「A-C is」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

The distance L (A→C) traveled between the start point A and the end point C of the dragging operation is then calculated (step S16).例文帳に追加

次に、ドラッグ操作の始点Ａと終点Ｃの間の移動距離Ｌ（Ａ→Ｃ）が算出される（ステップＳ１６）。 - 特許庁

The electrolyte (C) is preferably included 1 to 10 wt.% based on a total weight of (C) and (A).例文帳に追加

電解質（Ｃ）は（Ｃ）および（Ａ）の合計重量に基づいて、１〜１０重量％含有することが好ましい。 - 特許庁

A control unit (48) is provided to control switching at the power conversion devices (42a, 42b), based on a carrier signal (C) and the like.例文帳に追加

制御部（48）を設けて、キャリア信号（C）等に基づいて、電力変換装置（42a,42b）でのスイッチングを制御する。 - 特許庁

Further, a gap is made between the C-shaped member 14 and the C-shaped member 14, so as to form a slit 15.例文帳に追加

また、該Ｃ形部材１４とＣ形部材１４との間を空けることによりスリット１５を形成する。 - 特許庁

is implemented as a system call in its own right rather than being emulated in the GNU C library as a call to fcntl (2). 例文帳に追加

は、GNU C ライブラリでのfcntl (2) を呼び出してのエミュレーションではなく、それ自体がシステムコールとして実装されている。 - JM

The write of image data for the back-buffer is performed in the order of regions B, C, B, C, ... excluding a region A.例文帳に追加

バックバッファに対する画像データの書き込みは、領域Ａを除いて、領域Ｂ，Ｃ，Ｂ，Ｃ・・・の順に行なわれる。 - 特許庁

The piston mechanism 37 is allowed to be moved axially in a space C by a pressure variation inside the space C.例文帳に追加

ピストン機構３７は空間Ｃ内の圧力変化によって空間Ｃ内を軸方向に移動可能である。 - 特許庁

In the printer, the temperature of the belt at a 2nd transfer nip part is controlled within a range of ≥45[°C] and ≤75[°C].例文帳に追加

また、本プリンタでは、第２転写ニップ部におけるベルト温度が４５［℃］以上７５［℃］以下の範囲内に制御される。 - 特許庁

A resist film 2 is formed on a surface of a transparent substrate 1 (b), and the resist film 2 is patterned (c).例文帳に追加

透明基板１の表面にレジスト膜２を形成し（ｂ）、レジスト膜２をパターニングする（ｃ）。 - 特許庁

In a circuit in the figure 1, in a state where 12 V is applied to terminals L and C, since a transistor 8 is in an off state, the voltage at a point C is 5 V, which is equal to that at a point B.例文帳に追加

図１の回路において、端子ＬおよびＣに１２Ｖが印加されている状態では、トランジスタ８はオフ状態であるから、Ｃ点における電圧はＢ点と同じ５Ｖである。 - 特許庁

Moreover, since the temperature of the substrate is controlled in an error within ±0.5°C in a range of 10°C to 80°C, the treatment is further equalized and stabilized.例文帳に追加

しかも、摂氏１０℃乃至８０℃の範囲内において±０．５℃以内の誤差で基板の温度を制御するので、処理が一層均一化及び安定化される。 - 特許庁

The small particle diameter toner is preferably a crystalline toner whose storage elastic modulus-to-temperature gradient in the range from Tm+20°C to Tm+50°C is ≤0.02 log(Pa)/°C.例文帳に追加

小粒径トナーは、Ｔｍ＋２０℃〜Ｔｍ＋５０℃における、貯蔵弾性率の温度に対する勾配が０．０２ log(Pa)/℃以下の結晶性トナーであることが好ましい。 - 特許庁

The drawing is an explanatory drawing explaining the situation after cutting of a scrap: (a) is a perspective view; (b) is a front view; (c) is a left side view; and (d) is a d-d line section view of (b).例文帳に追加

図はスクラップ切断後の説明図であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）は正面図、（ｃ）は左側面図、（ｄ）は（ｂ）のｄ−ｄ線断面図である。 - 特許庁

After temperature in a furnace is increased to 780°C, the boat is elevated and loaded in a quartz tube.例文帳に追加

炉内の温度を７８０℃にした後、ボートを石英管内に上昇させロードする。 - 特許庁

Successively, a pattern is baked on the resist 2 in a photo-lithographic process and the resist 2 is developed (c).例文帳に追加

次にフォトリソグラフィ工程によりレジスト２にパターンを焼き付け、レジスト２を現像する（ｃ）。 - 特許庁

After the substrate is taken out from the heating furnace, the substrate is heated and cured in a heating furnace of a temperature of 200°C for two hours.例文帳に追加

加熱炉から取り出した後、２００℃の加熱炉中で２時間加熱硬化した。 - 特許庁

If the election flag is not established, a minor role flag c is checked (a step S2302).例文帳に追加

同時当選フラグが成立していない場合、小役ｃフラグをチェックする（ステップＳ２３０２）。 - 特許庁

In the device for quantification of fat, a reference phantom is scanned (step S11), and a correcting coefficient C is calculated (step S12).例文帳に追加

基準ファントムをスキャンし（ステップＳ１１）、補正係数Ｃを算出する（ステップＳ１２）。 - 特許庁

Normally, a control signal C is H, and an air current is in a blown state.例文帳に追加

通常は制御信号ＣがＨになっていて気流が吹付けられている状態にある。 - 特許庁

The rail 2 is laid out so that the air hose is suspended to a non-contact position with a vehicle C.例文帳に追加

エアホースが車両Ｃに当たらない位置に垂れ下がるようにレール２をレイアウトする。 - 特許庁

A difference between the receiving signal (b) and the signal (c) is found and a waveform after the detection is shown in (d).例文帳に追加

（ｂ）の受信信号と、（ｃ）の信号との差分を取り検波後の波形を（ｄ）に示す。 - 特許庁

In the above T is a temperature of dechlorination (°C), and θ is a treating time of dechlorination (min).例文帳に追加

なお、Ｔは脱塩素工程の温度（℃）、θは脱塩素工程の処理時間（分）である。 - 特許庁

A brake lever 19 is arranged near the bevel gear (c), and the brake level is driven with a solenoid.例文帳に追加

傘歯車ｃの傍にブレーキレバー19を配置し、ソレノイドによりブレーキレバーを駆動する。 - 特許庁

An introduction of water and methanol is next stopped while a temperature of a catalyst is ≥100°C.例文帳に追加

次いで、触媒温度が１００℃以上であるうちに水及びメタノール導入を停止する。 - 特許庁

Further, a TFT 23 is used as a rewriting means C and a TFT 24 is used as a rewriting means D.例文帳に追加

また書き換え手段ＣとしてＴＦＴ２３、書き換え手段ＤとしてＴＦＴ２４を用いている。 - 特許庁

A body 11 is fixed to a ceiling surface C, and a hook plug-blade provided on a luminaire 2 is connected to it.例文帳に追加

ボディ１１は天井面Ｃに固定され、照明器具２に設けた引掛栓刃が接続される。 - 特許庁

A base material B is stored in a first tank 12, and a catalyst C is stored in a second tank 14.例文帳に追加

第１タンク１２にベース材Ｂが収容され、第２タンク１４に触媒Ｃが収容されている。 - 特許庁

A communication request to node C is generated in node A, and a communication request broadcast is generated from the node A.例文帳に追加

ノードＡでノードＣへの通信要求が発生し、ノードＡから通信要求ブロードキャストが発生する。 - 特許庁

The total weight of products S worked separately by materials a, b, c and d for each of users A, B, C and D is measured at a time for each of the materials a, b, c and d.例文帳に追加

各ユーザＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄについて材質ａ、ｂ、ｃ、ｄ別に加工した製品Ｓの合計重量を材質ａ、ｂ、ｃ、ｄごとに一度にまとめて測定する。 - 特許庁

Furthermore, the anisotropy (Δr) is controlled in a range of -0.5 to 0 by controlling a finish temperature in hot-rolling to 870°C or higher, a rate of subsequent cooling to 40°C/s or lower, and a winding temperature to 620°C or higher.例文帳に追加

さらには、熱延時の仕上げ温度を870℃以上、その後の冷却速度を40℃/ｓ以下、巻取り温度を620℃以上にすることで異方性（Δｒ）を-0.5〜0の範囲とする。 - 特許庁

The modified rubber is produced by mixing and kneading a mixture, which comprises (a) a diene rubber, (b) a polysulphide polymer, (c) a vulcanization accelerator for rubber, and (d) zinc oxide, and preferably, (e) sulfur, in a kneading machine.例文帳に追加

(a)ジエン系ゴム、(b)ポリサルファイドポリマー、(c)ゴム用加硫促進剤および(d)酸化亜鉛、好ましくはさらに(e)硫黄を混練機中で混練して変性ゴムを製造する。 - 特許庁

When the dynamic viscoelasticity of the composition is measured at a frequency of 6.28 rad/s and at 0-100°C, the peak temperature of tan δ is 40°C or higher and the tan δ at 30°C is 0.05 or higher.例文帳に追加

この樹脂組成物は、周波数6.28rad/s 、０〜 100℃の範囲で動的粘弾性を測定した際の tanδのピーク温度が40℃以上であり、かつ、30℃における tanδが0.05以上である。 - 特許庁

If the coincidence factor C(F_g, F(t)) is not minimal, C(F_x(±ϕ), F(t)) {ϕ=0, ±5, ±10, ±15, ±20} is computed (step ST37) and a minimal coincidence factor C is selected.例文帳に追加

一致度Ｃ（Ｆ_g，Ｆ（ｔ））が最小でなかったときは、Ｃ（Ｆ_x（±φ），Ｆ（ｔ））｛φ＝０，±５，±１０，±１５，±２０｝を求め（ステップＳＴ３７）、最小値となる一致度Ｃを選択する。 - 特許庁

When the user moves from the range of the music B to a range 37 of music C, the application B is finished, and an application C, corresponding to the music C which is newly detected, is started.例文帳に追加

音楽Ｂの範囲３６から音楽Ｃの範囲３７に移動すると，アプリＢを終了し，新たに検出された音楽Ｃに対応するアプリＣを起動する。 - 特許庁

In the case the contents of C of the surface layer part is [C] and the contents of N is [N], such a relation as 0.85 wt.% ≤ [C] + 1.5 [N] ≤ 1.3 wt.% and [N] ≥ 0.05 wt.% is formed.例文帳に追加

前記表層部のＣ含有量を［Ｃ］、Ｎ含有量を［Ｎ］とした場合、０．８５wt％≦［Ｃ］＋１．５［Ｎ］≦１．３wt％でかつ［Ｎ］≧０．０５wt％という関係を満たす。 - 特許庁

Furthermore, a mixed solvent is used as a solvent whose boiling point is 100°C or more but 300°C or less, while mutual boiling point is different each other.例文帳に追加

そして更に、溶剤として、沸点が１００℃以上で３００℃以下よりなると共に、相互の沸点が異なる混合溶剤を用いてなる。 - 特許庁

A compound is represented by formula (I) (wherein R^1 is -C≡CH; R^2 is a saturated alkyl group; and M is hydrogen or a metal atom).例文帳に追加

一般式（Ｉ）（Ｒ^１は、−Ｃ≡ＣＨ、Ｒ^２は、飽和アルキル基、Ｍは、水素又は金属原子）で示される化合物。 - 特許庁

The components (A)-(D) are as follows: the component (A) is an organic isocyanate; the component (B) is a water-absorbing polyol; the component (C) is an acrylic polyol; and the component (D) is an active hydrogen group-containing surfactant.例文帳に追加

（Ａ）有機イソシアネート、（Ｂ）吸水性ポリオール、（Ｃ）アクリルポリオール、（Ｄ）活性水素基含有界面活性剤 - 特許庁

Among a plurality of the communication apparatuses (A to C), assuming that the communication apparatus C, e.g., is one equipped with an asynchronous forwarding function, the communication apparatus C is made to perform management and band assignment.例文帳に追加

複数の通信装置（Ａ〜Ｃ）のうち、例えば、通信装置Ｃをアシンクロナス転送機能を備えた通信装置とし、帯域の管理と割り当てを行わせる。 - 特許庁

Because a chip C is not brought into contact with the second rake face 7, the chip C is hardly adhered to the garret 13, so that the chip C can be easily removed by a wire brush and the like.例文帳に追加

切り屑Ｃは第二スクイ面７には接触しなくなるので、切り屑Ｃがガレット１３に付着しにくくなり、切り屑Ｃはワイヤブラシなどで容易に除去できる。 - 特許庁

In addition, in the high-temperature treatment, nitriding is performed at a treatment temperature of ≥ 500°C, and in the low-temperature treatment, nitriding is performed at a treatment temperature of 300°C to < 450°C.例文帳に追加

更には、高温処理が、処理温度が５００℃以上で窒化処理を行うこと、低温処理が、処理温度が３００℃以上４５０℃未満で窒化処理を行うこと。 - 特許庁

If the accessory C is fed to a back where a back lining seal S1 is present, an appearance of a bag package P itself is good, and existence of the accessory C is easy to check.例文帳に追加

付属物Ｃを背貼りシール部Ｓ１が存在する裏側に供給すると、袋包装体Ｐの見栄えが良くなり付属物Ｃの存在を確認しやすい。 - 特許庁

As the same effect that the diameter of the cap C is substantially increased under a condition that the cap C is held in the body 1 can be obtained, it is possible to easily open the cap C by a small force.例文帳に追加

キャップＣを本体１に挟んだ状態で実質的にキャップＣの径が大きくなったのと同じ効果が得られているので、小さな力でキャップＣを簡単に開けることができる。 - 特許庁

The high chromium cast iron is charged to a hearth rise and fall type high temperature furnace; its temperature is raised from room temperature to 1,000°C at a temperature rising rate of 100°C/h, and it is thereafter heat-treated for 3.2 hr at 1,000°C.例文帳に追加

高クロム鋳鉄は、炉床昇降式高温炉に入れられ、１００℃／ｈの昇温レートで室温から１０００℃に昇温され、その後、３．２時間、１０００℃で熱処理される。 - 特許庁

In this hook, a hook support body 1 having a two-stage structure is disposed with a pin C at a middle portion between connection pins A, B.例文帳に追加

二段構造のフック支持体１の接合ピンＡＢの中間部位にピンＣを配置する。 - 特許庁