「２つのステージ」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

Ｘθ、Ｙθステージ２、３の回転中心を共有させ、この共有回転中心と球面レンズＷの球面中心とが一定の関係になるようにＸステージ４、Ｙステージ５及びスペーサ６の厚さを設定する。例文帳に追加

The center of rotation is shared for the Xθ, Yθ stages 2, 3, and the thickness of the X stage 4, the Y stage 5 and the spacer 6 is set so that the shared center of rotation has a fixed relation with the spherical center of the spherical lens W. - 特許庁

基台Ｂ上にステージ２を、複数の第１の支持ユニット１２により支持し、複数の駆動機構４により、前記ステージ２を縦横移動可能に、且つ旋回可能に駆動する構成とする。例文帳に追加

The stage 2 is supported on the base B by a plurality of first support units 12, and the stage 2 is driven to be movable longitudinally and laterally and to be swingable, by a plurality of driving mechanisms 4. - 特許庁

ステージが、ウェハＷを保持し加熱冷却装置１１とを有するステージ部１と、該ステージ部を移動するステージ機構部２と、この両者の間に介在する断熱部３とより構成され、この断熱部が、第１と第２の断熱体３１，３２と、これらの断熱体の間に挟持される放熱体３３とからなっている。例文帳に追加

The stage comprises a stage section 1 for holding a wafer W and having a heating/cooling unit 11, a stage mechanism section 2 for moving the stage section, and a heat insulating section 3 interposed between them therein the heat insulating section comprises first and second heat insulators 31 and 32, and a heat dissipator 33 clamped between. - 特許庁

落射蛍光観察時に、ステージ２上に載置された観察試料３とステージ２上部に位置する対物レンズ８先端との間の光路を遮光部材１８で覆うようにする。例文帳に追加

At the time of vertical fluorescence observation, an optical path between the observation sample 3 placed on a stage 2 and the edge of an objective 8 positioned above the stage 2 is covered with the shading member 18. - 特許庁

一方、送信機会が得られなかった残りの子機は、ステージ２に進み、ステージ２中のタイムスロットから１つのタイムスロットをランダム選択する。例文帳に追加

On the other hand, residual extensions not acquiring the transmission opportunity proceed to a stage 2, and select at random one time slot from time slots in the stage 2. - 特許庁

Ｘ−Ｙステージ２上を移動するキャリッジ５に光学レンズを装着し、且つ前記Ｘ−Ｙステージ２上に２対のキャリッジ駆動パルスモータ７，９及びそれぞれの原点センサ１０を配置する。例文帳に追加

An optical lens is mounted on a carriage 5 which moves on a X-Y stage 2, and two pairs of carriage driving pulse motors 7 and 9 and each origin sensor 10 are arranged on the X-Y stage 2. - 特許庁

略水平かつ横長に置かれたコンテナ２を接近させることが可能なステージであって前記コンテナ２の床面４と略同じ高さレベルで重量積載物１０を載置できるステージ５を設ける。例文帳に追加

The carrying-in device is provided with a stage 5 allowing the approach of a container 2 placed almost horizontally and long sideways and placing the heavy load 10 on the almost same height level as a floor face 4 of the container 2. - 特許庁

この状態で連結部３Ａ〜３Ｃで受動ステージ９をそれぞれ方向Ｄ２，Ｄ４，Ｄ６に直交する方向Ｄ１，Ｄ３，Ｄ５に駆動することによって、可動ステージ２に変形や歪を生じさせることなく、可動ステージ２を並進方向及び回転方向に位置決めする。例文帳に追加

In such a state, the stages 9 are driven in directions D1, D3 and D5 orthogonal to the directions D2, D4 and D6 by the coupling parts 3A to 3C respectively, whereby the movable stage 2 is positioned in a translating direction and a rotating direction without being deformed or distorted. - 特許庁

補正出力値計算装置は、干渉計４によって測定されたウエハステージ２の位置とウエハステージ２の目標位置との差に応じて、ビーム位置補正コイル８に流す電流の補正量を計算する。例文帳に追加

This compensation output value calculator calculates an amount of compensation for the current flowing on a beam position compensation coil 8, depending on a difference between a position of a wafer stage 2 measured by the interferometer 4 and a target position of the wafer stage 2. - 特許庁

測定対象となる半導体基板４を分割構造のステージ２で挟持し、半導体基板４の外周面とステージ２の外周面とで、半導体基板４の外周面を中心とする平坦部Ｆを形成する。例文帳に追加

The semiconductor substrate 4 for measurement target is sandwiched by a stage 2 of divided structure, and a flat part F centering around the outer circumferential surface of the semiconductor substrate 4 is formed by the outer circumferential surface of the semiconductor substrate 4 and the outer circumferential surface of the stage 2. - 特許庁

建設領域に隣接して、水平の作業ステージ２を施工し、この作業ステージ２上でＰＣ部材Ｐを製造し、製造したＰＣ部材ＰをクレーンＣで移動して、組立て施工していく。例文帳に追加

Work for a horizontal working stage 2 is executed adjacently to a construction area; the PC member P is manufactured on the working stage 2; and the manufactured PC member P is transferred by a crane C, so as to be assembled for execution of work. - 特許庁

真空引用連結部材２０を、吸着ステージ２の吸引口９に連結した状態で、エアを吸引して吸着ステージ２の吸着面２ａにワークＷを吸着させる。例文帳に追加

With a connection member 20 for evacuation connected to the suction port 9 of the suction stage 2, workpieces W are sucked to the suction surface 2a of the suction stage 2 by sucking air. - 特許庁

反応炉２と、この反応炉２内に配設されたステージ３と、成膜用ガス供給系１３，１４と、プラズマ発生装置（９，１０，１２）と、ステージ３の内部に配設された基板加熱ヒータ４Ａとを有したプラズマCVD装置１である。例文帳に追加

This equipment has a reaction furnace 2, a stage 3 provided inside the reaction furnace 2, film-forming gas supply systems 13, 14, plasma generation apparatus (9, 10, 12), and a substrate-heating heater 4A provided inside the stage 3. - 特許庁

自動化ライン１のステージ群を取り囲むように安全柵２を設け、安全柵２の扉３に扉安全装置４を設けるとともに、隣接するステージ同士の間にはＳＴＧ間安全装置５を設ける。例文帳に追加

A safety fence 2 having a door 3 is installed in such a fashion as surrounding a bunch of stages of the automation line 1, each door 3 of the safety fence 2 being fitted with a door safety device 4, and an inter-STG safety device 5 is installed between adjoining stages. - 特許庁

真空源４０に接続されたバキュームノズル１３と、ブラシ１４とを備えたアーム１２が、基板保持ステージ２上を移動し、ブラシ１４がステージ２上の異物を擦って除去する。例文帳に追加

A vacuum nozzle 13 connected to a vacuum source 40 and an arm 12 provided with a brush 14 move on the substrate holding stage 2, and the brush 14 rubs to remove the dust particles on the stage 2. - 特許庁

頚部に関節（４）を設けた支持柄（１）上端に磁力体設置用のステージ（２）を転回可能に取付け、該ステージ（２）にマグネット片（３）を設置してなる磁力牽引するシャッター閉鎖装置。例文帳に追加

A stage (2) for installing a magnetic force body is rotatably attached to the upper end of the support lever (1) providing a joint (4) on a neck part, and the magnet piece (3) is installed on the stage (2). - 特許庁

薄肉部品１を載置したステージ２を投光部３ａと受光部３ｂとの間に通過させ、ステージ２を含めた薄肉部品１の投影形状によって平面度を測定する。例文帳に追加

A stage 2 where the thin components 1 are placed is passed between the light source section 3a and the light reception section 3b, thus measuring flatness by the projected shape of the thin components 1 including the stage 2. - 特許庁

固定ステージ２にバッキングフィルム５を固定し、押圧プレート３を加熱した状態で、固定ステージ２に固定されたバッキングフィルム５に押圧し、バッキングフィルム５の端面部分を熱破壊してシーリングを行う。例文帳に追加

A backing film 5 is fixed to a fixing stage 2, a pressing plate 3 is pressed against the backing film 5 fixed to the fixing stage 2 in a state of being heated, and the edge face part of the backing film 5 is thermally destroyed, to perform sealing. - 特許庁

ステージ８４からはみ出る基板２のはみ出し距離Ｌが、ステージ８４上に吸着保持される基板２の大きさに拘わらず、常に一定となるように制御器８６は制御する。例文帳に追加

The distance L of a substrate 2 that protrudes from a stage 84 is controlled by a controller 86 so as to be always constant irrespective of the size of the substrate 2 held by adsorption on the stage 84. - 特許庁

保持部１１を後退させる際に、ステージ１０上に吸着していくセル２の上を、押さえ部材１３が通過して、当該押さえ部材１３が、セル２の浮き上がり部をステージ１０側へ押さえる。例文帳に追加

When the holding part 11 is retreating, a pressing member 13 moves on the cell 2 which is being sucked onto the stage 10 so that the pressing member 13 presses a floated part of the cell 2 to the stage 10 side. - 特許庁

この装置を用いて、薄板１を移送して、ステージ２の凹凸に対応する位置に配置する工程と、薄板１をステージ２に吸引する工程とを実施する。例文帳に追加

A process of carrying the thin plate 1 and disposing it at a position corresponding to the unevenness of the stage 2 and a process of sucking the thin plate 1 onto the stage 2 are conducted by using this device. - 特許庁

電子部品６の接合加工を行う為の装置であって、電子部品を載置するステージ１と、ステージの下方から不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段５と、ステージを覆う如く設けられた略逆碗形状体２と、ステージの略中央部上方に対応する位置において略逆碗形状体に形成された開口部３とを有する電子部品接合加工装置。例文帳に追加

A device to join an electronic component 6 is provided with a stage 1 to place an electronic component, an inert gas supply means 5 to supply an inert gas from below the stage, a roughly inverted bowl shaped body 2 arranged to cover the stage and an opening part 3 formed into a roughly inverted bowl shaped body at the position corresponding to above a roughly center part of the stage. - 特許庁

試料ホルダ４が試料ステージ２に接触後、ばねが伸び始め、試料ホルダ４と試料ステージ２の接触面は、ばね15による密着圧力が働く。例文帳に追加

After a sample holder 4 comes into contact with a sample stage 2, the spring begins to get extended, and a contact face between the sample holder 4 and the sample stage 2 receives an adhesive pressure by the spring 15. - 特許庁

ベース２と、該ベース２に対して移動可能に設けられ試料Ａを搭載するステージ３と、該ステージ３に固定され試料Ａの画像を取得する可動画像取得装置４とを備える観察装置１を提供する。例文帳に追加

The observation apparatus 1 includes: a base 2; the stage 3 which is provided to be moval to/from the base 2 and mounts a specimen A; and a movable image acquisition device 4 which is fixed to the stage 3 and acquires an image of the specimen A. - 特許庁

本発明は、搬送ユニット２、３、４、５に測定ステージＳ４、マーキングステージＳ７を設け、この搬送ユニット２、３、４、５により搬送される集積回路素子を梱包する。例文帳に追加

A measurement stage S4 and a marking stage S7 are provided in conveyance units 2, 3, 4, and 5 for packaging an integrated circuit element conveyed by the conveyance units 2, 3, 4, and 5. - 特許庁

ステージと、その周囲に配置される観客席と、ステージから離れた位置に配されている観客席に向けてステージの映像を表示する映像表示装置４と、該映像表示装置４による映像の表示をステージにおける現実の演奏に対して遅延させる遅延手段１６とを備えるコンサートホールを提供する。例文帳に追加

This concert hall 1 comprises a stage 2, a stand 3 disposed therearound, an image display device 4 displaying an image on the stage to the stand disposed apart from the stage, and a delay means 16 delaying the display of the image by the image display device 4 from an actual performance on the stage. - 特許庁

コンデンサ漏れ電流測定装置は、リニアフィーダ１と、分離供給部２と、複数のワーク収納孔４が等間隔で形成された円形の搬送テーブル３と、充電ステージ６と、測定前充電ステージ７と、測定ステージ８と、排出ステージ９と、搬送ピッチ調整手段１０とを備えている。例文帳に追加

The apparatus for measuring leakage current of capacitor includes a linear feeder 1, an isolated supplying part 2, a circular transferring table 3 in which a plurality of work storing holes 4 are formed with equal intervals, a charging stage 6, a pre-measurement charging stage 7, a measuring stage 8, an ejection stage 9, and a transfer pitch adjusting device 10. - 特許庁

貯留ステージ（３）から一つずつに分離されて供給される管（２）が、加工ステージ（４）上で、自らの長さ方向軸回りに回転駆動されつつ、軸方向に移動可能に保持される。例文帳に追加

Pipes 2 separately supplied one by one from a storage stage are held in an axially movable manner while being rotated around the longitudinal axis on a processing stage. - 特許庁

レンズ２は微動ステージ上に配置されているため、微動ステージを移動することにより、アレイ状に並べられた複数本の出力光ファイバ３のうち、選択された１つの出力光ファイバに出力される。例文帳に追加

The lens 2 is arranged on a finely moving stage, so that the finely moving stage is moved to output the light to one selected output optical fiber among the plurality of output optical fibers 3 which are arrayed. - 特許庁

調理経路を１つ以上のステージ（11,12,13）に分割するのが良く、各ステージにおいて、調理時間及び調理温度は、最終水分が１．２〜２％の種々の様式のポテトチップを製造するよう選択・維持される。例文帳に追加

The cooking path is preferably divided into one or more stages (11, 12, 13) in each of which the cooking times and temperatures are selected and maintained to produce potato chips of different styles having a final moisture content in the range of 1.2 to 2%. - 特許庁

液晶セル１をＴＣＰ２が下になるようにステージ１４に載置し、カッター刃３０を切断部分に当て、ステージ１４をマイクロメータ１４で調整しつつ移動させて、導電性異物４を切断するものである。例文帳に追加

A liquid crystal cell 1 is mounted on a stage 14 so that TCP 2 is lower, a cutter blade 30 is contacted on a cutting part, and the conductive foreign matter 4 is cut while the stage 14 is adjusted by a micrometer 14. - 特許庁

その増幅ステージ（１）は、入力抵抗（２）を通じてアンプの入力部（３）と、帰還抵抗（４）を通じて増幅ステージ（１）の出力部に接続される。例文帳に追加

The amplifying stage (1) is connected to the input part (3) of the amplifier through an input resistor (2) and the output part of the amplifying stage (1) through a feedback resistor (4). - 特許庁

積載システムは、積載装置４が、良品積載ステージ４１と、リサイクル可能品積載ステージ４２と、不良品積載ステージ４３とを具備すると共に、上記搬送装置３が、上記検査装置２で検査した結果に基づいて搬送されるプリプレグ１を、各積載ステージに選別して搬送する選択機３３を具備する。例文帳に追加

In the loading system, loading equipment 4 includes a non-defective unit loading stage 41, a recyclable unit loading stage 42 and a defective unit loading stage 43 and the conveyance equipment 3 described above includes a selecting machine 33 for sorting and conveying the prepregs 1 conveyed in accordance with the results of the inspection made by the inspection instrument 2 to the respective loading stages. - 特許庁

固定ステージ５の上面には、左右方向の軌道レール５１が敷設されており、固定ステージ５上に設置された二つのダイナモメータ２は、キャスタ２８でこの軌道レール５１上を左右に移動する。例文帳に追加

On the top surface of a fixed stage 5, track rails 51 are laid in the right and left direction, and two dynamometers 2 installed on the fixed stage 5 move left and right on these track rails 51 with casters 28. - 特許庁

電子ビームを用いたマスク欠陥修正装置に対物レンズ１内にソレノイド２を内蔵したレンズの傾斜技術を用いれば、ステージを傾斜させることなくステージを傾斜させたのと同等の効果が実現できる。例文帳に追加

An effect equivalent to tilting the stage is obtained without tilting the stage by using tilting techniques of a lens for an objective lens 1 housing a solenoid 2 in the mask defect correcting apparatus using an electron beam. - 特許庁

そして、ステージ３の上方に配置された光源１ａにより斜光照明して、ステージ３の下方に配置された観察部２のＣＣＤカメラ２１により観察像Ｉ１を撮像する。例文帳に追加

Then, oblique lighting is performed by a light source 1a arranged above the stage 3, and an observation image I1 is imaged with a CCD camera 21 of an observing part 2 arranged below the stage 3. - 特許庁

そのトランスコンダクタンス・ステージ１の出力電流はＡＧＣコアー２に供給され、このコアーはＡＧＣ電圧に基づき、出力負荷３と４に電流を流し、ステージ７を駆動するために与える。例文帳に追加

The output current of the transconductance stage 1 is supplied to an AGC (automatic gain control) core 2, and the core supplies current to output loads 3 and 4, based on the AGC voltage in order to drive the stage 7. - 特許庁

そして、イオナイザー２によりエア又はガスをイオン化して、エア浮上ステージ１に供給し、このエア浮上ステージ１を介して、大型ガラス基板１１の裏側にそのイオン化エアを均一に吹き付ける。例文帳に追加

In this case, air or gas is ionized by the ionizer 2 to supply to the air levitation stage 1, and the ionized air is blown uniformly against the rear side of a large-size glass substrate 11 through the air levitation stage 1. - 特許庁

重み配分（２）及びプーリングステージ（３、５）等の要素は先行手法と同じだが、階層ネットワークの中間ステージ（４）で最適の特徴検出ユニットを決定する新しい方法に着目した技術を提供する。例文帳に追加

A technique is proposed that shares components like weight- sharing (2) and pooling stages (3 and 5), with earlier approaches, but focuses on new methods for determining optimal feature-detecting units in intermediate stages (4) of a hierarchical network. - 特許庁

露光ステージ内でパターンマスクの温度制御を行う冷却水を、ステージ内の被露光基板載置面の全面にわたって設けた冷却水槽に常に流すこと。例文帳に追加

Over the entire surface just below a substrate placement surface to be exposed inside a stage 1, a cooling water bath 2 of depth, if applicable, about 5-10 mm is provided, where a cooling water flows. - 特許庁

キャリッジ２７の基板２側に、曲率中心Ｃｒを回動中心とする傾斜ステージ２９を設け、その傾斜ステージ２９に、吐出ヘッド３０を配設するようにした。例文帳に追加

An inclined stage 29 having a curvature center Cr as a rotation center is installed in a substrate 2 side of a carriage 27 and a discharge head 30 is installed on the inclined stage 29. - 特許庁

本文頁１０の設問スペース１３に、それぞれ頭部に「ステージ１」，「ステージ２」，・・・・と表示された出題欄１３１〜１３４が割り付けられている。例文帳に追加

In a problem space 13 on page 10 of the text, problem columns 131-134 are allotted as indicated by stage 1, stage 2... at each head part. - 特許庁

実露光に先立って、ウェハ面形状のフォーカス・レベリング軌道を求め、前記軌道を用いた場合のレチクルステージとウェハステージ２との相対位置誤差を推定する。例文帳に追加

Prior to actual aligning, a focus leveling orbit of the wafer surface is obtained to estimate relative positional error between a reticle stage and wafer stage 2 when such orbit is used. - 特許庁

センター役物２にはステージ４が設けられ、このステージ４に３本の回転軸５に支承された板状の玉振分け部材６が配設されている。例文帳に追加

A stage 4 is provided at a center prize-winning accessary 2, and a plate-like ball sorting member 6 supported by three rotary shafts 5 is arranged at the stage 4. - 特許庁

判定部１６は、加速度センサ１４の検出結果が所定値を超えたか否かを判定し、この判定結果に基づいて、ステージ１０を制御する制御部１５は、ステージ１０による基板２の移動を継続又は停止させる。例文帳に追加

A determination part 16 determines whether the detection result exceeds a predetermined value, and based on the determination result, a control part 15 for controlling the stage 10 continues or stops movement of the substrate 2 by the stage 10. - 特許庁