「Alignment Stage」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

When retrieval request is given in a predetermined retrieval request order, the commodities are picked out of the shelf stages in the state of being aligned in a predetermined stage alignment order by the storage and retrieval dollies and transferred to temporary retrieval placement parts, as kept in the stage alignment order.例文帳に追加

所定の出庫要求順で出庫要求が与えられると、各棚段において、入出庫ドーリにより所定の段別整列順で整列させた状態で物品を取込んでその段別整列順のままで各出庫仮置部に移載する。 - 特許庁

Position detecting means 11, 12 of the substrate stage ST used for positioning at an exposure position and position detecting means 11, 13 (11, 14) of the substrate stage ST used for detecting alignment information at an alignment position are disposed so that the Abbe error about the exposure position and alignment position is approximately zero.例文帳に追加

また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。 - 特許庁

Moreover, means 11 and 12 for detecting the positions of the substrate stage ST used for positioning in exposure position, and means 11 and 13 (11 and 14) for detecting the position of the substrate stage ST used for detection of alignment information in alignment position are arranged severally so that the Abbe error may be zero to the exposure position and the alignment position.例文帳に追加

また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。 - 特許庁

Also, the position detecting means 11 and 12 of the substrate stage ST used for positioning on the exposure position, and the position detecting means 11, 13 (11, 14) of the substrate stage ST to be used for detection of alignment information on the alignment position are arranged in such a manner that the Abbe error to exposure position and alignment position becomes almost zero.例文帳に追加

また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。 - 特許庁

In addition, position detecting means 11 and 12 of a stage ST which is used for positioning a substrate to an exposing position and the position detecting means 11 and 13 (11 and 14) of the stage ST used for detecting the alignment information at an alignment position are arranged, so that the Abbe's aberration become nearly zero with respect to the exposing position and alignment position.例文帳に追加

また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。 - 特許庁

Position detecting means 11 and 12 for the wafer stage ST, which are used for positioning at an exposure position and position detecting means 11 and 13 (11 and 14) for the wafer stage ST, which are used for alignment information detection at an alignment position, are so provided that Abbe error is almost zero relative to the exposure position and alignment position, respectively.例文帳に追加

また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。 - 特許庁

This is a manufacturing method of a liquid crystal alignment layer in which application and alignment treatment is performed by sucking a treated surface of the flexible resin substrate on a treatment stage and moving the treatment stage so that when the flexible resin substrate drawn out from a roll is applied with an aligning agent or the alignment treatment by rubbing is performed, treatment similar to conventional sheet treatment is performed on the treatment stage.例文帳に追加

ロールから引出された可撓性樹脂基板上に配向剤を塗布する際あるいはラビングにより配向処理を行う際、処理ステージにおいて従来の枚葉同等の処理を行うよう、処理ステージに可撓性樹脂基板の処理面を吸着し、処理ステージが可動することによって塗布及び配向処理を行う液晶配向膜の製造方法。 - 特許庁

Therefore, it is possible to improve throughput by the parallel processing at both stages; and if replacement of wafers is performed on a stage at a predetermined position within a stage movement range during alignment after replacing positions, it is also possible that, while a wafer retained by the other stage is exposed, the mark detection operation by the alignment system at one stage is performed in parallel by replacing both stage operations.例文帳に追加

このため、両ステージの並行処理により、スループットの向上が可能であるとともに、位置の入れ替え後に、アライメント時のステージ移動範囲内の所定の位置にあるステージ上でウエハの交換を行なうようにすれば、両ステージの動作を入れ替えて、他方のステージに保持されたウエハが露光される間に、一方のステージ上でアライメント系によるマーク検出動作を並行して行なうことが可能になる。 - 特許庁

In a constant temperature chamber 10, a lighting system 11 is provided as well, and a reticle stage 13 which holds a reticle 12 that is a photo mask for alignment, a projection optical system 14, an alignment system 15 and a shutter 16 that is interlocked with it, a wafer stage 17 for holding a semiconductor substrate Waf, and a stage position measuring system 18 are provided.例文帳に追加

恒温チャンバー１０内において、照明系１１が併設され、フォトマスクであるレチクル１２を保持して位置決めするレチクルステージ１３、投影光学系１４、アライメント系１５及びこれに連動するシャッター１６、半導体基板Ｗａｆを保持するウェハステージ１７、ステージ位置計測系１８が配備されている。 - 特許庁

An on-axis camera 20 simultaneously images the mask stage reference mark 15 and alignment mark 44 through a projection optical system 12.例文帳に追加

オンアクシスカメラ２０は、マスクステージ基準マーク１５とアラインメントマーク４４とを投影光学系１２を介して同時に撮像する。 - 特許庁

After the exposure, alignment control of a leveling stage 16 which should move a wafer W to a next objective position is made as similarly.例文帳に追加

露光終了後、次の目標位置へウエハＷを移動すべきレベリングステージ１６の位置決め制御を同様に行なう。 - 特許庁

An alignment pattern AP formed on a substrate mounted on a stage is imaged by a camera to acquire picked up image data.例文帳に追加

ステージ上に載置された基板上に形成されたアライメントパターンＡＰをカメラにより撮像して撮像画像データを取得する。 - 特許庁

The position of a wafer-side mark on a stage reference plate 9 is measured by a TTR alignment scope 20.例文帳に追加

露光装置において、ステージ基準プレート９上のウエハ側マーク位置がＴＴＲアライメントスコープ２０を用いて計測される。 - 特許庁

To provide a stage system in which deformation of a stage caused by gas acting through gas bearings can be suppressed, and an aligner in which highly accurate alignment can be effected using that stage system.例文帳に追加

気体軸受によって作用される気体に起因するステージの変形を抑えることができるステージ装置、及びこのステージ装置を備えて精度良い露光処理を行うことができる露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the precision alignment apparatus, a plate (a liquid crystal display substrate) 27 of a light emitting element is set on a stage 19 and a stage 24, a pattern of the substrate 27 is controlled, and a place to be spotted is marked (turned on).例文帳に追加

本発明では、発光素子のプレート（液晶表示基板）２７がステージ１９、２４上にセットされ、基板２７のパターンを制御してスポッティングする場所をマーキング（点灯）させる。 - 特許庁

The position of the substrate 2 is adjusted coarsely according to an amount of correction for coarse adjustment by controlling an alignment stage 4 with an arithmetic processing part 9, while the substrate 2 is transferred with a transfer stage 5.例文帳に追加

演算処理部９によって、移動ステージ５による基板２の移動中にアライメントステージ４を制御して、基板２の位置を粗調用補正量に応じて粗調整する。 - 特許庁

As a result, the alignment of the mask M and the photosensitive substrate P is made possible even if the substrate stage 14 is not provided with the stage mechanism to execute the correction of the rotation around the Z-axis.例文帳に追加

これにより、基板ステージ１４にＺ軸まわりの回転補正を行うステージ機構を設けなくてもマスクＭと感光基板Ｐとの位置合わせを行えるようになる。 - 特許庁

The upper stage side semiconductor device 10 is connected to the plurality of lower stage side semiconductor devices 6 positioned on the board for positioning based on the self-alignment effect of solder by flip-chip connection.例文帳に追加

上段側半導体素子１０は半田のセルフアライメント効果に基づいて位置決め用基板上に位置決めされた複数の下段側半導体素子６に対してフリップチップ接続される。 - 特許庁

The alignment device includes a stage 12 holding an article 91 to be joined, a supporting member slidably supporting the stage 12, and a positioning mechanism 50 moving the stage 12 in the direction parallel with a substantially horizontal plane by applying a pushing force from the side of the stage 12.例文帳に追加

アライメント装置は、被接合物９１を保持するステージ１２と、ステージ１２を摺動可能に支持する支持部材と、ステージ１２の側方から押圧力を加えることによって、ステージ１２を略水平平面に平行な方向に移動する位置調整機構５０とを備える。 - 特許庁

A position adjusting device 26 can adjust the position of the wafer stage 16 relative to the mask stage 14, and adjusts the position of the wafer stage 16 based upon image data obtained by imaging the mask stage reference mark 15 and alignment mark 44 by the on-axis camera 20.例文帳に追加

位置調整装置２６は、マスクステージ１４に対するウェハステージ１６の位置を調整可能であって、かつ、マスクステージ基準マーク１５とアラインメントマーク４４をオンアクシスカメラ２０によって撮像することにより得られる画像データに基づいて、ウェハステージ１６の位置を調整する。 - 特許庁

Image pickup means for detecting alignment marks are arranged at optional positions, the TFT substrate is moved, by a stage, for the image pickup means installed on the fixed positions and the image pickup means can photograph the alignment marks by the stage movement.例文帳に追加

本発明は、アライメントマークを検出する撮像手段を任意の位置に設置し、この固定位置に設置された撮像手段に対してＴＦＴ基板をステージによって移動させ、このステージ移動によって撮像手段によるアライメントマークの撮像を可能とする。 - 特許庁

In a series of sequential aligning operation (alignment sequence) for forming a pattern on a sensitive substrate, replacing time of a wafer, moving time of a stage between alignment of respective chips, and wafer alignment time using an off-axis alignment sensor are an allowable carrying system operation time for opening/closing a gate valve, operating a robot, and the like.例文帳に追加

感応基板上にパターンを形成するための、順序づけられた一連の露光動作（露光シーケンス）において、ウェハの交換時間、各チップの露光の間のステージ移動時間、及び、オフアクシスアライメントセンサを使用したウェハアライメント時間を搬送系動作許可時間とし、ゲートバルブの開閉やロボット動作等の搬送系を作動させる。 - 特許庁

The alignment means in the chamber 4 is a highly accurate aligned optical system 2 necessary for proper alignment of the wafers and an alignment stage 6, the proper alignment is executed to the wafer during standby as a pre-exposure treatment in the chamber 4, in parallel with the exposure treatment of the other wafer in the chamber 3 and a reduction of a treatment time is effected.例文帳に追加

露出前室４のアライメント手段は、本アライメントに必要な高精度のアライメント光学系２とアライメントステージ６であり、露光室３での露光処理と平行して露光前室４では、露光前処理として待機中のウエハに対して本アライメントを実施し、処理時間の短縮を図る。 - 特許庁

An alignment mechanism 200 carries out positioning of a substrate G transferred to a transportation region M_1 of a stage 76 by bringing a plurality of, for instance, eight, alignment pints 202A to 208B into contact with four corners of the substrate G.例文帳に追加

アライメント機構２００は、ステージ７６の搬入領域Ｍ_1に搬入された基板Ｇの四隅に複数本たとえば８本のアライメントピン２０２Ａ〜２０８Ｂを当接させて基板Ｇの位置合わせを行う。 - 特許庁

A reduction projection exposure system is equipped with a wafer stage 8 on which a wafer 11 with an alignment mark on its surface is placed and an alignment measuring device 10 which measures the position of the wafer 11.例文帳に追加

縮小投影露光装置には、表面にアライメントマーク２７が形成されたウェハ１１がウェハステージ８上に載置され、ウェハ８の位置を計測するアライメント計測装置１０が設けられている。 - 特許庁

The first liquid crystal panel is aligned by using three alignment marks on the panel and three cameras on the probe stage, and the alignment of the probe and the electrodes on the panel is checked by using a microscope.例文帳に追加

１枚目の液晶パネルは，パネル上の三つのアライメントマークとプローブステージ上の三つのカメラを用いてアライメントし，かつ，顕微鏡を用いてプローブとパネルの電極との位置合わせ状態を確認する。 - 特許庁

A first liquid crystal panel is aligned by using three alignment marks on the panel and three cameras on a probe stage, and an alignment state of a probe and an electrode of the panel is confirmed by using a microscope.例文帳に追加

１枚目の液晶パネルは，パネル上の三つのアライメントマークとプローブステージ上の三つのカメラを用いてアライメントし，かつ，顕微鏡を用いてプローブとパネルの電極との位置合わせ状態を確認する。 - 特許庁

An x-y-θ stage 9 is moved to implement the alignment so that the opposing substrate 62 faces the thin films 30 on the pattern substrate 31.例文帳に追加

ｘ−ｙ−θステージ９を移動させて、対向基板６２とパターン基板３１の薄膜３０が対向するように位置合わせする。 - 特許庁

The substrate conveying apparatus further includes an alignment mechanism which aligns a tray T after the tray T is delivered to the transfer stage 7 by the robot hand 62.例文帳に追加

このロボットハンド６２にてトレイＴを移載ステージ７に受け渡した後、このトレイＴをアライメントするアライメント機構を更に備える。 - 特許庁

When the position of the mask relative to the mask table is known, subsequent alignment on the exposure stage is performed in a shorter time.例文帳に追加

露光ステージでのその後の位置合せは、マスク・テーブルに対するマスクの位置が分かっている場合、より短い時間で行うことができる。 - 特許庁

In a constant temperature chamber 10, a lighting system 11 and a reticle stage 13 that holds a reticle 12 as a photo mask are deployed, and further, a projection optical system 14, an alignment optical system 15, a wafer stage mechanism 16, and a stage position measuring system 17 are deployed.例文帳に追加

恒温チャンバー１０内において、照明系１１、フォトマスクとしてのレチクル１２を保持するレチクルステージ１３が配備され、さらに、投影光学系１４、アライメント光学系１５、ウェハステージ機構１６、ステージ位置計測系１７が配備されている。 - 特許庁

The alignment is performed by rotating a setting board 180 on the upper stage of a stage 152 (in the Θ direction), correcting the scanning direction position of the optical beams (in the X direction) while controlling the scanner 162 and controlling the feeding distance of the stage 152 (in the Y direction).例文帳に追加

アライメントについては、ステージ１５２上段のセット盤１８０を回転させる（Θ方向）、スキャナ１６２を制御して光ビームの走査方向位置を補正する（Ｘ方向）、ステージ１５２の送り量を制御する（Ｙ方向）ことにより行う。 - 特許庁

The second alignment stage 6 has fixing pins 68a, 68b and movable pins 68c, 68d, and mechanically corrects the position of the reticle R by moving the movable pins 68c, 68d to bring the reticle on the second alignment stage 6 into contact with the fixing pins 68a, 68b.例文帳に追加

また、第２アライメントステージ６は固定ピン６８ａ，６８ｂ及び可動ピン６８ｃ，６８ｄを備えており、可動ピン６８ｃ，６８ｄを移動させて第２アライメントステージ６上のレチクルを固定ピン６８ａ，６８ｂに当接させることによりレチクルＲの位置補正を機械的に行う。 - 特許庁

The control unit 10 calculates an alignment correction for correcting a relative positional shift of the stage 2 from the light irradiating unit 6 when the aligner is adjusted, and the aligner carries out an exposure process controlling the position of the stage 2 on the basis of the calculated alignment correction.例文帳に追加

制御部１０は、露光装置の調整を行なった際に、光照射部６に対するステージ２の相対的位置ずれを補正するためのアライメント補正量を計算により求め、算出したアライメント補正量に基づいてステージ２の位置を制御しながら露光処理を行なう。 - 特許庁

In the aligner which detects a mask alignment mark and a workpiece alignment mark through the through-hole formed in the workpiece stage, a translucent window member disposed in the through-hole of the workpiece stage is supported by an elastomer and the window member abuts against the workpiece elastically.例文帳に追加

ワークステージに形成した貫通孔を介してマスク・アライメントマークとワーク・アライメントマークを検出する露光装置において、ワークステージの貫通孔内に配置した光透過性窓部材を弾性体によって支持して、ワークに対して窓部材が弾性的に当接することを特徴とする。 - 特許庁

The functions of a protective layer and the alignment layer can be simultaneously performed by patterning the pixel electrode on a source and a drain electrodes and then immediately vapor-depositing polyimide resin on the entire surface of the pattern from a stage for forming a substrate to a stage for forming the alignment layer in the manufacturing process of the liquid crystal display device.例文帳に追加

本発明によると、液晶表示装置の製造過程の中、基板から配向膜まで形成する段階でソース及びドレイン電極上に画素電極をパターンニングしてすぐポリイミド樹脂を全面蒸着することで保護層及び配向膜の機能を同時に遂行できるようになる。 - 特許庁

To improve throughput by optimizing a step drive profile for each drive, without deteriorating scan synchronization errors of a reticle stage and a wafer stage during alignment in a step-and-scan type aligner.例文帳に追加

ステップ＆スキャン式露光装置において、露光中のレチクルステージとウエハステージのスキャン同期誤差を悪化させることなく、ステップ駆動プロファイルを駆動毎に最適化することによって、スループットを向上させる。 - 特許庁

At step 119, the wafer W is loaded to the wafer stage WST where search alignment is performed and residual rotary amount of the wafer W for the wafer stage WST is calculated.例文帳に追加

次のステップ１１９では、ウエハＷをウエハステージＷＳＴにロードし、ウエハステージＷＳＴでは、サーチアライメントを行って、ウエハステージＷＳＴに対するウエハＷの残留回転量を算出する。 - 特許庁

Based on the measurements of the encoder system, the controller moves the wafer stage in the X axis direction while managing the position of the wafer stage WST in the Y axis direction and the θz direction and measures the characteristics of the plurality of alignment systems by detecting at least one mark existing on the wafer stage using the plurality of alignment systems, respectively.例文帳に追加

制御装置は、エンコーダシステムの計測結果に基づいて、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向及びθｚ方向の位置を管理しつつ、ウエハステージをＸ軸方向へ移動させ、複数のアライメント系をそれぞれ用いてウエハステージに存在する少なくとも１つのマークを検出することで、複数のアライメント系の特性測定を行なう。 - 特許庁

To perform highly precise alignment without any human intervention by automatically correcting a stage error which causes a problem in an observation of high power.例文帳に追加

高倍率での観察の場合に問題となるステージ誤差を自動的に補正し高精度位置合わせを人手を介さずに行えるようにすること。 - 特許庁

The plurality of alignment systems can thus simultaneously measure a plurality of marks on the wafer when the wafer stage WST is moved in the Y axis direction.例文帳に追加

このため、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の移動の際に、ウエハ上の複数のマークを複数のアライメント系で同時に計測可能になる。 - 特許庁

During exposure operation and/or alignment measurement, the position information of a wafer stage WST is measured using an encoder system by a control unit.例文帳に追加

露光動作、及び/又はアライメント計測中、制御装置により、エンコーダシステムを用いてウエハステージＷＳＴの位置情報が計測される。 - 特許庁

The method is advantageous since the alignment feature can be formed at an early stage (that is, a zero level) in a step of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

本発明はさらに、半導体装置製造工程の早い段階（つまり、ゼロレベル）においてアラインメントフィーチャーを形成できるため有益である。 - 特許庁

A body part 10 of an XYθ stage is driven, so that an alignment mark provided on a wafer is positioned in the observation view of an observation microscope.例文帳に追加

先ず、ウエハ上に設けられたアライメントマークが観察顕微鏡の観察視野に位置するように、ＸＹθステージの本体部１０を駆動する。 - 特許庁

Since an alignment detection device 200 is mounted on a substrate stage 114, the movement of the mask M and the substrate W is suppressed from being disturbed.例文帳に追加

アライメント検出装置２００が、基板ステージ１１４に搭載されているので、マスクＭや基板Ｗの移動を妨げることが抑制される。 - 特許庁