣がなく、高温ベーキング後においても光透過率、耐溶剤性等の塗膜物性を損なうことなく、低誘電特性に優れたパターン膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition that does not generate development residue while maintaining a high residual film ratio even when an aqueous tetramethylammonium hydroxide solution of 2.38 mass% is used as a developer in a patterned film formation step, and can form a patterned film with excellent low dielectric property without impairing physical characteristics of coating films such as light transmittance and solvent resistance even after high temperature baking. - 特許庁

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