意味 | 例文 (999件) |
原薄の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1414件
従来よりも原子レベルで平坦な表面を有する窒化物半導体薄膜及びその成長方法を提供する。例文帳に追加
To provide a nitride semiconductor thin film having a flatter surface than conventional one at an atomic level, and to provide a growth method thereof. - 特許庁
液体に対して溶解性のある前駆体原料から高結晶性の薄膜を大気圧下で膜厚を高精度に制御しつつ作製する。例文帳に追加
To produce a thin film with high crystallinity from a precursor source material having solubility with a liquid, under atmospheric pressure while controlling the film thickness with high accuracy. - 特許庁
原料ガス中に基板5を供給し、錯体を分解させて金属または酸化物を基板上に析出させ、薄膜を形成する。例文帳に追加
A substrate 5 is fed into the raw material gas, and the complex is decomposed to deposit a metal or an oxide on the substrate to form a thin film. - 特許庁
本発明の薄膜形成装置1は、原料ガス20と反応ガス21を含有する成膜ガス22を導入可能な混合器7を有している。例文帳に追加
The apparatus 1 for forming a thin film has a mixer 7 into which a film-forming gas 22 containing a feed gas 20 and a reactant gas 21 can be fed. - 特許庁
ソフトエラーの原因となるα放射体の含有量を低減し、その含有量が保証された導電薄膜形成材料を提供すること。例文帳に追加
To provide a conductive thin film deposition material in which the content of alpha radiation sources causing soft errors is reduced and the content is controlled. - 特許庁
この化合物をCVD法の原料として用いることにより、光素子用のLiNbO_3やLiTaO_3の薄膜を製造できる。例文帳に追加
Use of this compound as a raw material in the CVD method enables production of a thin film of LiNbO_3 or LiTaO_3 for an optical element. - 特許庁
その製造方法は、原木を円周方向に製材した薄板を蒸気加熱してトレイ形状に成形したことを特徴とする。例文帳に追加
Its manufacturing method is characterized in that a thin plate having its raw wood processed in its circumferential direction, heated with steam and formed into a tray shape. - 特許庁
薄膜形成装置において原料加熱部をチャンバ内に設けることで、成膜レートを安定化させるとともにメンテナンスを容易にする。例文帳に追加
To stabilize a film deposition rate and to facilitate maintenance by providing raw material heating sections inside a chamber in a thin film deposition system. - 特許庁
有機金属化学蒸着用有機ジルコニウム化合物及び該化合物を含むPZT薄膜形成用原料液例文帳に追加
ORGANOZIRCONIUM COMPOUND FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND RAW MATERIAL SOLUTION FOR FORMING PZT THIN FILM COMPRISING THE SAME COMPOUND - 特許庁
本発明は、高k誘電体の第VB族核種を使用して原子層堆積により化合物薄膜を形成する方法に関する。例文帳に追加
To provide a method of forming compound thin films through atomic layer deposition using high-k dielectric Group VB species. - 特許庁
原稿にマーキング等の作業を施さなくとも、薄文字を正確に再現することができる画像形成装置を提供する。例文帳に追加
To provide an image forming apparatus capable of accurately reproducing light letters without the need for carrying out marking work onto originals. - 特許庁
坩堝10は、側壁に肉薄部1aを有するグラファイト製の原料収納容器1と蓋3を有する。例文帳に追加
The crucible 10 includes a raw material container 1 made of graphite having a thin part 1a of the side wall, and a lid 3. - 特許庁
Se原子を含む化合物粒子、及びSe粒子を有機溶媒に分散させてなることを特徴とする化合物半導体薄膜形成用インク。例文帳に追加
In the ink for producing a compound semiconductor thin film, compound particles including Se atoms and Se particles are dispersed in an organic solvent. - 特許庁
該薄膜蛍光体は酸化亜鉛結晶であり、四価〜一価のイオン原子、リンから選択される少なくとも1種を添加することを特徴とする。例文帳に追加
The thin film phosphor is made of a zinc oxide crystal to which at least one selected from tetravalent to monovalent ionic atoms and phosphorus is added. - 特許庁
高品質の薄膜を基板上に堆積させることを容易にする原料ガス分解機構を提供すること。例文帳に追加
To provide a material gas decomposing mechanism that facilitates depositing a thin film of high quality on a substrate. - 特許庁
総金属イオン濃度に対する前記フッ酸の添加量が、0.05%〜5%である酸化物超電導薄膜製造用の原料溶液。例文帳に追加
The amount of the hydrofluoric acid added is 0.05-5% of the total metal ion concentration. - 特許庁
従来よりも原子レベルで平坦な表面を有する窒化物半導体薄膜及びその成長方法を提供すること。例文帳に追加
To provide a nitride semiconductor thin film having a flatter surface than conventional one at an atomic level, and to provide a growth method of the nitride semiconductor thin film. - 特許庁
原料の反応性を高め、効率的に酸化亜鉛薄膜を成膜することができる成膜方法及び成膜装置を提供する。例文帳に追加
To provide a deposition method and device by which a zinc oxide thin film is efficiently formed by enhancing reactivity of a raw material. - 特許庁
底紙中への及び底紙を通したコーティングカラーの浸入が従来問題であった薄いコート紙グレードに好適な原紙を完成する。例文帳に追加
To achieve a base paper that is suited to thin, coated paper grades, where conventionally the intrusion of the coating color into the bottom paper and through it is a problem. - 特許庁
薄膜の形成に寄与しなかったガスを排気トラップにおいて十分にトラップすることができる原子層堆積方法を提供する。例文帳に追加
To provide an atomic layer deposition method by which a gas which does not contribute to deposition of a thin film is sufficiently trapped in an exhaust trap. - 特許庁
気化器の噴出口近傍の周囲に薄膜原料が付着する現象を排除したMOCVD用気化器を得る。例文帳に追加
To obtain a vaporizer for MOCVD, which is capable of preventing a thin film material from adhering around its exhaust nozzle. - 特許庁
前記原料ガス供給手段は、CVD用気化器4と気化機構40とを備え、薄膜を形成する。例文帳に追加
The source gas supply means is provided with a vaporizer 4 for CVD and a volatilization mechanism 40, in order to form the thin film. - 特許庁
その一方で、離型剤原液と離型剤薄め液とを予め設定された割合で混合して離型剤新液を生成する。例文帳に追加
On the other hand, the original solution of the release agent and the release agent thinner are mixed at a preset ratio to prepare a new release agent solution. - 特許庁
原料ガスとしてTaF_5とSiH_4とを交互に供給しながら基板上で反応させてTaSi_xの薄膜を生成する。例文帳に追加
As source gases, TaF_5 and SiH_4 are alternately fed to cause reaction on a substrate, thus generating a thin film of TaSi_x. - 特許庁
プラズマ処理装置により基板上に薄膜を形成する際に、原料ガスの分圧を3Torr以上に設定する。例文帳に追加
When the thin film is formed on a substrate using a plasma processing, a partial pressure of material gas is set in 3 Torr or higher. - 特許庁
シャワーヘッドノズルを用いた原子層成長方法による薄膜の形成で、成膜速度を向上できるようにする。例文帳に追加
To improve film formation speed by forming a thin film by means of atomic layer deposition using a shower head nozzle. - 特許庁
気化器の噴出口近傍の周囲に薄膜原料が付着する現象を排除したMOCVD用気化器を得る。例文帳に追加
To provide a method for vaporizing a material solution, with which a vaporizer for MOCVD is obtained which eliminates a phenomenon that thin-film materials are adhered to a portion of the vaporizer near and around a spout thereof. - 特許庁
処理室内に搬入した基板を加熱しつつ、放電により帯電させた薄膜原料粒子を基板表面に付着させる。例文帳に追加
While a substrate carried into a treating chamber is heated, thin film raw material particles charged by discharge are deposited on the surface of the substrate. - 特許庁
処理室内に供給した原料ガスの分圧を短時間で上昇させ、薄膜の成膜速度を高める。例文帳に追加
To increase the partial pressure of a material gas supplied in a treatment chamber in a short time to increase a film formation speed of a thin film. - 特許庁
坩堝の側面に原料融液が這い上がった状態で成膜を行うと、形成された薄膜の厚さの均一性が低下してしまう。例文帳に追加
To solve such a problem that, when performing film deposition in a state of creeping-up of a raw material melt along a side wall of a crucible, uniformity in thickness of a deposited thin film is degraded. - 特許庁
次に、(c)に示すように、溶射部材12表面に原子層レベルの極薄い酸化膜13を被覆し、これを最表面とする。例文帳に追加
Next, as shown in Fig. (c), a very thin oxide film 13 of an atomic layer level is applied on the surface of the member 12 and this oxide film 13 is used s the uppermost surface of the mother material 11. - 特許庁
薄板鋼板製ライナ11を原子炉格納容器2の内壁面に取り付けた後、接合部材24を撤去する。例文帳に追加
After the thin steel plate liner 11 is mounted on an inner wall face of a reactor container 2, the joining member 24 is removed. - 特許庁
細線は強調できるとともに、薄い紙を使った両面原稿の場合の裏写りを防止することができる画像処理装置の実現を課題とする。例文帳に追加
To realize an image processing apparatus capable of preventing reverse side through input in the case of a double-sided thin paper original, while emphasizing fine lines. - 特許庁
チャンバーへレーザビームを入射させ、原料ガスを光分解し、薄膜Sを基板94上に堆積させる。例文帳に追加
A raw material gas is photolyzed by making laser beam incident in a chamber to deposit the thin film S on a substrate 94. - 特許庁
種々の状況において低温で二酸化ケイ素の薄膜を形成するための原子層堆積(ALD)プロセスが提供される。例文帳に追加
To provide a process of atomic layer deposition (ALD) to form a silicon dioxide thin film at low temperature under various conditions. - 特許庁
円網抄紙機における抄造において、地合いの良好な薄物の原紙を抄造することのできる円網シリンダーを提供するものである。例文帳に追加
To provide a mold cylinder capable of making thin base paper having good formation in a process for making the paper in a cylinder paper machine. - 特許庁
小型化、薄型化が進んでも不良の原因となる汚染物質を十分に除去できる磁気記録再生装置を提供する。例文帳に追加
To provide a magnetic recording and reproducing device in which the contaminant causing defect can be sufficiently removed, even when it is made small-sized and made thin. - 特許庁
有機金属材料を原料とするCVD法により、固体撮像素子に対向するカバー部材表面に光学薄膜を形成する。例文帳に追加
An optical thin film is formed on a cover member surface opposed to a solid-state image sensor by CVD method using an organic metallic material as raw material. - 特許庁
原料溶液吐出器、CVD用気化器、溶液気化式CVD装置、流量制御方法及び薄膜形成方法例文帳に追加
RAW MATERIAL SOLUTION DISCHARGE DEVICE, VAPORIZER FOR CVD, SOLUTION VAPORIZING CVD DEVICE, FLOW CONTROL METHOD, AND THIN FILM FORMING METHOD - 特許庁
Jcの低下や特性のバラつきの原因を排除した良質な水銀系銅酸化物超電導薄膜を得る。例文帳に追加
To obtain a good quality super-conductive thin film of mercury base copper oxide by eliminating deterioration of critical current density Jc and any cause of characteristic dispersion. - 特許庁
FEM解析の結果と、薄膜特性定数(205)とを利用して各要素の原子流束発散AFD^*_liを求める(S206)。例文帳に追加
Atomic flux divergences AFD^*_li of each factor are found, by utilizing the results of the FEM analysis and thin film characteristic coefficient (205) (S206). - 特許庁
これによって、薄いシート状にする際にはんだ材またはその原料を粉末化しなくてもよい安価な鉛フリー化はんだ材を提供する。例文帳に追加
In this way, the inexpensive lead-free solder material requiring no powering in itself or in the raw material thereof when being made into a thin sheet shape is provided. - 特許庁
グリセリン等の保湿成分を含む衛生薄葉紙の損紙を抄紙原料として利用可能にする、効果的な処理方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for effectively treating a waste stuff of a sanitary tissue paper containing a moisturizing component such as glycerol so that the waste stuff can be utilized as a papermaking raw material. - 特許庁
装置の薄型化および安型化を維持しつつ画像読取時間の短縮化を実現した画像読取装置および原稿検知方法を提供する。例文帳に追加
To provide an image reading apparatus and document detecting method to shorten an image reading time while reduction in thickness of the apparatus and reduction in cost are kept. - 特許庁
この第1薄膜層形成工程Aでは、基板上への成膜原料供給とRPO処理を複数回繰り返すとよい。例文帳に追加
Preferably, in the process A, the supply of the film-forming material to the substrate and the RPO treatment may be repeated a plurality of numbers of times. - 特許庁
高い蒸着速度で形成することができる原子層蒸着法を用いた薄膜製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a thin film deposition method using an atomic layer deposi tion method by which a thin film can be deposited at a high vapor deposition rate. - 特許庁
取り出された負極基材および原料を、大気に触れさせることなく薄膜形成装置1に移す。例文帳に追加
The negative electrode base material and the raw material drawn out are moved to the thin film formation device without making them exposed to the atmospheric air. - 特許庁
原子スケールで整った端構造を持つ短冊状の単層グラファイト薄膜の形成方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method of forming a strip-like single-layer graphite thin film having an edge structure set in good order in an atomic scale. - 特許庁
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