「Alignment Stage」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

An alignment feeder 2 containing a conveying roller 20 for transporting the food materials while aligning the food materials as a main member is provided in the front stage of a cutting blade unit 10 for cutting both ends of food materials such as Colocasia antiquorum.例文帳に追加

里芋Ｔ等の食材の両端部を切断する切断刃ユニット１０の前段に、食材を整列させながら移送する搬送ローラ２０を主要部材とする整列供給機２が設けられる。 - 特許庁

In this timing, the standard mark provided on the standard plate 50 is detected using the alignment system of the exposure apparatus in view of adjusting the amount of slide by controlling the drive of the measuring stage ST2 on the basis of the detected results.例文帳に追加

このとき露光装置のアライメント系を使って、基準板５０に設けられた基準マークを検出し、その検出結果にもとずいて計測ステージＳＴ２の駆動を制御して滑り量を調整する。 - 特許庁

Since a prober frame is moved, by the stage, for the image pickup means installed on the fixed positions, the alignment marks on the prober frame can be photographed and the positional deviation of the prober frame is detected to position the TFT substrate.例文帳に追加

固定位置に設置された撮像手段に対してプローバフレームをステージによって移動させることにより、プローバフレーム上のアライメントマークの撮像を可能とし、プローバフレームの位置ずれを検出して位置合わせを行う。 - 特許庁

A flat plate 20 is disposed on a spraying stage 31 disposed inside a spraying device 30 and a plastic film substrate 11 having a transparent electrode 11a and an alignment layer 11b formed thereon is disposed on the flat plate 20.例文帳に追加

散布装置３０の内部に設置されている散布ステージ３１上に平板２０を設置し、平板２０上に透明電極１１ａと配向膜１１ｂを形成したプラスチックフィルム基板１１を設置する。 - 特許庁

Light from the light source 1 passes through the first polarizing element 2 and is changed into polarized light and the optical alignment layer 7 on a base material 3 disposed on the stage 4 is irradiated with the polarized light from the first polarizing element 2.例文帳に追加

光源１からの光が第１偏光素子２を通って偏光光となり、第１偏光素子２からの偏光光は、ステージ４上に配置された基材３上の光配向膜７を照射する。 - 特許庁

The stage (WST2) is made to move back and forth between the exposure area and the alignment area along a path where the scales (SX_2, SY_2) are set, while performing position measurement using three encoder heads (EX_1, EX_2, EY).例文帳に追加

３つのエンコーダヘッド（ＥＸ_１，ＥＸ_２，ＥＹ）を用いて位置計測を行いながら、ステージ（ＷＳＴ２）を、スケール（ＳＸ_２，ＳＹ_２）の設置経路に沿って、露光領域とアライメント領域との間を往来させる。 - 特許庁

A dicing apparatus 100 comprises a wafer loader 11 for supplying a wafer 1, a conveyance arm 12, an alignment stage 13, a conveyance robot 14, a tapeless cut table 15 as a retention means, a cut-off blade 16 as a cut-off means, a pickup stage 17, a pickup robot 18, and a cleaning machine 19.例文帳に追加

ダイシング装置１００は、ウエーハ１を供給するウエーハローダー１１と、搬送アーム１２と、アライメントステージ１３と、搬送ロボット１４と、保持手段としてのテープレスカットテーブル１５と、切断手段としての切断ブレード１６と、ピックアップステージ１７と、ピックアップロボット１８、洗浄機１９とから構成されている。 - 特許庁

The delivery stage 3 on which the articles supplied from the alignment stage 2 are placed includes a rotation table 21 for delivering the placed articles by rotating and a shutter 24 that closes the course of the articles placed on the rotation table 21 and opens the course of the articles when the rotation table 21 delivers the articles.例文帳に追加

送り出しステージ３は、整列ステージ２から供給される物品が載置され、回動することで載置された物品を送り出す回動テーブル２１と、回動テーブル２１に載置された物品の進路を閉鎖し、回動テーブル２１が物品を送り出すときに物品の進路を開放するシャッタ２４とを有する。 - 特許庁

A carrier device 15 of a dry etching apparatus 1 carries a preprocessing tray 3 from main shelves 67b, 68b of a cassette 62 in a stock section 13 to a rotary stage 33, and after alignment processing at the rotary stage 33, carries the tray 3 to a plasma treatment section 11 through temporally placing sections 67c, 68c in the cassette 62.例文帳に追加

ドライエッチング装置１の搬送装置１５は、処理前のトレイ３をストック部１３のカセット６２の主棚部６７ｂ，６８ｂから回転ステージ３３に搬送し、回転ステージ３３でのアラインメント処理後のトレイ３をカセット６２の仮置き棚部６７ｃ，６８ｃを経てプラズマ処理部１１へ搬送する。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern of a semiconductor device in which a smaller photomask pattern stage can be achieved by performing an etching stage for photomask patterns using photosensitive film patterns as an etch-stop layer after forming the photosensitive film patterns between the photomask patterns by using a self-alignment system using negative photoresist and then performing a heat treatment stage for expanding the photoresist film patterns.例文帳に追加

本発明は、ネガ型フォトレジスト(Negative Type Photo Resist)を用いた自己整列方式を利用してフォトマスクパターンの間に感光膜パターンを形成し、感光膜パターンを拡大するための熱処理工程を行った後、感光膜パターンをエッチング防止膜として用いてフォトマスクパターンに対してエッチング工程を行うことにより、さらに微細なフォトマスクパターン工程が可能な半導体素子のパターン形成方法を提供するものである。 - 特許庁

In the laser exposure apparatus 100, alignment marks on a substrate material 102 mounted on an exposure stage 108 moving in the opposite direction to the scanning direction are read out by CCD cameras 124, 146, 128 mounted on a supporting gate 122, and then the drawing area the position of which is determined by the alignment mark is exposed to the laser beam from a laser scanner.例文帳に追加

レーザー露光装置１００では、走査方向とは反対の方向へ移動する露光ステージ１０８上に載置された基板材料１０２のアライメントマークを、支持ゲート１２２に搭載されたＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８により読み取った後、レーザースキャナからのレーザービームによりアライメントマークにより位置が判断された描画領域を露光する。 - 特許庁

The controller does not supply the mixed gas when the position of the reference mark is detected by the first detector, but it detects the position of the alignment mark in the mixed gas atmosphere, and exposes a resist while driving the substrate stage based on the detected results of the reference mark position and alignment mark position.例文帳に追加

前記制御部は、前記第１検出器により前記基準マークの位置を検出する場合には、前記混合ガスを供給せず、混合ガス雰囲気で、前記アライメントマークの位置を検出し、かつ、前記基準マークの位置の検出結果及び前記アライメントマークの位置の検出結果に基づいて前記基板ステージを駆動しながら前記レジストを露光する。 - 特許庁

To provide a bonding apparatus that can precisely and easily perform alignment adjustment of the bonding surfaces of objects to be bonded or an upper surface of a stage on which objects to be bonded are held, thereby enabling bonding in a favorable aligned state.例文帳に追加

被接合物の接合面または被接合物を保持するステージの上面の倣い調整を高精度かつ容易に行うことができ、良好な倣いの状態で接合を行うことができる接合装置を提供する。 - 特許庁

To improve throughput without increasing the time required for wafer alignment when the data concerning defect position obtained from a plurality of defect inspection devices with different offsets of stage coordinate are used to sense an enlarged image of defect.例文帳に追加

ステージ座標のオフセット量が異なる複数の欠陥検査装置からの欠陥位置データを用いて欠陥の拡大像を撮像する場合に、ウェーハのアライメントに要する時間を増大させることなくスループットを向上させる。 - 特許庁

Alignment of the detection flow path is performed, in a direction of the optical axis of the exciting light by controlling and moving a stage having the microorganism testing chip mounted thereon, based on the intensity of fluorescence detected by the first detector.例文帳に追加

そして、第１の検出器によって検出された蛍光の光量に基づいて微生物検査チップを搭載するステージを移動制御することにより、励起光の光軸方向に対する検出用流路の位置決めを行う。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a semiconductor device and a method of manufacturing the semiconductor device, which can avoid the influence of even an adhesive layer remaining on an alignment stage on a subsequent semiconductor chip while shortening an index time.例文帳に追加

インデックスタイムの短縮を図りつつ、アライメントステージ上に接着層が残った場合でも、それが後続の半導体チップに影響しないようにした半導体装置の製造装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device wherein the alignment disorder caused by the ruggedness of a reflection plate can be prevented, further the thickness of the cell of the display device can be precisely measured and a rubbing stage can be omitted.例文帳に追加

反射板の凹凸から生じる液晶の配向乱れを防ぐことができ、その場合でも表示装置のセル厚を正確に測ることができ、またラビング工程を省略することができる液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

After coarsely adjusting the position of a support stage 11 by alignment, the probe pin 32 is moved with respect to the surface forming an electrode pad 92 of an IC chip 90 horizontally (in the X direction and Y direction) to determine the coordinates of the support stage in the X direction and Y direction when the probe pin 32 falls from the electrode pad 92.例文帳に追加

アライメントによって支持ステージ１１の位置を祖調整した後で、プローブピン３２をＩＣチップ９０の電極パッド９２形成面に対して水平方向（Ｘ方向、Ｙ方向）に移動させて、プローブピン３２が電極パッド９２上から落ちたときの支持ステージの座標位置をＸ方向、Ｙ方向についてそれぞれ求める。 - 特許庁

When a pattern on another wafer with the same pattern as the one used last time baked in the same alignment or on the same wafer as the one used last time is observed, the previous movement target instruction position to the sample stage is changed in consideration of the previous observation visual field position slippage registered in the corresponding observation position, and the sample stage is moved according to the instruction position.例文帳に追加

先と同じパターンを同じ配列で焼き付けされた別のウェーハ又は先と同じウェーハ上のパターンの観察を行うときに、対応する観察位置に登録された前回までの観察視野位置ずれ量を考慮して前回までの試料ステージへの移動目標指示位置に変更を加え、その指示位置に従い試料ステージを移動させる。 - 特許庁

The positioning reference mark Q on the glass substrate A is detected through the glass substrate B by a CCD camera 12 installed inside a machining head 7, which is fed back to X axis stage and Y axis stage to carry out precise positioning for the necessary point, and then the alignment mark is machined by irradiation of the laser beam 5 at the position P overlapped with the position detection mark P.例文帳に追加

加工ヘッド７内部に設けたＣＣＤカメラ１２によりガラス基板Ｂを透過してガラス基板Ａの位置参照マークＱを検出し、これをＸ軸ステージおよびＹ軸ステージにフィードバックして必要な場所で精密な位置決め行ない、レーザビーム５の照射により位置検出マークＰと重なる位置Ｐにアライメントマークを加工する。 - 特許庁

The method includes a stage wherein the HARQ entity of UE instructs a HARQ process to perform transmission or retransmission of a corresponding packet which corresponds to an uplink grant allocated to the UE, and a stage of flushing all HARQ buffers, corresponding to uplink transmission in the HARQ entity, when a time alignment timer of the UE expires.例文帳に追加

方法は、ＵＥのＨＡＲＱエンティティーがＵＥに割り当てられたアップリンクグラントに基づいて、対応するパケットの送信か再送を行うようにＨＡＲＱプロセスに指示する段階と、ＵＥのタイムアラインメントタイマーの終了時に、ＨＡＲＱエンティティーの中でアップリンク伝送に対応するすべてのＨＡＲＱバッファの内容を消去する段階とを含む。 - 特許庁

In this state, an operator operates a stage operation key 6b on the operation panel 6, while checking the image of a component 20 displayed on the monitor 5, to make an alignment of a reference mark of the component on the monitor 5 and position the component.例文帳に追加

この状態で、オペレータは、モニタ５上に表示された部品２０の画像を確認しながら操作盤６上のステージ操作キー６ｂを操作し、モニタ５上で部品の基準マークを位置合わせすることにより部品２０の位置決めを行う。 - 特許庁

Immediately before and after the cleaning operation or the alignment operation of the substrate stage, rear surface cleaning processing of the cleaning substrate CW or the dummy substrate DW is executed in a rear surface cleaning processing unit SOAK2 of the substrate processing apparatus SP.例文帳に追加

また、基板ステージの洗浄作業またはアライメント作業の直前または直後に、基板処理装置ＳＰの裏面洗浄処理ユニットＳＯＡＫ２にてクリーニング基板ＣＷまたはダミー基板ＤＷの裏面洗浄処理を実行する。 - 特許庁

A system A for measuring wheel alignment comprises: a drive mechanism 5 for rotating a pair of left and right tires 31 of an automobile 2 riding into an inspection stage 1; a camera unit 6 arranged in the rear of the tire 31; and a camera unit 7 arranged in front of the tire 31.例文帳に追加

ホイールアライメント測定システムＡは、検査ステージ１に乗り入れた自動車２の左右一対のタイヤ３１を回転させる駆動機構５と、タイヤ３１の後方に配設したカメラユニット６と、タイヤ３１の前方に配設したカメラユニット７とを備える。 - 特許庁

To allow spacers to be stayed at prescribed positions in a semispherical dot of spacer carrier liquid 21 after the spacers are dried without being moved at random, in a stage for drying the spacer carrier liquid ejected onto a glass substrate subjected to an alignment treatment.例文帳に追加

配向処理されたガラス基板上に吐出されたスペーサーキャリア液の乾燥過程において、スペーサーがスペーサーキャリア液２１の半球状ドット内で、ランダムに移動することなく、乾燥終了後に所定位置に残留させるようにすることである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal panel in which an alignment film such that a pretilt angle of 80 to 88° of liquid crystal molecules can stably be obtained with good reproducibility is formed not through a complicated manufacturing stage, and the liquid crystal panel.例文帳に追加

煩雑な製造工程を経ることなく、液晶分子において８０度以上８８度未満のプレチルト角を安定に再現性よく得ることが可能な配向膜を形成する液晶パネルの製造方法および液晶パネルを提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal optical element that can prevent liquid crystal dripped on an alignment layer from spreading to come into contact with an uncured sealing material in a liquid crystal cell manufacturing stage using a liquid crystal dripping system and can be reduced in size and cost, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

液晶滴下方式の液晶セル製造工程において、配向膜上に滴下した液晶が広がって未硬化のシール材に触れるのを防ぎ、小型化、低コスト化の可能な液晶光学素子とその製造方法を提供すること。 - 特許庁

This exposure device is provided at least with a first substrate conveying means 10, a second substrate conveying means 20, a substrate receiving stage 30, an alignment means, a substrate stand-by part 40, an exposure part 50, a substrate conveying part 60 and a control means 70.例文帳に追加

少なくとも第1の基板搬送手段１０と、第２の基板搬送手段２０と、基板受け取りステージ３０と、アライメント手段と、基板待機部４０と、露光部５０と、基板搬出部６０と、制御手段７０と、を具備している露光装置である。 - 特許庁

A dual stage lithographic apparatus is so provided with an alignment mark for specifying geometric shape of the lateral mirrors 66 and 68 used only by an exposure station, as to measure the geometric shape of the lateral mirrors 66 and 68 in the case where the substrate table WT is at a measurement station.例文帳に追加

基板テーブルＷＴが測定ステーションにある場合に、横ミラー６６、６８の幾何形状を測定するように露光ステーションでのみ使用される横ミラー６６、６８の幾何形状を規定するアライメントマークを備えたデュアルステージリソグラフィ装置。 - 特許庁

The successively calculated deviations are so compared with allowance values as to be ordered to increase from the present to the past and if all deviations are within the allowance values, the alignment of the leveling stage 15 is decided as being converged and exposure is made.例文帳に追加

演算された順次の偏差を、現在から過去に向けて大きくなるようにそれぞれ設定された許容値とそれぞれ比較し、すべての偏差が許容値以内であればレベリングステージ１５の位置決めが収束したと判定し、露光を行なう。 - 特許庁

At the alignment of irradiation regions on the work W to an irradiation optical system 20, a process stage device 33 is operated in stepping manner, however normally during the stepping operation, no laser light AL is emitted to stop the oscillation of the laser light source 10.例文帳に追加

また、ワークＷ上の各照射領域を照射光学系２０に対して位置決めする際にはプロセスステージ装置３３をステッピング動作させるが、ステッピング動作中はレーザ光ＡＬを照射しないで、通常はレーザ光源１０の発振を止める。 - 特許庁

The measurement unit 2 is provided with a plurality of sensors 31, and simultaneously measures a plurality of alignment marks AM formed on different positions on the wafer W held on the wafer holder WH before being held by the wafer stage WST of the exposure unit 1.例文帳に追加

計測ユニット２は、複数のセンサ３１を備えており、露光ユニット１のウェハステージＷＳＴに保持される前のウェハホルダＷＨに保持されたウェハＷ上の互いに異なる位置に形成されている複数のアライメントマークＡＭを複数同時に計測する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter by which the identification degree of alignment marks is increased and a color filter is manufactured by aligning the color filter with a photomask even when a color layer having low transmittance is not formed in a first stage.例文帳に追加

本発明は、最初に透過率の低い着色層を形成しない場合であっても、アライメントマークの識別度を上げてカラーフィルタとフォトマスクとのアライメントを行い、カラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To secure productivity, reproducibility, and manufacturing precision even of a larger glass substrate by attaining weight reduction, high rigidity, and high plane precision of a rubbing stage on which a glass substrate coated with an alignment layer is mounted and rubbing processing is applied to the glass substrate.例文帳に追加

配向膜が塗布されたガラス基板を載置してラビング処理を施すラビングステージの、軽量化、高剛性化および高平面精度を実現し、ガラス基板の大型化に対しても生産性、再現性および製造精度が確保できるラビングステージを提供するものである。 - 特許庁

The alignment mark is formed on a surface, the peripheral part has a singular point, the wafer W applied with photoresist is mounted on a rotary stage 6, and the edge position of the wafer W and the singular point, e.g. a notch or the like, is detected by a singular point and edge position detection means 4.例文帳に追加

表面にアライメントマークが形成され、外周部に特異点を有し、フォトレジストが塗布されたウエハＷを回転ステージ６に載置し、特異点及びエッジ位置検知手段４によりウエハＷのエッジ位置およびノッチ等の特異点を検出する。 - 特許庁

The substrate conveying apparatus 2 is provided with auxiliary conveyance rollers 22 with rotatable upper support parts 221, horizontal conveying rollers 23 set on the stage 3 and horizontally conveying the substrate 90, and alignment parts 24 for positioning related to the X-axis direction of the substrate 90.例文帳に追加

基板搬送装置２は、上端の支持部２２１が回転可能な搬送補助ローラ２２、ステージ３に設置され基板９０を水平搬送する水平搬送ローラ２３および基板９０のＸ軸方向に関する位置決めを行うアライメント部２４とを備える。 - 特許庁

The method for manufacturing the electroopticall device including the molding stage for an electronic component mounted on a display panel is characterized in that a masking member, preferably, a silicone rubber sheet made of silicone resin having surface viscosity is used to protect an alignment mark to be used for positioning of the display panel and other constituent members when molding resin is applied in the molding stage.例文帳に追加

表示パネルに実装された電子部品に対するモールド工程を含む電気光学装置の製造方法であって、モールド工程において、モールド樹脂を塗布する際に、当該表示パネルと、他の構成部材との位置合わせに使用するアラインメントマークを保護するように、マスキング部材を用い、好ましくは、表面粘着性を有するシリコーン樹脂から構成されているシリコーンゴムシートを用いる。 - 特許庁

This user interface for preparing the printing template is provided with the paper stage indicating printing paper, an item list displaying candidates of items to be arranged on the paper stage, a function for grouping a plurality of items selected from the item list, and the batch editing function such as alignment of the character positions in the part of contents in the grouped items.例文帳に追加

本発明における印刷テンプレート作成用のユーザーインターフェースは、印刷用紙を表す用紙ステージと、該用紙ステージ上へ配置できる項目の候補を一覧表示する項目リストを備えており、該項目リスト内から選択した複数項目をグループ化する機能と、該グループ化された項目内の内容部分の文字位置揃えを実行する等の一括編集機能とを備えるようにした。 - 特許庁

The image of a mask pattern is formed accurately on a substrate by determining correspondence between a scanning direction regulated on a first coordinate system for controlling movement of first stages 10, 11 holding a mask 12 and a scanning direction regulated on a second coordinate system for controlling movement of a second stage 4 holding a substrate 5 thereby enhancing alignment accuracy of the mask and the substrate at the time of scanning alignment.例文帳に追加

マスク（１２）を保持する第１ステージ（１０，１１）の移動を制御するための第１座標系で規定される走査方向と、基板（５）を保持する第２ステージ（４）の移動を制御するための第２座標系で規定される走査方向との対応関係を求めることによって、走査露光時のマスクと基板とのアライメント精度を向上させて、マスクのパターンの像を正確に基板上に形成する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device using plastic substrates securing a sufficient short circuit preventing function between electrodes without damaging productivity and development to a large substrate and without damaging the forming property of an alignment layer in its manufacturing stage and stress resistive reliability and the like.例文帳に追加

プラスチック基板を用いた液晶表示素子において、生産性、大型基板への展開性を損なうことなく、また、作製工程における配向膜の形成性、耐応力信頼性等を損なうことなく、充分な電極間ショート防止機能を確保した液晶表示素子の提供。 - 特許庁

When the reticle carried at the specified place is carried again; the place of the reticle is corrected by the whirling arm 40 on the basis of the result of a measurement when the reticle is carried precedently, and the measurement by the pre-alignment sensor 41 is omitted after the reticle is delivered from the whirling arm 40 to the reticle stage RST.例文帳に追加

所定位置に搬送されたレチクルを再度搬送する場合には、先にレチクルを搬送した時の計測結果に基づいて旋回アーム４０によりレチクルの位置補正を行い、旋回アーム４０からレチクルステージＲＳＴに受け渡した後のプリアライメントセンサ４１による計測を省略する。 - 特許庁

The inspection device 1 is provided with: a work table 2 supporting a liquid crystal panel 7; a backlight 3 illuminating the liquid crystal panel 7 supported by the work table 2 from the backside; and an alignment stage 4 supporting the work table 2 and the backlight 3 and performing the positioning of the liquid crystal panel 7.例文帳に追加

液晶パネル７を支持するワークテーブル２と、このワークテーブル２に支持された液晶パネル７を裏側から照明するバックライト３と、これらワークテーブル２とバックライト３とを支持して液晶パネル７の位置合わせを行うアライメントステージ４とを備えた検査装置１である。 - 特許庁

When the pattern of a reticle R is exposed to light via a projection optical system PL, the position of the reference marks 34A and 34B is detected by TTL-system reticle alignment microscopes 5A and 5B, and a wafer stage 23A is driven based on the detection result and the relative position being obtained before.例文帳に追加

レチクルＲ１のパターンを投影光学系ＰＬを介して露光する際には、ＴＴＬ方式のレチクルアライメント顕微鏡５Ａ，５Ｂによって基準マーク３４Ａ，３４Ｂの位置を検出し、この検出結果と先に求めた相対位置とに基づいてウエハステージ２３Ａを駆動する。 - 特許庁

In the method for inspecting the film-shaped optical waveguide, a film-shaped optical wavguide A is fixed to the fixing stage S1 of a alignment device with a substrate 1 and a heating exfoliation type double coated adhesive sheet 2 which is stuck on the surface of the substrate 1, and the light loss of the film-shaped optical waveguide A is measured in that state.例文帳に追加

調芯装置の固定ステージＳ_1 に、基板１およびこの基板１の表面に貼着された加熱剥離型両面粘着シート２を介して、フィルム状光導波路Ａを固定し、その状態で、フィルム状光導波路Ａの光損失を測定する。 - 特許庁

A wafer 65 that is coated with a resist 33 is placed on a stage 72, and also an ultraviolet-ray irradiation means 86 for washing a probe 62 for alignment where a film that causes photocatalysis reaction with ultraviolet rays is formed at a tip part surface and a probe 95 for exposure and provided.例文帳に追加

ステージ７２上にはレジスト３３の塗布されたウエハ６５が載置され、また、紫外線と光触媒反応を起こす膜が先端部の表面に形成されたアライメント用プローブ６２及び露光用プローブ９５を、それぞれ清浄するための紫外線照射手段８６が設けられている。 - 特許庁