「照射ターゲット」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

見かけの焦点サイズを大きくすることなく，ターゲット上の電子ビーム照射領域の表面積を増やして，Ｘ線ビームの強度を大きくする。例文帳に追加

To increase the intensity of an X-ray beam by increasing the surface area of an irradiation region of an electron beam on a target without making large an apparent focal point size. - 特許庁

下地層は、酸化インジウム焼結体をターゲットとして直流スパッタリング法で成膜し、ＩＴＯ層は４重量％の酸化錫を含む酸化インジウム焼結体にアーク放電プラズマを照射して蒸着により成膜する。例文帳に追加

For the ITO transparent conductive film 21 an indium oxide layer 22 as a substrate and the ITO film 23 are laminated on the color filter 24. - 特許庁

ターゲットに照射されるレーザ光の高出力化を容易に実現することが可能であると共に、高い加工精度を有するレーザ加工装置を提供する。例文帳に追加

To provide a laser beam machine which is capable of easily realizing higher output of a laser beam to be cast to a target and has high machining accuracy. - 特許庁

ターゲットは、生体内に挿入されたマーカであり、マーカの３次元位置に基づき、生体に対する放射線治療ビームの照射を制御する。例文帳に追加

The target is a marker inserted in a living body, and irradiation of radiotherapy beams to the living body is controlled based on the three-dimensional position of the marker. - 特許庁

次に、ターゲット１２のうち、照射方向に沿った深さが、第１の領域の深さｄ（＃１ａ），ｄ（＃１ｂ）よりも深い第２の領域１２（＃２）を決定する。例文帳に追加

Next, a second region 12(#2) which has a depth along the irradiation directions deeper than depths d(#1a), d(#1b) of the first regions is determined among the targets 12 and irradiated with the particle beams along the irradiation direction F1 and the irradiation direction F2 respectively through a bolus or an energy filter. - 特許庁

１０^−７Ｐａ以上の真空度に保持された反応室内で、アークプラズマ発生手段としてアークプラズマガンを用いてカーボンをターゲットに照射させ、オニオンライクカーボンを合成する。例文帳に追加

Onion-like carbon is synthesized by irradiating a target with carbon by using an arc plasma gum as an arc plasma generating means in a reaction chamber held at a vacuum degree equal to or in a higher vacuum degree than 10^-7 Pa. - 特許庁

凝集体１１０及び緻密膜１２０から構成される多層構造の各層の厚さ、及び各層の厚さの比は、ターゲット７０へのレーザ光の照射回数を調整することにより調整する。例文帳に追加

A thickness of each layer and a thickness ratio of the layers of the multi-layer structure constituted of the aggregate 110 and the dense film 120 is adjusted by adjusting the number of irradiation times of laser beam onto a target 70. - 特許庁

制御電極の開口軸と制限構造体の開口軸とを高精度に位置決めし、電子を損失することなくターゲットに照射させ、また不要なＸ線の発生を低減する。例文帳に追加

To irradiate a target with no loss of electrons by aligning the axis of the opening of a control electrode and the axis of the opening of a limitation structure with high accuracy, and to reduce generation of unnecessary X-rays. - 特許庁

通常状態（常温、常圧（大気圧）状態）で固体のターゲット物質を、発光領域（レーザ光照射領域）に、適切な密度、サイズで連続的または断続的に供給できるようにすること。例文帳に追加

To make it possible to supply a solid target substance in a normal state (room temperature, ordinary pressure (atmospheric pressure) condition) to a light emitting region (laser beam irradiation region) in a suitable density and size continuously or intermittently. - 特許庁

放射線治療装置においては、電子ビーム１がターゲット２に衝突することにより発生したＸ線が、平坦化フィルタ４と、上下２つの絞り５、６と、マルチ・リーフ・コリメータ７とを介して治療部位に照射される。例文帳に追加

In a radiation therapy instrument, a treated site is irradiated with an X ray produced by the collision of an electron beam 1 with a target 2 through a flattening filter 4, upper and lower restrictors 5 and 6 and a multileaf collimator 7. - 特許庁

ターゲットが設置された壁面までの距離に応じて、レーザ光の出力を自動的に調整して、墨出し作業に最適な略一定の適切な照度で前記壁面を照射するレーザ測量機を提供する。例文帳に追加

To provide a laser surveying instrument that adjusts the output power of a laser beam automatically in accordance with a distance from a wall surface on which a target is disposed, and illuminates the wall surface at an appropriate illumination intensity which is approximately constant and most suitable for a marking operation. - 特許庁

ターゲット層に覆われる基板構造体の交換を不要とし、かつ高尖頭パワーの高繰り返しパルスレーザ光による集光照射でも連続して安定高平均出力のパルスＸ線を発生することができる。例文帳に追加

To generate pulse-form X-rays having a stably high mean output continuously even with condensed light irradiation using a high repetitive pulse laser beam having a high peak power wherein the replacement of a board structure covered with a target layer is made unnecessary. - 特許庁

本発明によれば、ターゲット材料２１０にレーザビーム２０１を照射して基板２１６に成膜処理を行うレーザ蒸着装置２００が提供される。例文帳に追加

In the laser deposition system 200, a target material 210 is irradiated with a laser beam 201, and the substrate 216 is subjected to film deposition treatment. - 特許庁

また、レーザ光Ｌ１の集光照射に伴うターゲット３０からのプラズマ発光Ｌ２を光計測装置４０で計測し、その計測信号を解析装置５０で解析して高速粒子Ｐの発生状態を評価する。例文帳に追加

Moreover, a plasma luminescence L2 from the target 30 resulting from the condensation and irradiation with the laser light L1 is measured by a light measurement device 40 and the measured signals are analyzed by an analyzer 50 to evaluate the state of the generation of the high-speed particles P. - 特許庁

評価対象試料（基板等）４上に、例えばＭｏターゲットのＸ線源１からモノクロメータ２を介してＸ線３が低い角度で照射される。例文帳に追加

An evaluation target sample (substrate or the like) 4 is irradiated with X rays 3 at a low angle, for example, from the X-ray source 1 of an Mo target through a monochromator 2. - 特許庁

ＥＣＲスパッタにおいて、スパッタターゲットのプラズマを基板に照射するとともに、窒素ガス等の反応性ガスをイオン化し、このイオン化した反応性ガスイオンを基板に照射することによって、窒化反応を良好なものとするとともに、高いスパッタリングイールドを得る。例文帳に追加

This ECR sputtering method attains an excellent nitriding reaction and a high sputtering yield by irradiating a substrate with plasma originating from a sputter target, simultaneously ionizing reactive gases such as nitrogen gas and irradiating the substrate with ions of the ionized reactive gas. - 特許庁

基板１０上に所定の形状のラジオアイソトープターゲット原料２０を複数個規則的に配列し、当該基板１０を照射用容器に封入し、原子炉内で放射線を照射することにより、ラジオアイソトープシート１を製造する。例文帳に追加

The radioisotope sheet 1 is manufactured by regularly laying out radioisotope target materials 20 shaped as prescribed on a substrate 10, encapsulating the substrate 10 in an irradiation container and irradiating the container with radiation in a reactor. - 特許庁

ターゲットの表面上の電子ビーム照射領域内に、目的の波長のＸ線を発生するＸ線発生部と、目的の波長のＸ線をほとんど発生しないベースとを存在させることにより、電子ビーム照射領域よりも小さい焦点サイズを作る。例文帳に追加

To make focal point size smaller than the electron beam irradiation region, by having an X-ray generating part of an object wavelength and a base, that hardly generates X-rays of the object wavelength in the electron beam irradiation region on the surface of a target. - 特許庁

Ｘ線管用ターゲット１は、例えば電子線照射部２と、この電子線照射部２を支持するように配置され、かつ強化材を含有する強化型モリブデン合金からなる支持部４と、支持部４に接合され、純モリブデンからなる熱放出部５とを具備している。例文帳に追加

This target 1 for an X-ray tube has, for example, an electron beam irradiation part 2; a supporting part 4 arranged so as to support the electron beam irradiation part 2 and made of a reinforcing type molybdenum alloy containing reinforcement; and a heat radiation part 5 joined to the supporting part 4 and made of pure molybdenum. - 特許庁

イオンガン３と材料源（ターゲット６）との間には、イオンビームＩＢの方向を変化させる磁界を発生する磁界発生部４が設けられ、磁界の向き及び強さを制御してイオンビームＩＢを材料源６の任意の照射領域ＩＢＡに照射させる磁界制御部５を備える。例文帳に追加

A magnetic field generation part 4 for generating a magnetic field to change the direction of an ion beam IB and a magnetic field control part 5 for controlling the direction and strength of the magnetic field to irradiate an optional irradiation area IBA of a material source 6 with the ion beam IB are arranged between an ion gun 3 and the material source (a target 6). - 特許庁

管体６の一端部（下端部）には、電子線放出部９から照射された電子線を管体６の外部に透過させる電子線透過窓部１０ａと、照射された電子線によって励起されるＸ線を発生するターゲット１１とを備える。例文帳に追加

An electron beam transmissive window section 10a which allows the electron beam irradiated from the electron beam emission part 9 to permeate outside the tube body 6 and a target 11 which generates X rays excited by an irradiated electron beam are provided at one end (lower end) of the tube body 6. - 特許庁

固体又は液体の原料ターゲットに加速器からの高速中性子を照射し、１個の中性子の照射により３個の中性子を放出する（ｎ，３ｎ）反応を起させ、放射性同位元素を直接にあるいはベータ崩壊により生成させることを特徴とする。例文帳に追加

Fast neutrons are emitted from an accelerator to a gas raw material target of a solid or liquid, to produce reaction (n, 3n) of emitting three neutrons by the irradiation of one neutron, and the radioisotope is generated directly or by β-decay. - 特許庁

固体又は液体の原料ターゲットに加速器からの高速中性子を照射し、１個の中性子の照射により２個の中性子を放出する（ｎ，２ｎ）反応を起させ、放射性同位元素（但し、Ｍｏを除く）を直接にあるいはベータ崩壊により生成させることを特徴とする。例文帳に追加

Fast neutrons are emitted from an accelerator to a raw material target of a solid or liquid, to produce (n, 2n) reaction for emitting two neutrons by the irradiation of a single neutron, and the radioisotope (excluding Mo) is generated directly or by β-decay. - 特許庁

電子ビーム６８が回転ターゲット１０の外周面に照射されると、電子ビーム照射領域内に存在するＸ線発生材料１４（例えば、タングステン）のみから目的の波長のＸ線が発生し、このＸ線ビーム７０がＸ線取り出し窓７２から取り出される。例文帳に追加

When the electron beams 68 are irradiated on the outer circumference of the rotating target 10, X-rays of an objective wavelength are generated only from the X-ray generating material 14 (for example, tungsten) that exists in the electron beam irradiation region and these X-ray beams 70 are extracted from the X-ray take-out window 72. - 特許庁

ＥＣＲスパッタ装置１は、電子サイクロトロン共鳴によってスパッタターゲットのプラズマを発生し、発生したプラズマを基板１０に照射するＥＣＲスパッタ源２と、反応性ガス等の供給ガスをイオン化し、イオン化したガスを基板１０に照射するイオンビーム源３を備える。例文帳に追加

The ECR sputtering apparatus 1 comprises: an ECR sputtering source 2 which generates the plasma originating from the sputter target by using an electron cyclotron resonance mechanism and irradiates a substrate 10 with the generated plasma; and an ion beam source 3 which ionizes a supplied gas like the reactive gas and irradiates the substrate 10 with the ionized gas. - 特許庁

Ｘ線回折測定における試料固定方法は、ターゲットからＸ線を試料に照射し、試料からの回折されたＸ線を捕捉して計数するために、Ｘ線照射面積を越える中空を有する土台の片面に試料を貼るものである。例文帳に追加

In the sample fixing method of X-ray diffraction measurement, a sample is pasted to one surface of a base having a hollow exceeding an X-ray irradiation area for irradiating the sample with X rays from a target and capturing and counting diffracted X rays from the sample. - 特許庁

プラズマ発生用レーザ光パルスによってターゲット物質から飛散する微粒子に光を照射して帯電させ、帯電した微粒子に電磁力を加えてＸ線経路からそらせる装置において、微粒子の発生タイミングと帯電用の光の照射タイミングを確実に調整する。例文帳に追加

To surely adjust generating timing of fine particles and irradiation timing of charging light in a device in which light is irradiated to fine particles scattered from a target material with a laser beam pulse for generating plasma to charge them, and electromagnetic force is applied to charged particles to deflect them from an X-ray path. - 特許庁

レーザー蒸発による単層カーボンナノチューブの製造装置であって、少なくとも、反応容器と、反応容器内に設置される炭素ターゲット物質と、反応容器内に不活性ガスを導入するためのガス導入手段と、炭素ターゲット物質に照射するレーザを連続発振させるレーザ発振手段とを備えることを特徴とする単層カーボンナノチューブの製造装置とする。例文帳に追加

The apparatus for manufacturing the monolayer carbon nanotube by laser evaporation is characteristically provided with at least a reaction vessel, a carbon target substance installed in the reaction vessel, a gas introduction means for introducing an inert gas into the reaction vessel, and a laser oscillation means for continuously oscillating lasers with which the carbon target substance is irradiated. - 特許庁

時々刻々と変化する処理室内での圧力変動に応じて、ターゲットに照射されている実質的なビーム電流の値を算出可能にするとともに、ターゲットのチャージアップに起因するゆらぎの影響を受けずに正確なビーム電流の測定を可能とするビーム電流測定器を備えたイオン注入装置を提供する。例文帳に追加

To provide an ion implanter comprising a beam current measuring unit which can measure the value of a substantial beam current, with which a target is irradiated, depending on the pressure variation in a processing chamber changing every moment, and can measure an accurate beam current without being affected by a fluctuation caused by the charge up of a target. - 特許庁

純度９８重量％以上のホウ素粉末を焼結させて形成したホウ素焼結物をターゲットとして用いるとともに、該ターゲットに対して、１〜１００Ｐａの圧力条件下及び７００〜１１００℃の温度条件下において、１パルス当り１００〜３００ｍＪのレーザー光を照射することを特徴とする単結晶ホウ素ナノベルトの製造方法。例文帳に追加

The method of manufacturing the single crystal boron nano-belt is performed by using a boron sintered compact formed by sintering boron powder having 98wt.% purity as a target and irradiating the target with 100-300mJ laser beam per 1 pulse under a pressure condition of 1-100Pa and a temperature condition of 700-1,100°C. - 特許庁

ポリマーをターゲットとして使用するパルスレーザーデポジション法によって基板上にダイヤモンド様炭素薄膜を形成する方法において、分子内にベンゼン環を有する線状構造ポリマーをターゲットとして使用し、これにパルス幅が５０ｎｓ以下の紫外光パルスレーザーを照射することを特徴とするダイヤモンド様炭素皮膜の形成方法。例文帳に追加

The method for forming the thin film of diamond-like carbon on the substrate by a pulsed laser deposition method using the polymer as a target, is characterized by employing a linear structured polymer having a benzene ring in the molecule as a target, and irradiating the target with an ultraviolet-light pulsed laser having a pulse width of 50 ns or less. - 特許庁

シリコン基板１０１上に、Ａｌ−Ｏ分子によるメタルモード膜１０２を形成した後、ターゲット２０３に対する高周波電力の供給を停止するなどにより、ターゲット２０３におけるスパッタ状態を停止し、シリコン基板１０１上のメタルモード膜１０２表面に、Ａｒと酸素のプラズマ１１０が照射される状態とする。例文帳に追加

After having formed a metal mode film 102 with an Al-O molecule on the silicon substrate 101, a sputtering state in a target 203 is stopped by stopping the supply of a high-frequency power with respect to the target 203 or the like, and a state that the surface of the metal mode film 102 on the silicon substrate 101 is irradiated with plasma 110 of Ar and oxygen is brought about. - 特許庁

電子放出素子において、電子放出部を、ターゲット材にレーザ光を照射して、ターゲット材からの脱離・射出物質を対向基板に堆積させて薄膜を形成するレーザアブレーション法を用い、電子放出性材料の結晶配向性薄膜を自己整合的に形成させて成る薄膜状電子源とする。例文帳に追加

In this electron emitting element, an electron emitting part is formed as a thin film-like electron source by self-conformably forming a crystal orienting thin film of an electron emitting material by using a laser abrasion method for forming a thin film by accumulating a separating-ejecting substance on an opposed base board from a target material by irradiating a laser beam to the target material. - 特許庁

ターゲットボックス内に封入してプロトン照射することにより^１８Ｆフッ化物イオンを生成する^１８Ｆフッ化物イオン生成原料用の^１８Ｏ濃縮水であって、前記ターゲットボックス封入前に、水中の溶存ガスを除去し、ガスバリアー性を有する容器内に、水に対して易溶性のガスが^１８Ｏ濃縮水中に溶解することを阻止するためのガスと共に封入する。例文帳に追加

The ^18O enriched water for an ^18F fluoride ion generating raw material which generates ^18F fluoride ions when sealed in a target box and irradiated with protons is freed of dissolved gas before sealing in the target box and sealed in a vessel having a gas barrier property in combination with gas for inhibiting dissolution of readily water-soluble gas in the ^18O enriched water. - 特許庁

真空搬送装置１００は、真空室１外に設けられたレーザ距離測定器８１を備えるので、レーザ光を透光部１１３ｂを介してターゲットＴに照射し反射光を受光しターゲットＴとの間の距離を検出し距離に対応する位置情報を所定の分解能（５０μｍ）で検出できる。例文帳に追加

The vacuum transport device 100 includes a laser distance measuring instrument 81 arranged outside the vacuum chamber 1, and can thereby detect positional information corresponding to a distance at predetermined resolution (50 μm) by irradiating a target T with laser light through a translucent part 113b, receiving reflected light, and detecting the distance between the target T and itself. - 特許庁

真空チャンバと、真空チャンバ内を排気する真空排気手段と、蛍光体の成膜材料を加熱蒸発させる蛍光体蒸着手段と、付活剤を含むターゲットを保持するホルダおよびイオンソースを有し、ターゲットにイオンビームを照射する付活剤蒸着手段とを有することにより、前記課題を解決する。例文帳に追加

The device has a vacuum chamber, a vacuum exhaust means that exhausts in the vacuum chamber, a phosphor evaporation means that heats and vaporizes a film-forming material of phosphors, a holder that holds a target containing the activator, an ion source and an activator evaporation means that irradiates a target with an ion beam. - 特許庁

Ｘ線を透過するＢｅ製の出力窓１２が一部に設けられた真空外囲器１１と、この真空外囲器１１内の出力窓１２と対向する位置に配置された陽極ターゲット１５と、この陽極ターゲット１５に照射する電子を発生する陰極フィラメント１８とを具備したＸ線管において、出力窓１２に保護膜１４を形成している。例文帳に追加

With the X-ray tube provided with a vacuum envelope 11 with an output window set at a part made of Be transmitting X-ray, a positive electrode target 15 arranged at a position facing the output window 12 of the envelope 11, and a negative electrode filament 18 irradiating electrons at the positive electrode target 15, a protective film 14 is formed at the output window 12. - 特許庁

荷電粒子ビームを生成する加速装置５１、５２と、その荷電粒子ビームが照射されることにより放射線を放射するターゲット５３と、ターゲット５３に流れる電流を測定するセンサ５７と、その放射線の線量を測定する線量計５６と、その電流とその線量とに基づいて加速装置５１、５２を制御する制御装置６０とを備えている。例文帳に追加

The radiotherapy instrument includes accelerators 51 and 52 generating charged particle beams, a target 53 radiating radiation by being irradiated with the charged particle beams, a sensor 57 measuring electrical current flowing through the target 53, a dosimeter 56 measuring the dosage of the radiation, a controller 60 controlling the accelerators 51 and 52 on the basis of the electrical current and the dosage. - 特許庁

クラスター成膜装置は、ターゲットＴを蒸発させてクラスターを生成するようにターゲットの蒸発面にレーザを照射するレーザ手段と、生成したクラスターを閉込めるクラスター生成室３１を有するクラスター生成本体１２と、基板Ｓをその成膜面がクラスター生成室内に臨ませられるように保持するホルダ１３とよりなる。例文帳に追加

The cluster deposition apparatus includes: a laser device for radiating a laser beam on an evaporation surface of a target so as to generate the cluster by evaporating the target T; a cluster generation body 12 having a cluster generation chamber 31 for trapping the generated cluster; and a holder 13 for holding the substrate S so that a deposition surface of the substrate faces the inside of the cluster generation chamber. - 特許庁

【解決手段】対向した電流電圧導入電極，電気絶縁性を有する真空気密性を有する容器、前記容器内に前記電流電圧導入電極に接続されたＸ線を放射するターゲット及び前記ターゲットに電子線を照射する電子銃を備えているＸ線管であって、前記容器内の表面付近に前記容器の二次電子放出係数未満の二次電子放出係数をもつ物質を配置するものとする。例文帳に追加

The X-ray tube comprises: current voltage lead-in electrodes facing each other; a container with electric insulation property and vacuum air tightness; and in the container, a target connected to the current voltage lead-in electrodes, from which X-ray is radiated; and an electron gun for irradiating the target with electron beams. - 特許庁

２から１００ｋｅＶの低エネルギーを有する正イオンを、軽元素及び重元素の少なくともいずれかの元素を含む絶縁された導電体材料ターゲットへ照射することにより、導電体材料ターゲット中に含まれる軽元素又は重元素から４ｋｅＶ以下の低エネルギー特性Ｘ線を発生させることとする。例文帳に追加

Positive ions having low energy of 2 to 100 keV are cast on an insulated conductor material target including at least either one of a light element and a heavy element so that the low energy characteristic X-rays of not more than 4 keV are generated from the light element or the heavy element included in the conductor material target. - 特許庁

本発明の酸化物超電導薄膜の製造方法は、ターゲット１にレーザー光３を照射することによりターゲット１から飛散した物質４を基板１０上に蒸着させるレーザー蒸着法により、サファイア単結晶基板１１を含む基板１０上に酸化物超電導薄膜１３をクラックなしに０．７μｍを超える膜厚で形成することを特徴とする。例文帳に追加

In the process for producing the oxide superconductive thin film, an oxide superconductive thin film 13 is deposited on a substrate 10 including a sapphire single crystal substrate 11 so as to have the film thickness exceeding 0.7 μm without any crack, by a laser beam vapor deposition method in which the substance 4 scattered from a target 1 by irradiating the target 1 with laser beams 3 is vapor-deposited on the substrate. - 特許庁

ターゲットにレーザー光を照射してプラズマを生成し、前記プラズマから放射される光を取り出す光源装置であって、前記ターゲットの位置を検出する第１の検出手段と、前記レーザー光の集光点の位置を調整する調整手段と、前記第１の検出手段が検出する前記ターゲットの位置と前記レーザー光の集光点が一致するように、前記調整手段を制御する第１の制御部とを有することを特徴とする光源装置を提供する。例文帳に追加

This light source device generating plasma by irradiating the target with laser beam and taking out the light emitted by the plasma has a first detection means detecting the position of the target, an adjustment means adjusting the position of the condensing point of the laser beam, and a first control part controlling the adjustment means so that the position of the target detected by the first detection means coincides with the condensing point of the laser beam. - 特許庁

計測システム１は、鋼管２内にレーザー光を鉛直に照射するためのレーザー鉛直器４と、鋼管２内の任意の深さ位置に設置可能で、レーザー鉛直器４から照射されるレーザー光を受光するためのターゲット５と、ターゲット５上に照射されたレーザー光の到達位置を撮影するための撮像装置６と、撮像装置６により撮影した映像を表示するための表示装置７と、を備える。例文帳に追加

The measurement system 1 includes: a laser plumb gauge 4 for vertically applying laser beams into the steel plate 2; a target 5 which is installable at an optional depth position within the steel plate 2 and receives laser beams emitted from the laser plumb gauge 4; an imaging apparatus 6 for photographing arrival positions of laser beams applied onto the target 5; and a display device 7 for displaying an image photographed by the imaging apparatus 6. - 特許庁

被溶接部材１，２同士を重ね合わせてレーザービームをその重ね合わせ方向に照射して重ね継手Ｔを形成するに際し、レーザービームの照射側の被溶接部材１の表面に、レーザー倣い溶接のターゲットとなる被溶接線Ｌを形成し、この被溶接線Ｌに倣わせてレーザービームを照射する。例文帳に追加

A welding line L which is used as a target of the laser profiling welding is formed on the surface of the member to be welded 1 on the irradiated side with the laser beam when the lap joint T is formed by lapping the members to be welded 1 and 2 and irradiating the members with the laser beam in the lapped direction, the members are irradiated with the laser beam by profiling the welding line L. - 特許庁