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Alignment Stageの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 326件
Also, when a stage 14 for measurement enters the measurable range of the laser interferometers 15X1, 15X2, and 15Y, the position of the reference mark MB is measured by the wafer alignment sensor, and the measured values of the laser interferometers 15X1, 15X2, and 15Y are corrected, based on the measured result.例文帳に追加
また、計測用ステージ14が、レーザ干渉計15X1,15X2,15Yの計測範囲内に入った際にも、同様に基準マークMBの位置をウエハアライメントセンサにより計測し、この計測結果に基づいてレーザ干渉計15X1,15X2,15Yの計測値の補正を行う。 - 特許庁
The aligner 100 has optical systems (an illumination optical system 130, a projection optical system 150 and an alignment system 170) projecting a light beam emitted from a light source 110 to a wafer 320 held on a stage device 160 through a reticle 310 and exposing the wafer 320.例文帳に追加
露光装置100は、光源110から出射された光ビームをレチクル310を介してステージ装置160に保持されたウエハ320に投影して露光するための光学系(照明光学系130、投影光学系150及びアライメント系170)を有する。 - 特許庁
The alignment is performed by controlling a transfer mechanism 81 so as to match the central coordinates of the substrate marks 91 on the CCD 40 for IR rays to rotationally move the transfer stage 70 in X-Y directions and a θ direction.例文帳に追加
紫外線用のCCD30上のマスクマーク90の中心座標に対して、赤外線用のCCD40上の基板マーク91の中心座標を合致させるように、移動機構81を制御して移動ステージ70を、XY方向及びθ方向に回転移動させて位置合わせを行う。 - 特許庁
The image of the substrate mark 7 on the fluorescent plane 39 of the fluorescent board 3 is picked up while overlapping a mask mark 5 on the photomask 4 by a CCD camera 2, and an exposure stage 8 is driven to bring the center of the substrate mark 7 and that of the mask mark 5 in accordance, thereby performing the alignment of the substrate 6 and the photomask 4.例文帳に追加
該蛍光板3の蛍光面39上の基板マーク7の像をCCDカメラ2によりホトマスク4上のマスクマーク5と重ね合わせて撮像し、基板マーク7とマスクマーク5の像の中心が一致するように露光ステージ8を駆動して基板6とホトマスク4の位置合わせを行う。 - 特許庁
The exposure apparatus includes: moving to an exposure position by mechanical operations of a light-shielding mask or a substrate stage on the basis of the information about a medium to be exposed by referring to a position set by a single alignment; stopping at the set exposure position; and carrying out exposure, after moving to the exposure position, under exposure conditions calculated by an exposure condition calculating mechanism.例文帳に追加
被媒体情報をもとに、1回のアライメントで設定した位置を基準として、遮光マスク又は基板ステージの機械動作によって露光位置へ移動し、設定した露光位置で停止し、露光位置に移動した後、露光条件算出機構で算出された露光条件をもとに露光を行う。 - 特許庁
Reticle alignment sensors 6A, 6B, using part of pulse-like exposure light EL emitted from an exposure light source LS, observe reticle marks RM formed on a reticle R and a reference mark formed on a reference member 10 on a wafer stage 9, and measure positional information about these marks and a relative positional displacement therebetween.例文帳に追加
レチクル・アライメントセンサ6A,6Bは露光光源LSから射出されたパルス状の露光光ELの一部を用いて、レチクルRに形成されたレチクルマークRMとウェハステージ9上の基準部材10に形成された基準マークとを観察し、これらの位置情報及び相対的な位置ずれを計測する。 - 特許庁
A method of manufacturing a substrate for liquid crystal display device, on which a protrusion for liquid crystal divided alignment is formed, is characterized by containing a stage for forming the protrusion by exposing and developing a photosensitive resin via a mask having a pattern corresponding to the protrusion and gradation of light transmittance in the pattern.例文帳に追加
液晶分割配向のための突起が形成された液晶表示装置用基板の製造方法であって、突起に対応したパターンを有し、かつ該パターン内で光透過率に階調をもたせたマスクを介して感光性樹脂を露光、現像することによって突起を形成する工程を含むことを特徴とするものである。 - 特許庁
To provide user interface for preparing a printing template provided with a batch editing function for a group of items such as automatic alignment of character positions in a part of contents concerning a plurality of display items on a paper stage without being affected by a difference in the number of characters in a title part positioned in front of the character positions.例文帳に追加
本発明の課題は、用紙ステージ上の複数ある表示項目について内容部分の文字位置がその前に位置するタイトル部分の文字数の違いに影響されず自動的に揃う等、項目群に対して一括編集機能を備えた印刷テンプレート作成用のユーザーインターフェースを提供することにある。 - 特許庁
When a plurality of sectioned regions on a wafer are exposed by the step-and-scan system, a processing for enhancing the precision of alignment between a pattern and an object is performed based on the measurements of the encoder systems for every exposure start point where the measurement error of the encoder system caused by acceleration of the wafer stage WST is reduced.例文帳に追加
すなわち、ウエハ上の複数の区画領域をステップ・アンド・スキャン方式で露光する際に、ウエハステージWST体の加速度に起因するエンコーダシステムの計測誤差が小さくなる露光開始点毎に、エンコーダシステムの計測値に基づいてパターンと物体との位置合わせ精度を向上させるための処理が行なわれる。 - 特許庁
The light shielding pattern is formed on the flat surface of the lens sheet by self-alignment method which is provided with a stage for forming a photosensitive curing type resin layer (1st layer) including a colorant, a photosensitive curing type resin layer (2nd layer) the content of the colorant of which is smaller than that in the 1st layer, and light transmissive base material in this order.例文帳に追加
レンズシートの平坦な表面に、着色剤を含む感光性硬化型樹脂層(第1層)および着色剤の含有量が第1層よりも少ない感光性硬化型樹脂層(第2層),および透光性基材を、この順に形成する工程を具備するセルフアライメント手法によって遮光パターンを形成する。 - 特許庁
The liquid crystal display device having excellent display uniformity can be provided, since the wiring resistance can be suppressed low and light leakage is lessened, and the yield is enhanced and the inexpensive liquid crystal display device can be provided, since the patterns of a seal and an alignment layer can be checked in the manufacturing stage.例文帳に追加
従って、配線抵抗が低く抑えられ、光漏れも少ないため表示均一性に優れる液晶表示装置を提供でき、かつ製造工程内でシール、配向膜のパターンのチェックをすることが可能であるため歩留が向上し安価な液晶表示装置を提供することが可能となった。 - 特許庁
The position information of a wafer stage WST is measured by an encoder system in parallel with at least one of exposure operation (Fig. 8(A)) and alignment measurement operation (Fig. 8(B)), and deviation of measurement information of individual heads 64-68 of the encoder system from reference information corresponding to the measurement information is collected as calibration data.例文帳に追加
露光動作(図8(A))及びアライメント計測動作(図8(B))の少なくとも一方と並行して、エンコーダシステムを用いてウエハステージWSTの位置情報を計測し、エンコーダシステムの個々のヘッド64〜68の計測情報のこれに対応する基準情報からのずれを、較正データとして収集する。 - 特許庁
Teaching of parallelism and substrate accommodation height position of the carrier stage 6 is executed by accommodating the substrate 5 for calibration to the predetermined calibration start position within the wafer flexure check carrier 15 with a robot hand 3 for alignment of distance read from the displacement sensors 10a to 10e of the teaching jig 11.例文帳に追加
ロボットハンド3によって校正用基板5をウェハ撓み量チェックキャリア15内の所定の校正開始位置に収容し、ティーチング治具11の変位センサ10a〜10eから読み出される距離を合わせることによって、キャリアステージ6の水平出し及び基板収容高さ位置の教示を実行する。 - 特許庁
The mask 32 is aligned with a specified chip on the wafer 44 utilizing three microscope imaging units AX1, AY1 and AX2, distances Lx and Ly between specified chips are determined from the moving amount of a θXY stage 70 at the time of alignment and then current expansion/ contraction rate of the wafer 44 is measured in the x direction and y direction.例文帳に追加
3つの顕微鏡撮像装置AX1、AY1、AX2を利用してマスク32とウエハ44の所定のチップとを位置決めし、この位置決めした時のθXYステージ70の移動量から所定のチップ間の距離L_X,L_Y を求め、現在のウエハ44のx方向及びy方向の伸縮率を測定する。 - 特許庁
Even when there are a plurality (three, four or more pieces on a straight line) of the detection systems to pick up the image simultaneously; a detection object posture for placing the alignment mark to be observed in the respective detection systems near the focus position is calculated, and the difference of the focus positions of the respective detection systems is absorbed by tilting a stage for instance.例文帳に追加
本発明は同時に撮像する検出系が複数(直線上にある3個または4個以上)であっても、各検出系で観察するアライメントマークを合焦位置近傍に置くための検出物体姿勢を算出し、例えばステージをチルトする事で各検出系の合焦位置の差を吸収するものである。 - 特許庁
The method for driving the compressor including a sensor-less motor having a rotary shaft connected to a rotor, a piston executing compression stroke and suction stroke between a top dead center and a bottom dead center, and a crank part connecting the rotary shaft and the piston, includes a forcible alignment stage positioning the rotor at a predetermined start position in the suction stroke of the piston and a stage accelerating rotation of the forcibly aligned rotor.例文帳に追加
本発明による回転子と連結されている回転軸を持つセンサレスモータと、上死点及び下死点の間で圧縮行程及び吸入行程を遂行するピストンと、前記回転軸と前記ピストンを連結するクランク部とを有する圧縮機の駆動方法において、前記回転子を前記ピストンの吸入行程内の所定の起動位置に位置させる強制整列段階と; 強制整列された前記回転子の回転を加速させる段階とを含む。 - 特許庁
The light irradiation parts 30A and 30B disposed in multiple stages are disposed to be deviated in a direction orthogonal to the conveyed direction of the optical alignment layer so that a boundary part of the polarizing element 11 of the light irradiation part in each stage may not be superimposed on the boundary part of the polarizing element 11 of the light irradiation part in the other stages.例文帳に追加
そして、各段の光照射部の偏光素子11の境界部が、他の段の光照射部の偏光素子11の境界部と光配向膜51の搬送方向に対して互いに重ならないように、各段に配置された光照射部30A,30Bを、光配向膜の搬送方向に直交する方向に位置をずらして配置する。 - 特許庁
To realize a reflection type liquid crystal display device which has a wide selecting range for selecting the material of a reflection electrode and a structure difficult to exert an influence on alignment of liquid crystals and can be easily manufactured without need of a counter BM and consideration for reduction of a reflection area due to simplification of manufacturing stage and positioning accuracy to a counter substrate.例文帳に追加
対向BMが必要なく工程の簡略化と、対向基板との位置合わせ精度からくる反射面積の低減を考慮する必要が無く、反射電極材料の選択範囲を広げ、液晶の配向に影響を与え難い構造をもち、かつ生産しやすい反射型液晶表示装置を実現することを目的とする。 - 特許庁
The other is a θ coordinate position detection mechanism 107 which is for use in stage position control, wafer notch (orientation flat) detection, and wafer center alignment control and whose accuracy is lower than that of the θ coordinate position detection mechanism for detecting the foreign substance and the defect.例文帳に追加
θ座標位置検出機構を異物・欠陥検出の座標位置算出に用いる高精度のθ座標位置検出機構と、ステージの位置制御,ウエハノッチ(オリフラ)検出,ウエハセンタ合わせ制御に用いる前記異物・欠陥検出用θ座標位置検出機構より低い精度のθ座標位置検出機構とで2つを有することを特徴とする。 - 特許庁
A method for sustaining alignment of discrete chips from a forming point to an arranging point on a substrate being used finally, separating the discrete chips into a rod-like linear aggregate from end to end at a cutting stage, and arranging the discrete chips while separating in order from the linear aggregate is provided.例文帳に追加
本発明によれば、形成地点から最終的に使用する基板上の配置地点まで別個のチップの直線状整合が維持され、切断段階で別個のチップが端から端まで棒状態をした直線状集合体に分離され、この直線状集合体から別個のチップを順序良く分離して配置する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a sealing method and device which, when bonding a pair of upper and lower substrates with each other, can perform precise positioning and alignment by fixing the upper substrate to a fixed position, and even when a stage having the lower substrate placed thereon is slanted, can obtain a cell structure in which a cell gap between the upper and lower substrates remains constant to improve quality and yield.例文帳に追加
上下一対の基板を張り合わせるにあたり、上基板を定位置に固定して正確な位置決めおよびアライメントが可能となるようにするとともに、下基板を載置したステージに傾きがある場合においても上下基板のセルギャップが一定となるセル構造体が得られるようにし、品質および歩留まりが向上するようにする。 - 特許庁
In the method of manufacturing the semiconductor device comprising an alignment step of aligning an inner lead and a bump on the semiconductor chip and an inner lead bonding step of performing inner lead bonding while keeping the aligned state, the inner lead bonding step uses a metallic trapezoidal stage which includes a bonding tool and a heating means and has high heat conductivity.例文帳に追加
インナーリードと半導体チップ上のバンプとの位置合わせを行う位置合わせ工程と、前記位置合した状態のままでインナーリードボンディングを行うインナーリードボンディング工程とを備えた半導体装置の製造方法において、前記インナーリードボンディング工程は、ボンディングツールと加熱手段を有する熱伝性の良い金属製台形のステージを用いることを特徴とする。 - 特許庁
A main control device detects a portion of a plate 50 using an alignment system ALG measuring the position of the stage WST on which the plate 50 having a predetermined shape is mounted detachably using a position measuring system (18 and the like) and acquires the position information of the outer periphery edge of the plate 50 based on the detection result and a measurement result of the corresponding position measuring system.例文帳に追加
主制御装置は、所定形状のプレート50が着脱可能に搭載されたステージWSTの位置を位置計測系(18等)を用いて計測しつつ、アライメント系ALGを用いてプレート50の一部を検出するとともに、その検出結果と対応する位置計測系の計測結果とに基づいてプレート50の外周エッジの位置情報を取得する。 - 特許庁
This laser machining apparatus 1 comprises a light source 2 for emitting a linearly polarized pulse laser beam L, a beam branch element 6 for branching the pulse laser beam L emitted from the light source 2 into a plurality of beams LBs, and a stage 8 for relatively moving a workpiece 10 to be irradiated with the branch laser beams LBs along the alignment direction of the branch beams LBs.例文帳に追加
本実施形態に係るレーザ加工装置1は、直線偏光のパルスレーザビームLを出射する光源2と、光源2から出射されたパルスレーザビームLを複数本のビームLBに分岐するビーム分岐素子6と、分岐ビームLBの配列方向に沿って、分岐ビームLBが照射されるべき被加工体10を相対的に移動させるステージ8と、を有する。 - 特許庁
After the balls are supplied (dropped) one by one from a ball supply port 9 of an island installation immediately above the tank into an upper end of the groove in the partition plate 2, the game balls progressively roll in alignment toward the lower-stage partition plates without clogging the grooves, and finally they are discharged from the communication port 6a formed in the bottom 6 of the game ball storage tank 1.例文帳に追加
仕切板2のの溝の上位端に、その直上にある島設備の球供給口9から遊技球が1個ずつ供給(落下)されることによって、遊技球は溝内を球詰まりを起こすこと無く整列されながら転動して順次下段の仕切板に至り、最終的に球貯留タンク1の底6に形成された連通口6aから排出される。 - 特許庁
Specifically, the main segment (40) is automatically subdivided into a plurality of secondary segments (41, 42, 43) during the first stage, and each of the secondary segments (41) is located at the same setpoint height above the highest point of the underlying terrain (S), with two adjacent secondary segments (41) being in alignment or mutually connected by a bar (44) extending vertically in a vertical section.例文帳に追加
より厳密に言えば、前記第1段階中に、前記主要セグメント(40)は、複数の2次セグメント(41、42、43)に自動的に再分割され、前記各2次セグメント(41)は、下方に存在する地形内の最も高い地点の上方の同じセットポイント高さに位置し、2つの隣接する2次セグメント(41)は、一列に並び、あるいは垂直断面において垂直方向に延びるバー(44)によって互いに連結される。 - 特許庁
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