「照射ターゲット」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

また、陽極12の陽極端30にかける引張力を変えることにより、ターゲット角度52及びX線照射範囲の増加を変化させることができる。例文帳に追加

By changing the tensile force applied to the positive electrode end 30 of the positive electrode 12, the increase of the target angle 52 and that of the X-ray radiation range can be changed. - 特許庁

ターゲットに対して精度良く光学画像を照射することが可能な画像投射装置および画像投射方法を提供する。例文帳に追加

To provide an image projection device and an image projecting method capable of projecting an optical image accurately to a target. - 特許庁

実施の形態に係るＸ線ＣＴ装置は、重粒子線をターゲットに照射することでＸ線を発生させる。例文帳に追加

The X-ray CT device generates X rays by irradiating a target with heavy particle beams. - 特許庁

リング状のＸ線ターゲット７から放出されたＸ線は、すべて所定のＸ線照射領域１１に向かう。例文帳に追加

All of the X rays emitted from the ring-shaped X-ray target 7 go toward a predetermined X-ray irradiation region 11. - 特許庁

判別が難しい軟部組織中の照射ターゲットの位置を直接計測して、位置決め精度を向上させる。例文帳に追加

To improve the precision in positioning by directly measuring the position of an irradiation target in a soft tissue which is difficult to discriminate. - 特許庁

なお、レーザアブレーションの場合、例えば、ＹＡＧレーザ１０からのパルスレーザ光Ｌをターゲット材１２に照射する。例文帳に追加

Further, in the case of laser ablation, a target material 12 is irradiated, for example, with a pulse laser light L from a YAG laser 10. - 特許庁

レーザアブレーション装置１ではＣｕ_２Ｏセラミックロッドをターゲットにしてレーザ光を照射し、量子ドットの集合体を生成する。例文帳に追加

In a laser ablation apparatus 1, a Cu_2O ceramic rod as a target is irradiated with laser light to form an aggregate of quantum dots. - 特許庁

蛍光粒子の製造方法は、溶媒５中のターゲット７にレーザ光線２を照射する方法である。例文帳に追加

The method for producing fluorescent particle is a process of irradiating a target 7 in a solvent 5 with a laser beam 2. - 特許庁

第１光源３０からのパルスレーザ光ＰＬＢ１は、第１光学系７０により導かれ、ターゲット５０に照射される。例文帳に追加

Pulse laser light PLB 1 from a 1st light source 30 is guided by a 1st optical system 70 to irradiate the target 50. - 特許庁

他方のビーム２は下部の全反射鏡４において鏡面反射して折り返され、ターゲットの位相物体７に照射される。例文帳に追加

The beam 2 is reflected by an lower total reflection mirror 4, and then irradiates to a target phase object 7. - 特許庁

基板の第１ターゲット部分に第１パターン付きビームを照射して、基板上に第１パターンを形成する工程を含む。例文帳に追加

In an alignment method, a beam with a first pattern is irradiated to a first target portion of a substrate to form the first pattern on the substrate. - 特許庁

本発明によって、真空チャンバー内においてターゲット物質にイオン照射を行い該ターゲット物質の構成物質を基板に堆積させて薄膜作製を行う成膜法であって、イオン照射とイオン非照射とからなる断続的なイオン照射の第１の動作周期の１周期内に少なくとも１秒以上の非照射時間を設ける、ことを特徴とする成膜方法が提供される。例文帳に追加

In the deposition method performing thin-film formation by irradiating a target material with ions in a vacuum chamber to deposit the constitution material of the target material on a substrate, at least one or more seconds of non-irradiation time is set within one period of a first operation period of intermittent ion irradiation consisting of ion irradiation and ion non-irradiation. - 特許庁

ターゲット物質を供給するターゲットノズル４と、該ターゲットノズルによって供給されるターゲット物質に対してレーザビームを照射することによりプラズマを生成するレーザ発振器１と、該プラズマから放射される極端紫外光を集光するＥＵＶ集光ミラー５と、ターゲット物質に対してレーザビームを照射する位置に非対称な磁場を形成する電磁石コイル６及び７とを有する。例文帳に追加

This extreme ultraviolet light source device includes: a target nozzle 4 for supplying a target substance; a laser oscillator 1 for generating plasma by irradiating the target substance supplied by the target nozzle with a laser beam; an EUV collection mirror 5 for collecting extreme ultraviolet light emitted from the plasma; and electromagnet coils 6 and 7 for forming an asymmetrical magnetic field at a position at which the target substance is irradiated with the laser beam. - 特許庁

実施形態は、照射ターゲット及び照射ターゲットから製造される所望の同位体を収納しつつ、送り出しシステム及び従来の計装管５０を通って不都合なく移動するように大きさ及び形状を規定され、製造され且つ構成されてもよい。例文帳に追加

The embodiment, wherein while the irradiation targets and desired isotope manufactured from irradiation targets are contained, the size and shape may be prescribed, manufactured and constituted so as to move through the delivery system and the conventional instrumentation pipe 50 without problems. - 特許庁

ターゲット照射時間がＸ線停止設定時間以上になると、制御回路４９では駆動回路４８を制御しマイクロフォーカスＸ線発生管球２への電源を停止して電子ビームの発生を停止、ターゲット照射によるＸ線の発生を停止させる。例文帳に追加

When the target irradiation period exceeds an X-ray set stopping time, the control circuit 49 controls a driving circuit 48, the generation of electron beam is stopped by stopping the power supplied to a micro-focus X-ray generating tube 2, and the X-ray generated by the target irradiation is stopped. - 特許庁

本発明の極端紫外光源装置は、メインパルスレーザ光の照射前に、ＣＷ（ＱＣＷを含む）光を所定角度からターゲットに照射することにより、ターゲットを蒸発させて適切な密度及び形状を得る。例文帳に追加

To provide an extreme ultraviolet light source device which can provide appropriate density and shape to a target by irradiating the target with CW (Continuous Wave) (including QCW(Quasi-Continuous Wave)) light from a predetermined angle prior to irradiation of main pulse laser light, thereby evaporating the target. - 特許庁

ターゲット１１を保持するターゲットホルダ１０と、成膜用基板２１を保持する基板ホルダ２０と、電子線を発生する電子線発生装置３０と、電子線収束装置４０と、レーザ光照射装置５０とを備えた電子線補助照射レーザアブレーション成膜装置である。例文帳に追加

The electron beam auxiliary irradiation laser ablation film deposition apparatus is equipped with a target holder 10 which holds the target 11, a substrate holder 20 which holds a substrate 21 for film deposition, an electron beam generator 30 which generates an electron beam, an electron beam-converging device 40 and a laser irradiation device 50. - 特許庁

真空容器内で金属ターゲットにレーザを照射し、該金属ターゲットの照射部から放出された金属原子のクラスターを生成する装置において、生成するクラスターのサイズ分布を狭く制御することを可能とした金属クラスター生成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a metal cluster generating device for generating a cluster of metal atoms emitted from an irradiation unit of a metal target by allowing the metal target to be irradiated with laser beam in a vacuum container which is capable of controlling the size distribution of the generated cluster to be narrow. - 特許庁

ターゲット照射時間が所定位置で所定時間の警告設定時間以上になると、制御回路４９ではターゲット照射時間超過警告でＸ線の発生量が低下するおそれがある警告を報知手段により報知する。例文帳に追加

The control circuit 49 notifies the apprehension of the lowering of the quantity of the X-ray through a notification means by a warning of the excess of the target irradiation period when the target irradiation period at a prescribed position exceeds a prescribed period. - 特許庁

この場合、ターゲット３に対しレーザ光を相対回転移動させながら照射することが好ましく、これによればターゲット３を均一的に照射することが可能となり、粒状となり難い状態の下で蒸発させることができる。例文帳に追加

In this case, it is preferable that the target 3 is irradiated with the laser light while relatively rotating and moving the laser light with respect to the target 3, thereby the target 3 can be uniformly irradiated and evaporated in the state that the formation of particles is almost avoided. - 特許庁

<sup/>^１００Ｍｏをターゲット核として含む原料ターゲットに、加速器からの高速中性子を照射し、１個の中性子の照射により２個の中性子を放出する（ｎ，２ｎ）反応を起させ、^９９Ｍｏを生成させることを特徴とする。例文帳に追加

A fast neutron is emitted from an accelerator to a raw material target, containing ^100Mo as a target nuclei, to produce (n, 2n) reaction for emitting two neutrons by irradiation of one neutron, and ^99Mo is generated thereby. - 特許庁

ターゲットチャンバ１００内の空間１０１に設置された複数のターゲット１１０のうち選択された一のターゲットは、電子ビーム照射系１２０によって照射される電子ビームにより蒸発し、飛行チャンバ３００内の空間３０１を介してプロセスチャンバ２００内の空間２０１に到達し、基板２１０に蒸着される。例文帳に追加

When one target selected from a plurality of targets 110 arranged in a space 101 in the target chamber 100 is irradiated with an electron beam projected from an electron-beam irradiation unit 120, the target is vaporized, passes through a space 301 in the flight chamber 300, arrives at a space 201 in the process chamber 200, and deposits on a substrate 210. - 特許庁

イオンガンよりイオンビームをターゲットに照射して絶縁性の薄膜を基板上に成膜するイオンビームスパッタ装置において、イオンビームの一部が照射される位置に導電材ターゲット３１を配置し、その導電材ターゲット３１よりスパッタアウトされた粒子によってイオンガン１３のグリッド２２に導電膜が堆積される構成とする。例文帳に追加

In the ion beam sputtering apparatus for depositing an insulating thin film on a substrate by irradiating a target with ion beams from an ion gun, a conductive target 31 is arranged at the position where a part of the ion beams are emitted, and a conductive film is deposited on a grid 22 of the ion gun 13 by particles sputtered out from the conductive target 31. - 特許庁

チャンバー１内のターゲット２にパルスレーザ光４を照射することでターゲット材料を瞬間的に蒸発させ、相対する基板３上に蒸発材料の薄膜を成長させる際に、ターゲット２にレーザ光４を照射した時に発生するプルーム５の大きさおよび形状を、光強度のデジタル情報としてマトリックス状に取得する。例文帳に追加

When a target material is instantaneously evaporated by irradiating a target 2 in a chamber 1 with pulse laser beams 4, and a thin film of an evaporation material is deposited on a substrate 3 facing the target, the size and the shape of the plume 5 generated when irradiating the target 2 with the laser beams 4 are acquired in a matrix form as digital information of the light intensity. - 特許庁

メインパルスレーザ光の照射される照射点の直前で、ターゲット２００を気化させてガス状にするため、効率よくメインパルスレーザ光を照射することができる。例文帳に追加

Since the target 200 is vaporized to be in a gaseous state just before an irradiation point where the main pulse laser light is irradiated, the main pulse laser light can be efficiently irradiated. - 特許庁

又、広範囲に角度を有して照射される電子線に対して、その照射を均一に受け、且つ発熱を均一に生じさせることができる電子線照射用ターゲットを提供する。例文帳に追加

The target to be irradiated with a high-voltage and large-current scanned electron beam comprises a number of metal tubes in which a cooling liquid is distributed, arrayed along an irradiation plane of the electron beam. - 特許庁

ターゲット１４は、電子線１２の照射によって第１特性Ｘ線を放射する第１被照射部と、電子線１２の照射によって第１特性Ｘ線と異なる第２特性Ｘ線を放射する第２被照射部とを含む。例文帳に追加

A target 14 includes a first irradiated part being irradiated with a first characteristic X-ray by irradiating an electron beam 12, and a second irradiated part being irradiated with a second characteristic X-ray different from the first characteristic X-ray by irradiating an electron beam 12. - 特許庁

照射部材の電離が可能なエネルギーのレーザ光線を照射部材に瞬間的に照射（ステップＳ１）して高エネルギー粒子を発生させ（ステップＳ２）、この高エネルギー粒子をターゲット材に照射（ステップＳ３）して核反応を誘起する（ステップＳ４）。例文帳に追加

A member to be irradiated is irradiated momentarily with a laser beam having an energy allowing ionization of an irradiation member (step S1) to generate particles of high energy (step S2), and a target material is irradiated with the high-energy particles (step S3) to induce nuclear reaction (step S4). - 特許庁

前記ソース組成物で構成されたソースと、レーザー光を透過可能なターゲットとを接触させ、ソース側又はターゲット側からレーザー光を照射し、前記ソース中の前記機能性低分子材料をターゲット内に注入することにより、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料を製造する。例文帳に追加

The organic electroluminescent element is manufactured by contacting the source constituted of the above source composition with the target capable of transmitting the laser beam and irradiating the laser beam from the source side or target side, and by injecting the functional low molecule material in the source into the target. - 特許庁

また、光軸調整システム１０００は、ターゲットマスク１３０の背面側に配置され、ターゲットマスク１３０に通信光が照射されることによってターゲットマスク１３０に浮かび上がるスポット光を撮影するカメラ３と、このカメラ３によって取得された撮影情報と、に基づいて前記光学部品位置決め手段に位置決め指令を発する制御部と、を備えている。例文帳に追加

The optical axis adjusting system 1000 also includes: a camera 3 arranged on the backside of the target mask 130, for photographing spot light floating on the target mask 130 by irradiating the target mask 130 with the communication light; and a control unit for issuing a positioning command to the optical component positioning means based on photographing information acquired by the camera 3. - 特許庁

電子ビーム２の衝突によりＸ線５を放出するアノードターゲット４と、アノードターゲット４に対向する位置に配置され、電子ビーム２を放出する複数のカソード電極１と、電子ビーム２の照射方向を制御する電子光学系と、アノードターゲット４とカソード電極１と電子光学系とを収容する外囲器と、を有するＸ線管を提供する。例文帳に追加

An X-ray tube includes: an anode target 4 emitting an X-ray 5 by collision of an electron beam 2; a plurality of cathode electrodes 1 arranged at a position facing the anode target 4 and emitting the electron beam 2; an electron optical system controlling an irradiation direction of the electron beam 2; and an envelope housing the anode target 4, the cathode electrodes 1 and the electron optical system. - 特許庁

この多孔質体を得る方法は、無機質材料を含むターゲット及び多孔質基材を用意する工程と、１〜２００Ｐａの雰囲気圧下にターゲット及び多孔質基材を配置し、周波数が５〜５００Ｈｚの範囲内にあるパルスレーザを該ターゲットに照射して該無機質材料の蒸気を発生させ、多孔質基材の表面上に該蒸気を堆積させて多孔質膜を形成する工程と、を含む。例文帳に追加

The method of obtaining the porous body includes a process for preparing a target containing an inorganic material and the porous base material and a process for forming the porous film by arranging the target and the porous base material under 1-200 Pa atmospheric pressure, irradiating the target with pulse laser having 5-500 Hz frequency to produce the vapor of the inorganic material, and depositing the vapor on the surface of the porous base material. - 特許庁

陰極ターゲット２に電気的衝撃を与えて蒸着用プラズマ１０を生成し、蒸着用プラズマ１０中のターゲットイオンをバイアス電圧が印加された試料基板４に導いて薄膜を成膜する成膜装置において、イオン源３で生成されたイオンビーム９を陰極ターゲット２に照射して蒸着用プラズマ１０を生成する。例文帳に追加

In the film forming device in which plasma for vapor deposition 10 is generated by giving an electric impulse on a cathode target 2, target ions in the plasma for vapor deposition 10 are led onto a specimen substrate 4 on which bias voltage is applied and a thin film is formed, the plasma for vapor deposition 10 is generated by irradiating the cathode target 2 with an ion beam 9 generated in an ion source 3. - 特許庁

この二次電池用負極は、ターゲット材及び基材を反応室内に配置し、反応室にヘリウムを導入しながら、ターゲット材にビーム光を照射することにより励起し、脱離したターゲット材に含まれる物質をヘリウムで凝縮・成長させて、柱状構造が配列した構造を有する金属化合物ナノ構造体として前記基材上に堆積する。例文帳に追加

A target material and a base material are disposed in a reaction chamber, beam light is irradiated on the target material to excite it while introducing helium into the reaction chamber, a substance contained in the desorbed target material is condensed by helium to grow it, and thereby the electrode for the secondary battery is deposited on the base material as the metal compound nanostructure having the structure in which the columnar structures are arranged. - 特許庁

カーボンナノホーンの製造方法が、グラファイトからなるターゲット原料をチャンバー内にセットするステップと、大気圧下で、かつ、常温の不活性ガスからなる雰囲気中で、電子加速器から放出される連続電子ビーム又はパルス状電子ビームをターゲット原料に照射することにより、ターゲット原料を溶融、ガス化させるステップを有することを特徴とする。例文帳に追加

A method for producing carbon nanohorns includes: a step of setting a target material comprising graphite in a chamber; and a step of melting and gasifying the target material by irradiating the target material with a continuous electron beam or a pulsed electron beam emitted from an electron accelerator under atmospheric pressure and in an atmosphere at ambient temperature comprising inert gas. - 特許庁

薄膜形成装置は、減圧雰囲気下で、トリガー電極３とターゲット材料１との間でトリガー放電を起こさせ、トリガー放電をきっかけとしてターゲット材料１とアーク電極４との間でアーク放電を発生させ、アーク放電によりターゲット材料１の外周面に発生したプラズマを基板８に照射して、基板８上に薄膜を形成する。例文帳に追加

The thin film forming equipment induces a trigger discharge between a trigger electrode 3 and the target material 1 in a reduced pressure atmosphere, generates an arc discharge between the target material 1 and an arc electrode 4 with the trigger discharge as a start and forms the thin film on a substrate 8 by irradiating the substrate 8 with the plasma generated on the outer peripheral surface of the target material 1 by the arc discharge. - 特許庁

放射線の照射部位数と照射方法により分類されたコードを用いて、放射線治療料金をコンピュータで自動的に計算する際に、解剖学的な部位を無視し、一方向なり多方向から一連の照射として扱えるエリアを設定してターゲットとし、このターゲットの数によって部位数を特定する。例文帳に追加

When the radiation therapy fee is automatically computed on a computer by using codes classified by the numbers of irradiation regions and irradiation method of radiation, anatomical regions are ignored, and an area which can be treated by a series of irradiations from one or many directions is set and is taken as a target, and the number of irradiation regions is specified by the number of targets. - 特許庁

雰囲気ガスとして窒素および酸素が導入された真空容器内において、ＡｌＮターゲットおよびグラファイト等の炭素ターゲットのそれぞれに対しレーザービームを照射し、アブレーションすることにより、加熱された基板上に炭素および酸素含有の低抵抗性ＡｌＮ薄膜を形成する。例文帳に追加

In a vacuum container where nitrogen and oxygen are introduced as atmospheric gas, a laser beam is applied to an AlN target and a carbon target such as graphite for aberration, thus forming the low-resistance AlN thin film containing carbon and oxygen on a heated substrate. - 特許庁

このＸ線レーザー発生装置１０においては、テープターゲット１１へのパルスレーザー励起光の照射時に、第１のモータ１５及び／又は第２のモータ１７に回転トルクを発生させることによって、テープターゲット１１に張力が働く構成とされる。例文帳に追加

In the X-ray laser generating apparatus 10, a rotary torque is produced in a first motor 15 and/or a second motor 17 when a pulse laser excitation light is applied to the tape target 11 to cause tension to act on the tape target 11. - 特許庁

サイクロトロンで陽子を照射されることによりターゲット水に含まれるようになったトリチウムＴをＨＴガスとして大気中へ放出できるようにするため、トリチウム含有ターゲット水を電解セル４に導いて電気分解により分子状酸素^18Ｏ_2とＨＴガスとに分解する。例文帳に追加

For discharging tritium T as HT gas in the air which is contained in target water, by having it irradiated with positrons by a cyclotron, the tritium-containing target water is lead to electrolysis cell 4 and decomposed by electrolysis into molecular oxygen ^18O_2 and HT gas. - 特許庁

真空容器内で回転及び揺動するターゲット１０に真空容器外からレーザビーム１２を照射し、前記ターゲット１０で発生した発光プルーム１４を真空容器内で回転する物品１６にあてて物品に膜を形成する構成とする。例文帳に追加

A laser beam 12 is irradiated to a target 10 rotating and oscillating inside a vacuum vessel from the outside of the vacuum vessel, and luminescent plumes 14 generated in the target 10 are irradiated to an article 16 rotating inside the vacuum vessel to form a film on the article. - 特許庁

画像表示装置は、電子源１０１２と、電子源１０１２から電子が照射される、蛍光体１０２２およびアノード電極１０２５を有するターゲット１０２０と、電子源１０１２とターゲット１０２０との間に配置された中間電極１０３０とを備えている。例文帳に追加

The image display device comprises; an electron source 1012; a target 1020 having the fluorescent material 1022 and an anode electrode 1025, which is irradiated with the electrons emitted from the electron source 1012 ; a middle electrode 1030 arranged between the electron source 1012 and the target 1020. - 特許庁

２から１００ｋｅＶの低エネルギーを有する正イオンを、軽元素を含む絶縁体材料ターゲットへ照射することにより、絶縁体材料ターゲットに含まれる軽元素の特性Ｘ線を発生させることを特徴とする軽元素特性Ｘ線発生方法。例文帳に追加

Positive ions having low energy of 2 to 100 keV is cast on an insulator material target containing light element so that the characteristic X rays of light elment contained in insulator material target is generated in the light element characteristic X-ray generation method. - 特許庁

そして、第１端子形成面と対向する第２端子形成面をターゲットの照射面に対して傾斜させるとともに、第２端子形成面の周囲を少なくとも囲んだ状態で、ターゲットを用いて第２端子形成面に乾式成膜する（ステップＳ１０７）。例文帳に追加

A second terminal forming surface opposite to the first terminal forming surface is tilted to the irradiation surface of the target, and the second terminal forming surface is subjected to dry deposition by using the target with at least a periphery of the second terminal forming surface surrounded (step S107). - 特許庁

ターゲットを密封して保持でき、荷電粒子ビームの照射中の発熱による態の変化に対する補償があり、かつ、密封構造を破らなくても、容易に内部に生成した放射性核種を回収でき、自動かつ遠隔的に生成核種を高効率で回収可能なターゲット保持構造を提供する。例文帳に追加

To provide a target holding structure capable of recovering generated nuclides with high efficiency automatically and remotely which can hold a target in airtight sealing, compensate a phase change caused by heat generation during the irradiation of a charged particle beam, and easily recover internally generated radioactive nuclides without breaking air tight sealing. - 特許庁