「２つのステージ」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ステージ駆動機構により移動可能な粗動ステージ１と、粗動ステージ上において該粗動ステージの移動方向と同方向に移動可能であって十分に小さいストローク範囲で移動可能な位置微調整機構を持つ微動ステージ２とを備える。例文帳に追加

This stage device is equipped with the coarse-movement stage 1 being movable by a stage driving mechanism and the fine-movement stage 2 being movable on the stage 1 in the same direction as the moving direction of the stage 1 and having a fine position adjustment mechanism capable of moving it in a sufficiently small stroke range. - 特許庁

ワイヤ６０は、ステージ２の略重心を通りかつステージ２の移動方向に沿った軸線上に配置されている。例文帳に追加

The wire 60 is arranged on the axis along the moving direction of the stage 2 by passing through the substantial center of gravity of the stage 2. - 特許庁

整列ステージ２は、供給された複数の物品を整列させる。例文帳に追加

The alignment stage 2 aligns a plurality of articles that have been supplied. - 特許庁

このステージ１０３上でパネル２の欠陥画素１０５を観察する。例文帳に追加

The defective pixel 105 of the panel 2 is observed on this stage 103. - 特許庁

被処理基板１は反応室３内のステージ２にセットされ、ステージ２は所定の回転数で回転される。例文帳に追加

A substrate 1 to be treated is set on a stage 2 in a reaction chamber 3 and the stage 2 is rotated at a prescribed rotating speed. - 特許庁

倒立顕微鏡本体１はステージ２の下方にレボルバー５を有している。例文帳に追加

An inverted microscope body 1 has a revolver 5 below a stage 2. - 特許庁

対物レボルバ４は試料ステージ２の上方に設置される。例文帳に追加

The objective revolver 4 is installed at the upper portion of the sample stage 2. - 特許庁

試料室１には試料ステージ２が収納され、試料ステージ２上には試料３が載置されている。例文帳に追加

A sample stage 2 is housed in a sample chamber 1, while a sample 3 is placed on the sample stage 2. - 特許庁

Ｙ位置検出器２はステージ１までの距離を測定してステージ１のＹ軸方向の位置を検出する。例文帳に追加

A Y-position detector 2 measures the distance up to a stage 1 and detects the position of the stage in the Y-axis direction. - 特許庁

ガラス板９９は一定の速度ｖで移動され、ステージ２の位置ｄはステージ位置検出装置４により検出される。例文帳に追加

A glass plate 99 is moved at a fixed speed v, and a position d of a stage 2 is detected by a stage position detecting device 4. - 特許庁

トランスコンダクタンスステージ（６）は、増幅ステージ（１）の出力電圧（Ｖｏｕｔ）と実質的に比例する電流を入力抵抗（２）に流す。例文帳に追加

The transconductance stage (6) lets a current substantially proportionate to the output voltage (Vout) of the amplifying stage (1) flow to the input resistor (2). - 特許庁

ステージ３及びステージ駆動装置４は、物体Ｍとプロジェクタ１及び撮像装置２との間の所定方向の相対走査を実行する。例文帳に追加

A stage 3 and a stage driving device 4 execute relative scan in a predetermined direction between the object M and the projector 1 and the imaging apparatus 2. - 特許庁

ステージ３０は該ステージ３０に対するカセット２の装脱が可能な位置であるカセット装脱位置に位置している。例文帳に追加

The stage 30 is placed at a cassette loading/ejecting position where a cassette 2 is loaded/ejected to/from the stage 30. - 特許庁

これにより挟み部材６は、収納部２内のステージ３上方で水平状態を保持しながら、ステージ３とは独立に上昇、下降できる。例文帳に追加

Thereby, the pinching member 6 can be raised or lowered independently of a stage 3 while holding a horizontal state above the stage 3 in the storage unit 2. - 特許庁

２組の成形型を用いて、成形サイクルを半サイクルずらして成形ステージ３と加熱冷却ステージ１，２とを用いる。例文帳に追加

Two pairs of molds are used for the molding state 3 and the heating and cooling stages 1, 2, while molding cycles are shifted from each other for each half cycle. - 特許庁

エネルギービームの射出装置１２と、ステンシルマスク６を保持するマスクステージ２２と、半導体ウェーハ４を保持する試料ステージ２と、マスクステージ２２と試料ステージ２を相対的に振動させる振動発生機構２３を備えている。例文帳に追加

The energy beam irradiator is provided with an energy beam emitting device 12, a mask stage 22 for holding the stencil mask 6, a specimen stage 2 for holding the semiconductor wafer 4 and a vibration generating mechanism 23 which causes the mask stage 22 and the specimen stage 2 to relatively vibrate. - 特許庁

そして、送り出しステージ３の回動テーブル２１は、載置された物品を送り出すときに、整列ステージ側の端部３１ｂによって整列ステージ２から供給される物品の移動を規制する。例文帳に追加

The rotation table 21 of the delivery stage 3 regulates the movement of the articles supplied from the alignment stage 2 by an edge 31b on the alignment stage side when delivering the placed articles. - 特許庁

１）仕切り２５によって、いくつかの領域に一体的に分割されたステージ、２）分割されたステージ毎にステージ温度を設定し、維持する機構２７、３）分割されたステージ毎に熱伝導用ガス流量及び圧力を設定し、維持する機構２８を具備すること。例文帳に追加

The dry etching method and system comprises (1) stages divided integrally into some regions by a partition 25, (2) a mechanism 27 for setting up and maintaining the stage temperature respectively for the divided stage, and (3) a mechanism 28 for setting up and maintaining the quantity of gas flow and pressure for heat conduction and pressure respectively for the divided stages. - 特許庁

ステージ位置設定回路４はＣＰＵ３から供給されたデータにより、ステージ１が変位していない場合のＹ位置検出器２とステージ１との間の距離を表す信号を出力する。例文帳に追加

A stage position setting circuit 4 outputs a signal representing the distance between the Y-position detector 2 and the stage 1 when stage 1 is not displaced according to the data supplied by a CPU 3. - 特許庁

このことは、（１）熱をレチクル及び短行程ステージ部材を介して伝導させ、（２）熱を短行程ステージから長行程ステージへ放射式に伝達し、（３）熱を長行程ステージから散逸させるために対流及び冷却システムを使用することによって行われる。例文帳に追加

(1) Heat is conducted through a reticle and short stroke stage members, (2) heat is radiantly transmitted from the short stroke stage to a long stroke stage, and (3) a convection and cooling system is used for dissipating the heat from the long stroke stage. - 特許庁

サブステージ２は、メインステージ３に寄り添って移動し位置決めされるとともに、メインステージ３と外部との流体の流出入を仲介するものである。例文帳に追加

The sub-stage 2 is positioned by moving close along the main stage 3 and intermediates the outflow the inflow of fluid between the main stage 3 and the outside. - 特許庁

中心に成形ステージ３を配し、成形ステージ３の両側に加熱冷却ステージ１，２を対向する形で配して素子成形装置とする。例文帳に追加

This device for molding an element is obtained by disposing a molding stage 3 at the center and further disposing heating and cooling stages 1, 2 on both the sides of the molding stage 3 in a faced form. - 特許庁

塗布装置は、基板７を載置するステージ４と、ステージ内に取り付けられて当該ステージを加熱するヒーター４１と、ステージ４に載置された基板７が塗布後の搬送に適した温度に加熱されるようにヒーター４１を制御する制御手段と、ステージ４に載置された基板７に対して処理液を流下するノズルユニット２とを備えている。例文帳に追加

The applicator comprises a stage 4 on which the substrate 7 is mounted, a heater 41 which is installed in the stage and heats it, a controlling device which controls the heater 41 so that the substrate 7 mounted on the stage 4 is heated up to the temperature suitable for conveyance, and a nozzle unit 2 which lets a treatment liquid run down to the substrate 7 mounted on the stage 4. - 特許庁

そして、最終出力行列が２^Ｎ行の送信シンボルを有するまで、各々の次のブロックレベルステージｎで、前のステージの２^ｎ−１×２^ｎ−１出力行列が２^ｎ×２^ｎ出力行列に符号化される。例文帳に追加

Then, until the last output matrix contains 2^N lines of transmission symbols, in each of successive block-level stage n, 2^n-1×2^n-1 output matrix in a previous stage is encoded to a 2^n×2^n output matrix. - 特許庁

ライフサイクルステージは、製品のライフサイクルの相互に関係する段階のひとつをいう。例文帳に追加

2 A life cycle stage is one of the interconnected steps in a product's life cycle.  - 経済産業省

堆積抑制用ガスは、基板ステージ２と基板９との間で熱を伝える熱伝達用に兼用される。例文帳に追加

The deposition suppressing gas also acts for transferring heat between substrate stage 2 and substrate 9. - 特許庁

本発明の基板載置装置２のステージ２１は、基板をその上面に載置して移動する。例文帳に追加

The stage 21 of the substrate mounting apparatus 2 travels with a substrate mounted on its upper surface. - 特許庁

そして、本発明の１つの実施形態に係るパイプライン型Ａ／Ｄコンバータは、複数のステージのうち少なくとも１つのステージは、Ｎビットの副デジタル信号を出力する場合に、伝導関数のステージゲインが２^N-K-1で、且つ折返し数が２^N−２となり、整数Ｋが１≦Ｋ≦Ｎの関係を有している。例文帳に追加

When a sub digital signal of N bits is outputted in at least one of the stages in the pipelined A/D converter, the stage gain of a transfer function is 2^N-K-1, the number of returns is 2^N-2 and an integer K satisfies a relation of 1≤K≤N. - 特許庁

生体臓器支持装置１は、生体動物１８の臓器２０を載せるための支持ステージ２を備える。例文帳に追加

This living body organ support device 1 has a support stage 2 for mounting an organ 20 of a living-body animal 18. - 特許庁

ＸＹステージ２を最終の露光位置からアンローディング位置Ｕへ移動させると、ここに待機していた排出用搬送ロボットのアーム４がＸＹステージ２の溝部６に差し込まれ、このアーム４を上昇させることにより基板３が持ち上げられてＸＹステージ２から排出される。例文帳に追加

When an XY stage 2 is moved from a final exposure position to an unloading position U, an arm 4 of a conveyer robot for ejection waiting at the unloading position is inserted into a groove 6 of the XY stage 2 and raised to elevate and eject a substrate 3 from the XY stage 2. - 特許庁

ウェハステージ４に取り付けた顕微鏡６ａでプローブ針２の先端を検出する。例文帳に追加

The front tip of the probe 2 is detected by a microscope 6a fitted to a wafer stage 4. - 特許庁

その後、絶縁性基板１を高温ステージ２に接触させて熱処理を行う。例文帳に追加

After then, the insulated substrate 1 is taken heat- treatment by contacting with the high temp. stage 2. - 特許庁

ステージ装置は、真空容器１内部に、ステージ２、これに駆動源３０からの駆動力を伝達する伝達部３、ステージ２に空気等の流体を供給及び回収する伸縮スパイラル４及び第１、第２回収手段５０、６０を概略備えたものとなっている。例文帳に追加

A stage device is provided with a stage 2, a transmitting section 3 which transmits a drive force from a drive source 30 to the stage 2, an expansion spiral 4 and first and second collecting means 50 and 60 both of which supply and collect fluids, such as air, etc., to and from the stage 2 in a vacuum vessel 1. - 特許庁

そして、合紙２３を取り除いた状態で平面状板材２を次のステージまで搬送する。例文帳に追加

The flat plate material 2 is conveyed to the next stage in a state that the slip sheet 23 is removed. - 特許庁

本発明に係る半導体製造装置１は、ウエハ５を切削するブレード３と、ウエハ５のブレード３による切削が行われるステージ２と、ステージ２へのウエハ５の搬入、及びステージ２からのウエハ５の搬出を行う搬送機構８と、ウエハ５の搬出の後にステージ２を清浄化する切削屑除去機構１１とを備える。例文帳に追加

The apparatus 1 for producing the semiconductor includes: a blade 3 for cutting the wafer 5; the stage 2 on which the wafer 5 is cut with the blade 3; a carrying mechanism 8 for carrying the wafer 5 onto the stage 2 and carrying the wafer 5 out of the stage 2; and a swarf removal mechanism 11 for cleaning the stage 2 after the wafer 5 is carried out. - 特許庁

印刷時には、ステージ２が上昇して基板１の上面がマスク面に接触する。例文帳に追加

The stage 2 is raised and the upper face of the board 1 comes into contact with a mask face during printing. - 特許庁

また、電動ステージ２に取り付けたリニアスケール３により、センサユニット１の位置を測定する。例文帳に追加

Also, the position of the sensor unit 1 is measured by a linear scale 3 that is mounted to the electric stage 2. - 特許庁

塗布基板５を載置するための吸引ステージ１と、この吸引ステージ１を取り囲むように設けられた触媒層形成チャンバー２と、触媒と結着材からなる混合物を触媒層チャンバー２内の吸引ステージ１上に供給する混合物供給部３とを備える。例文帳に追加

This is equipped with a suction stage 1 to place a coating substrate 5, a catalyst layer forming chamber 2 installed so as to surround this suction stage 1, and a mixture supply part 3 to supply a mixture consisting of a catalyst and a binder on the suction stage 1 in the catalyst layer chamber 2. - 特許庁

切替部品が、ステージ１に載置されるエキスパンドリング２と、ステージ１に磁力により装着され固定されるエリアリング４と、エキスパンドリング２の上方に設けられたクランパ３と、ステージ１に設けられたリング有無検出センサ１１と、リング方向検出センサ１２とである。例文帳に追加

The replacement components include an expanding ring 2 placed on the stage 1, area ring 4 attached and fixed by a magnetic force on the stage 1, clamper 3 disposed above the expanding ring 2, ring presence/absence detecting sensor 11 provided to the stage 1 and ring direction detecting sensor 12. - 特許庁

被処理体（基板３０）を載置するステージ本体２を有し、該ステージ本体２のステージ面２ａ周縁の外側に、全周に亘って少なくとも表面が凹凸面となった磨りガラスによる乱反射面３ａが設けられている。例文帳に追加

The stage has a stage body 2 for mounting a workpiece (substrate 30), and an irregular reflection surface 3a composed of ground glass of which at least the surface is rugged is formed over the whole periphery of the outside of a peripheral edge of a stage surface 2a of the stage body 2. - 特許庁

加工液２を溜める密閉タンク３と、密閉タンク３内の加工液２中に浸漬され、静圧軸受で支持され、被加工物５を保持する加工用ステージ６と、密閉タンク３の外に設けられ、加工用ステージ６を移動させる駆動ステージ２８とを備える。例文帳に追加

This processing device is provided with a closed tank 3 for storing a processing liquid 2; a processing stage 6 soaked in the processing liquid 2 in the closed tank 3, held by a static bearing for holding a work piece 5; and a driving stage 28 provided outside the closed tank 3, for moving the processing stage 6. - 特許庁

処理を施す対象物を設置する移動可能なステージ2(33)と、当該ステージ2(33)に設けられたロボットアーム４を備えた処理手段144と、を有する、処理装置。例文帳に追加

The treating apparatus includes the treating apparatus which has a treating means 144 having a movable stage 2(33) for setting the target objects to be treated and a robot arm 4 disposed on the stage 2(33). - 特許庁

全ての隔壁が透明である、予め定められた形状のステージ１と、ステージ１の隔壁１０をステージ１の外側から可視光で照明する少なくとも一つの照明装置２と、照明装置２で照射されたステージの内部を撮影する撮影装置３と、隔壁１０の内側を覆う透明な再帰性反射材を含む。例文帳に追加

The image photographing system includes a stage 1 of a predetermined shape with all partition walls transparent, at least one illuminator 2 which illuminates the partition walls 10 of the stage 1 with visible light from the outside of the stage 1, a photographing unit 3 which photographs the interior of the stage illuminated by the illuminator 2, and a transparent retroreflective material covering the inside of the partition wall 10. - 特許庁

被燃焼物の誘導加熱による熱分解ステージと、ここでガス化された被燃焼物を焼却する誘導加熱によるガス焼却ステージ１と、前記熱分解ステージ２へ被燃焼物を投入する投入口３４に取り付けた搬送装置３とから成る。例文帳に追加

This system comprises a heat decomposition stage by the induction heating of a combustion object matter, a gas incinerating stage 1 by the induction heating of incinerating the combustion object matter that has been gasified by the former stage and a conveying device 3 fitted to a charging hole 34 from which the combustion object matter is charged into the heat decomposition stage 2. - 特許庁

半導体ウェハが大型化した場合における、検査装置における（１）ステージの加速・減速制御の複雑化、（２）スループット低下、（３）ステージ反転動作時のステージ支持台の振動増大（分解能劣化）等の問題を解決する。例文帳に追加

To solve problems in an inspection device such as (1) complication of acceleration/deceleration control of a stage, (2) degradation of throughput and (3) vibration increase (resolution degradation) of a stage support base in stage reverse operation when the size of a semiconductor wafer is increased. - 特許庁