「成金になる」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

この中間層１４は、前記基材１２の構成金属原子と、ダイヤモンドライクカーボンとを含有する複合層からなる。例文帳に追加

The intermediate layer 14 comprises a composite layer containing structural metal atoms of the substrate 12 and diamond-like carbon. - 特許庁

鉛フリーカチオン電着塗装における電着塗料循環回路の内面の少なくとも一部に循環回路構成金属より卑なる金属を接触することを特徴とする電着塗料循環回路構成金属の腐蝕防止方法。例文帳に追加

The method for preventing corrosion of a metal composing the circulating circuit of the electrodeposition paint in lead-free cation electrocoating, is characterized by contacting at least one part of the inside of the circulating circuit for the electrodeposition paint with a baser metal than the metal composing the circulating circuit. - 特許庁

スパッタリングターゲットの構成金属成分に対して還元性の元素からなる脱酸素剤を含有し、該脱酸素剤によって酸素含有量の低減化が図られてなることを特徴とする低酸素スパッタリングターゲット。例文帳に追加

This low oxygen containing sputtering target is obtained by addition of a deoxidizing agent composed of a reducing element to a sputtering target to reduce the content of oxygen by the agent. - 特許庁

さらに、電極母材２ｎの構成金属として熱伝導率が１７〜３０Ｗ／ｍ・Ｋのものを採用することにより、電極の熱引き性能が良好となり、電極消耗に対する耐久性を大幅に改善することが可能となる。例文帳に追加

Further, by using a metal with the thermal conductivity of 17-30 W/m.K as a component of the mother material 2n, the heat reduction property of the electrode and the durability against the ware of electrode are sharply improved. - 特許庁

また、Ｓｎ-Ｚｎ系鉛フリーはんだ合金３及び被接合物２の構成金属間に発生する異種金属接触腐食が防止され、はんだ接合部に高い信頼性の維持が可能となる。例文帳に追加

Dissimilar metal contact corrosion generated among the constituting metals of the Sn-Zn based lead-free solder alloy 3 and the material 2 to be joined is prevented and the high reliability is maintained at a solder joining part. - 特許庁

モリブデン酸イオンを鉛フリー電着塗料浴中に５〜５００ｐｐｍとなるように添加する電着塗装循環回路構成金属の腐蝕防止方法。例文帳に追加

The method for preventing a composing metal of a circulation way in the electrodeposition coating apparatus comprises adding molybdate ions of 5-500 ppm in the lead-free electrodeposition paint. - 特許庁

Ｃｒ合金系スパッタリングターゲットの構成金属成分に対して脱酸素剤として炭素を添加することによって酸素含有量の低減化が図られてなることを特徴とする低酸素スパッタリングターゲット。例文帳に追加

The sputtering target with low oxygen content is characterized by adding carbon as oxygen scavenger to metal components composing a Cr alloyed sputtering target. - 特許庁

触媒はまた、原繊維形成金属からなる化合物を炭素粒子又は炭素原繊維骨材中のマグネシア粒子上に組み入れることによって製造しても良い。例文帳に追加

It is also preferable that the catalyst is prepared by incorporating a compound of the carbonizing metal onto magnesia particles in carbon particles or carbon fiber precuser aggregates. - 特許庁

セラミック粒子フィラーと有機バインダとからなる混合物の金型内での形成、金型からの中子の取り出し、バインダの除去、および中子の硬化熱処理を含むプロセスに関する。例文帳に追加

This invention is related to a process including: formation in a mold of a mixture comprising a ceramic particle filler and an organic binder, the extraction of the core from the mold, the binder removal and a consolidation heat treatment of the core. - 特許庁

本発明によれば、皮膜形成金属上に誘電体皮膜を有し、ポリアニリンがフェノールスルホン酸ノボラック樹脂にてドーピングされてなる導電性ポリアニリン組成物からなる膜を上記誘電体皮膜上に固体電解質として有することを特徴とする固体電解コンデンサが提供される。例文帳に追加

In the solid electrolytic capacitor, a dielectric film is provided on a film formation metal, and a film made of a conductive polyaniline composition containing polyaniline doped in phenol-sulfonic acid novolac resin is provided on the dielectric film as a solid electrolyte. - 特許庁

２種以上の金属よりなる合金粒子が担体に担持されてなる合金担持物であって、ＴＥＭ−ＥＤＸによって担持合金粒子の構成金属比率を測定して求められた組成比のばらつきを示すＡ値が０．１２以下である合金担持物。例文帳に追加

The alloy carrying material is formed in such a manner that alloy particles composed of two or more metals are carried by a carrier, and an A-value indicating a variation of a composition rate which is obtained by measuring a constituent metal ratio of the carrying alloy particles by TEM-EDX is not larger than 0.12. - 特許庁

本発明は、内型および外型から成る焼成金型を用いて澱粉生地を焼成する工程を含む澱粉焼成発泡成形物の製造方法であって、該焼成金型の内型および／または外型に蒸気抜き孔を設置することによって水蒸気放出速度を制御することを特徴とする澱粉焼成発泡成形物の製造方法に関する。例文帳に追加

In the manufacturing method of the starch baked foamed molded product including a process for baking a starch dough using a baking mold composed of an inner mold and an outer mold, a steam discharge speed is controlled by providing a steam venting hole to the inner mold and/or outer mold of the baking mold. - 特許庁

半田をリフローした際に、ニッケル層６０と半田バンプ（Ｃｕ−Ｓｎ−Ａｇ）４６との界面に、Ｎｉと半田組成金属とのＮｉ合金層（Ｃｕ−Ｎｉ−Ｓｎ）６８ができる（図８（Ｂ））。例文帳に追加

When reflow soldering is performed, the Ni alloy layer (Cu-Ni-Sn) 68 of Ni and solder composition metal is made ((B) of Fig.) in the interface of a nickel layer 60 and a solder bump (Cu-Sn-Ag) 46. - 特許庁

半田をリフローした際に、ニッケル層６０と半田バンプ（Ｃｕ−Ｓｎ−Ａｇ）４６との界面に、Ｎｉと半田組成金属とのＮｉ合金層（Ｃｕ−Ｎｉ−Ｓｎ）６８ができる（図６（Ｂ））。例文帳に追加

When reflow soldering is performed, an Ni alloy layer (Cu-Ni-Sn) 68 with Ni and a solder composition metal can be made ((B) of Fig.) in the interface of a nickel layer 60 and a solder bump (Cu-Sn-Ag) 46. - 特許庁

半田をリフローした際に、ニッケル層６０と半田バンプ（Ｃｕ−Ｓｎ−Ａｇ）４６との界面に、Ｎｉと半田組成金属とのＮｉ合金層（Ｃｕ−Ｎｉ−Ｓｎ）６８ができる（図８（Ｂ））。例文帳に追加

When a solder is made to reflow, a Ni alloy layer (Cu-Ni-Sn) 68 of Ni and a solder composition metal is formed at an interface between a Ni layer 60 and a solder bump (Cu-Sn-Ag) 46 (Fig.8 (B)). - 特許庁

地域雇用創造の核となる産業における新たな雇用創出を支援するため、サービス分野及び市町村等が自ら選択した重点産業において創業する者に対し、創業経費及び雇入れについて助成を行う地域創業助成金を引き続き運用する。（継続）例文帳に追加

To support the creation of new employment in industries playing key roles in job-creation in their regions, subsidies for startups and employment by local industries will be continued to those who launch new businesses in service fields and key industries, as determined by municipalities, etc. (continuation) - 経済産業省

また、別の態様においては、パラジウム合金電気めっき浴として、パラジウム源の１種以上、合金形成金属源の１種以上、アンモニウムイオン及び尿素から本質的になる組成物とし、少なくとも１０アンペア/ｄｍ２の電流密度を発生させてパラジウム合金を堆積させる方法。例文帳に追加

In another embodiment, the method of depositing palladium is carried out by using a composition essentially comprising one or more palladium sources, one or more alloy forming metal sources, ammonium ion and urea as the palladium electroplating bath and generating current density of at least 10 A/dm^2. - 特許庁

Ｙ_２Ｏ_３及びＧｄ_２Ｏ_３から選ばれた少なくとも１種を母体とし、この母体に、付活剤金属として、母体構成金属と付活剤金属との総モル数基準で０．５〜５モル％のＥｕ及び５〜２５モル％のＺｎを添加してなる。例文帳に追加

The phosphor comprises a matrix comprised of at least one selected between Y_2O_3 and Gd_2O_3 and, added thereto as activating metals, 0.5-5 mol% of Eu and 5-25 mol% of Zn, each based on the total molar number of the metal constituting the matrix and the activating metals. - 特許庁

２価Ｍｇイオンと３価Ａｌイオンを構成金属イオンとして含むハイドロタルサイトの層間に対陰イオンとして触媒活性金属の有機錯体陰イオンを含むハイドロタルサイトを焼成、還元して形成された触媒からなることを特徴とする炭化水素改質用触媒。例文帳に追加

The catalyst for reforming hydrocarbon comprises the one formed by calcining and reducing hydrotalcite containing an organic complex anion of catalytic active metals as a pair of anions between layers of the hydrotalcite containing a divalent Mg ion and a trivalent Al ion as a constitution metal ion. - 特許庁

本発明に係る燃料電池（１００）の製造方法は、ガス透過性を有する金属支持体（１０）上に酸化物電極の構成金属または酸化物電解質の構成金属からなる保護層（２０）を配置する第１配置工程と、保護層上に酸化物電解質（３０）を配置する第２配置工程と、酸化雰囲気において酸化物電解質および保護層を焼成する焼成工程と、を含むことを特徴とするものである。例文帳に追加

The manufacturing method for a fuel cell 100 comprises a first arrangement process of arranging a protection layer 20 made of formation metal of an oxide electrode or formation metal of an oxide electrolyte on a metal support 10 having gas permeability, a second arrangement process of arranging an oxide electrolyte 30 on the protection layer 20, and a calcining process of calcining the oxide electrolyte and the protection layer under an oxidizing atmosphere. - 特許庁

東京電力管内及び東北電力管内で実施される電力使用制限及び電力使用抑制への協力要請のみを理由として事業活動が縮小した場合は雇用調整助成金の対象とならないが、それ以外の経済上の理由が認められる場合には助成対象となるとする取扱いについて各都道府県労働局に通知（平成23年6月30日）例文帳に追加

Notifying the Prefectural Labour Bureaus that the companies that reduced their business activities just because of the obedience to the limitation of electric power or the cooperation with the electric power control in TEPCO and Tohoku Electric Power area, are not qualified for the Employment Adjustment Subsidies, but if there are other economic reasons, they are qualified. (June 30, 2011) - 厚生労働省

アルカン又はアルケンのアンモ酸化反応に用いられる触媒であって、下記式（Ｉ） Ｍｏ_1Ｖ_aＺ_bＯ_n （Ｉ）（式中、Ｚは、Ｔｅ、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｗ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｐ、Ｂｉからなる群から選択される少なくとも１種類以上の金属元素を示し、ａ、ｂは、それぞれＭｏ１原子あたりのＶ、Ｚの原子比を示し、０＜ａ≦１、０＜ｂ≦１であり、ｎは構成金属の酸化状態によって決まる酸素の原子比を示す。例文帳に追加

The composite metal oxide catalyst is used in the ammoxidation reaction of alkane or alkene, has a composition expressed by the formula of Mo_1V_aZ_bO_n, and its crystal system is a trigonal system. - 特許庁

シャロー・トレンチ分離形成、金属埋め込み配線形成等のリセスＣＭＰ技術及び層間絶縁膜の平坦化ＣＭＰ技術において、酸化珪素膜、金属等の埋め込み膜の余分な成膜層の除去及び平坦化を効率的、高レベルに、かつプロセス管理も容易に行うことができる研磨剤及び研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide an abrasive and a method of polishing a substrate, which can efficiently perform removal of an excessively formed film layer and planarization of a silicon oxide film and an embedded film of a metal or the like with high-level quality and with easy process control in a recess CMP technology such as for shallow trench isolation formation and for embedded metal wiring formation and in a planarization CMP technology for an interlayer insulation layer. - 特許庁

シャロー・トレンチ分離形成、金属埋め込み配線形成等のリセスＣＭＰ技術及び層間絶縁膜の平坦化ＣＭＰ技術において、酸化珪素膜、金属等の埋め込み膜の余分な成膜層の除去及び平坦化を効率的、高レベルに、かつプロセス管理も容易に行うことができる研磨剤及び研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide abrasive and a polishing method that can efficiently remove and make flat the excessive film formation layer of a silicon oxide film and an embedded film, such as metal at a high level and easily control processes in a recess CMP technique, such as shallow trench isolation formation and metal embedded wiring formation, and the planarization CMP technique of an interlayer insulating film. - 特許庁