「Alignment Stage」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

A whirling arm 40 carries a reticle mechanically place-corrected on a second pre-alignment stage 39 up to the place LP of a loading, and a reticle stage RST carries the reticle delivered from the whirling arm 40 at a specified place.例文帳に追加

旋回アーム４０は、第２プリアライメントステージ３９上で機械的に位置補正されたレチクルをローディング位置ＬＰまで搬送し、レチクルステージＲＳＴは旋回アーム４０から受け渡されたレチクルを所定位置に搬送する。 - 特許庁

The processing line for liquid crystal display device provided with a loader and an unloader comprises a first line for an alignment stage and a third line to be a single unified line for a gap stage.例文帳に追加

本発明は、ローダーとアンローダーとを備える液晶表示装置の工程ライにおいて、配向工程を行う第１ラインと、ギャップ工程を成す単一ライン化された単一の第３ラインとを含んでなることを特徴とする。 - 特許庁

The test device two-dimensionally moves a video camera for photographing the alignment mark in a plane parallel to the board supported on a test stage and a camera stage of a test station in first and second directions crossing each other.例文帳に追加

検査装置は、アライメントマーク撮影用のビデオカメラを、検査ステーションにおいてカメラステージ、検査ステージに受けられた基板と平行の面内で互いに交差する第１及び第２の方向に二次元的に移動させる。 - 特許庁

The stage 2 is moved in a prescribed direction 4 and the plate cylinder 6 is rotated in a prescribed direction, by which the substrate 5 is transferred and printed with the resin film for the alignment layer on the printing plate 11 in a fourth stage.例文帳に追加

第４工程では、ステージ２が所定方向４に移動され、かつ版胴６が所定方向１０に回転されて、印刷版１１上の配向膜用樹脂膜が基板５に転写されて印刷される。 - 特許庁

To provide a printing apparatus in which even in the case where an alignment mark is provided on any one side of a substrate placed on a stage, imaging can be performed with one camera.例文帳に追加

ステージに載置する基材のいずれの面にアライメントマークが設けられる場合であっても、１つのカメラで撮像可能な印刷装置を提供する。 - 特許庁

Alignment of the wafer holder 2 is completed by moving the wafer holder stage 5 so that the reference marks 3a and 3b come to reference positions.例文帳に追加

そして、この基準マーク３ａ、３ｂが基準位置に来るようにウェハホルダステージ５を移動させることにより、ウェハホルダ２の位置合わせが完了する。 - 特許庁

To prevent damage of alignment performance of remains of a bundle of sheets aligned and loaded on an upper stage loading tray even after part of the bundle of sheets is removed.例文帳に追加

上段積載トレイに整合して積載されたシート束の一部を取り除いても残りのシート束の整合性を損なうことのないようにする。 - 特許庁

To arrange an electronic component mounting board 1 having alignment means, upset the board one turn and position it on a board mounting stage 8, thus transferring it.例文帳に追加

位置合わせできる手段をもつ電子部品搭載基板１にし、電子部品搭載基板を１反転させ基板載置用ステ−ジ８に位置決めし移載させる。 - 特許庁

The offset quantity of the target position is specified to the backlash of an alignment stage or above, by which the backlash is surely absorbed at the correction to the desired target position.例文帳に追加

前記目標位置のオフセット量を、アライメントステージのバックラッシュ以上とすることで、所期目標位置への補正時に、確実にバックラッシュが吸収される。 - 特許庁

The probe device 10 is equipped with a probe card 11, a wafer transferring mechanism 12, an XY stage 13, chuck tables 14a, 14b, an alignment mechanism 15 and a control unit 16.例文帳に追加

プローブ装置１０は、プローブカード１１、ウェハ搬送機構１２、ＸＹステージ１３、チャックテーブル１４ａ，１４ｂ、アライメント機構１５、及び制御部１６を有する。 - 特許庁

To mount a semiconductor substrate on a stage and to correct the alignment rotational component at the time of exposure by a stepper when measuring a pattern dimension with a length measurement SEM.例文帳に追加

測長ＳＥＭにてパターンの寸法を測定する際、ステージ上への半導体基板設置、およびステッパによる露光時のアライメント回転成分を補正する。 - 特許庁

To provide a stable high reliability wafer stage alignment system in a simple structure and its aligning method using a chopper.例文帳に追加

チョッパーを使用して、単純かつ簡単な構造により、安定的かつ信頼性の高いウェハーステージ・アライメントシステムおよびそのアライメント方法を提供する。 - 特許庁

Further the transport device is equipped with a work attitude/position acknowledging part to acknowledge the dislocation amount of the work position with the aid of an alignment camera installed on the work stage.例文帳に追加

また、該搬送装置は、ワークステージ上に設けたアライメントカメラにより、帯状ワーク位置のずれ量を認識するワーク姿勢位置認識部を備える。 - 特許庁

The photo-mask is conveyed to an alignment stage unit by a conveyance means and placed on a temporary supporting member having a plurality of cushion functions provided on an exposure chuck.例文帳に追加

搬送手段が、フォトマスクをアライメントステージユニットに搬送して、露光チャックに設けられた複数の緩衝機能を有する一時支持部材上に載置する。 - 特許庁

Then, the tool reticle is loaded onto a reticle stage RST via an exchange arm 120, and positional information of the reticle is detected by a reticle alignment system 22.例文帳に追加

そして、その工具レチクルを、交換アーム１２０を介してレチクルステージＲＳＴ上にロードして、レチクルアライメント系２２によりレチクルの位置情報を検出する。 - 特許庁

To provide a method and a device for moving and loading a reticle which is preliminarily aligned on a reticle exposure stage without impairing the preliminary alignment.例文帳に追加

レチクルの予めの整列を失うことなくレチクル露光ステージ上に予め整列されたレチクルを移動およびロードする方法および装置を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method for vertical alignment layer includes a stage of supplying a processed substrate into a reactor, a stage of injecting silicon-based gas and carbon-based gas into the reactor, and a stage of subjecting the silicon-based gas and carbon-based gas to chemical reaction on a surface of the processed substrate to form a vertical alignment layer containing silicon carbide on the processed substrate.例文帳に追加

反応器内に処理基板を提供する段階と、前記反応器内にシリコン系ガスと炭素系ガスとを注入する段階と、前記処理基板の表面で前記シリコン系ガスおよび前記炭素系ガスを化学反応させ、炭化シリコンを含む垂直配向膜を前記処理基板上に形成する段階と、を含むことを特徴とする垂直配向膜の製造方法。 - 特許庁

The request order of the commodities is allocated to a predetermined allocated alignment stage in sequence from its first stage and a timing for the commodities to be transferred from the temporary retrieval placement parts to retrieval cart parts is controlled corresponding to the request order allocated to the allocated alignment stage so that the commodities can be carried out in the retrieval request order by the retrieval cart parts of a retrieval reservoir.例文帳に追加

所定の割付配列段に対して、その１段目側から順次各物品の要求順位を割付け、前記割付配列段に割付けられた要求順位に応じて、各出庫仮置部から各出庫カート部への物品の移載タイミングを制御して、出庫リザーバの各出庫カート部により各物品が出庫要求順で搬出されるようにする。 - 特許庁

The photomask 1 is mounted on a photomask stage 5, and the exposure region is moved to an irradiation area 70 by a photomask moving device 50 and aligned by an alignment device (not shown in Figure) using an alignment mark 15 and a substrate mark (not shown).例文帳に追加

フォトマスク１はフォトマスクステージ５に装着され、フォトマスク移動装置５０により露光領域を照射エリア７０に移動し、アライメントマーク１５と基板マーク（図示せず）を用いて、位置合せ装置（図示せず）により位置合せを行う。 - 特許庁

In a stage for forming the alignment layer on the substrate 1 to be used for a liquid crystal display element, a coating film to be the alignment layer is formed on one surface of the substrate 1 and gas flow is formed on the film forming surface side of the coating film by nozzles 4.例文帳に追加

液晶表示素子に用いられる基板１に配向膜を形成する工程において、配向膜となる塗膜を基板１の一方の面に形成し、この塗膜の形成面側にノズル４でガスの流れを形成する。 - 特許庁

This apparatus comprises a stage 13 for mounting a wafer 1 and an alignment part 16 for detecting the edge of the wafer 1, so as to determine an alignment position for the shade mask 15 according to the shape of the wafer 1.例文帳に追加

このウエハ周辺露光装置は、ウエハ１を載置するステージ１３と、ウエハ１のエッジを検出することにより、ウエハ１の形状から遮光マスク１５に対するアライメント位置を決定するアライメント部１６と、を具備するものである。 - 特許庁

The method comprises a stage for providing a steering wheel control subsystem and a wheel control subsystem; a stage for providing an initial alignment unit for initially aligning wheels and steering wheels and procedures; and a stage for receiving relative and steering wheel absolute angles and wheel angles.例文帳に追加

本発明の方法は、ステアリングホイール制御サブシステムおよび車輪制御サブシステムを設ける段階と、車輪とステアリングホイールとを初期アラインメントさせる初期アラインメントユニットおよび手順を設ける段階と、相対およびステアリングホイール絶対角度および車輪角度を受ける段階と備えている。 - 特許庁

The alignment accuracy is evaluated by: reading alignment marks 60a-60d on a substrate F mounted on an exposure stage 18; recording a plurality of different test patterns with a definite relation among them on the substrate F, taking the alignment marks 60a-60d as the references, with exposure and in repetition; and comparing positions of the test patterns with each other.例文帳に追加

露光ステージ１８に装着された基板Ｆのアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄを読み取り、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄを基準として、一定の関係からなる複数の異なるテストパターンを基板Ｆに繰り返し露光記録し、テストパターン同士の位置関係を比較してアラインメントの精度を評価する。 - 特許庁

In addition, immediately before or after the cleaning or the alignment of the substrate stage, the stage cleaning substrate CW or the dummy substrate DW is cleaned in a cleaning unit SU of the substrate processor SP.例文帳に追加

また、基板ステージの洗浄作業またはアライメント作業の直前または直後に、基板処理装置ＳＰの洗浄処理ユニットＳＵにてステージ洗浄用基板ＣＷまたはダミー基板ＤＷの洗浄処理を実行する。 - 特許庁

In a thermostatic chamber 10, there are provided a mask stage 12, a projecting optical system 13, an alignment system 14, a wafer stage 15 for holding thereon a semiconductor substrate Waf, and an automatically focusing mechanism 16, and together with them, an illuminating system 11 is provided.例文帳に追加

恒温チャンバー１０内において、照明系１１が併設され、マスクステージ１２、投影光学系１３、アライメント系１４、半導体基板Ｗａｆを保持するウェハステージ１５、オートフォーカス機構１６が配備されている。 - 特許庁

In an aligner, temperature sensors 44A, 44B, and 44C are respectively attached to fine adjustment stage 42A for reticle, an alignment system ALG, and a Z-tilt stage 58 constituting a body 100 of the aligner and, at the same time, an environment sensor unit ES is provided in a chamber 11.例文帳に追加

露光装置本体１００を構成するレチクル微動ステージ４２Ａ、アライメント系ＡＬＧ及びＺチルトステージ５８に温度センサ４４Ａ、４４Ｂ、４４Ｃを取付けるとともに、チャンバ１１内に環境センサユニットＥＳを設けている。 - 特許庁

The second alignment stage 6 is equipped with a measuring device 67 to optically image a mark of the mounted reticle to measure the position of the reticle, and drives a stage 60 to correct the position of the reticle R based on the measurement result.例文帳に追加

第２アライメントステージ６は、載置されたレチクルのマークを光学的に撮像してレチクルの位置計測を行う計測装置６７を備えており、この計測結果に基づいてステージ６０を駆動してレチクルＲの位置補正を行う。 - 特許庁

A TFT substrate and a color filter substrate each have an obliquely vapor-deposited film formed in an alignment film forming stage (steps S1 and S4) and are subjected to silane processing as hydrophobicity imparting processing in a hydrophobicity imparting processing stage (steps S2 and S5).例文帳に追加

ＴＦＴ基板およびカラーフィルタ基板は、配向膜形成工程において斜方蒸着膜が形成され（ステップＳ１，Ｓ４）、疎水処理工程において疎水性処理としてのシラン処理が施される（ステップＳ２，Ｓ５）。 - 特許庁

On the preset position, a liquid crystal panel 30 and a frame 40 are held on the stage and, thereafter, the panel stage 9 is lowered to the alignment position, is positioned, then, is furthermore lowered to a joining position and is joined (is stuck) with a double coated tape.例文帳に追加

そのプリセット位置で、液晶パネル３０及び枠体４０を当該ステージ上に保持後、パネルステージ９をアライメント位置へ下降して位置合わせし、その後、さらに接合位置へ下降して両面テープで接合（貼り付け）する構成とした。 - 特許庁

Alignment marks PMOL, PMOR, FXYO1-FXYO4 for measuring the position of the wafer are formed on the wafer W by exposing alignment patterns PM, FM, provided on a reticle reference plate PL fixed onto a reticle stage RSTG for supporting a reticle.例文帳に追加

ウエハの位置を測定するためのアライメントマークＰＭＯＬ，ＰＭＯＲ，ＦＸＹ０１−ＦＸＹ０４を、レチクルを支持するレチクルステージＲＳＴＧ上に固定されたレチクル基準プレートＰＬに設けたアライメントマークパターンＰＭ，ＦＭを露光することによりウエハＷに形成する。 - 特許庁

A substrate 2 onto which an alignment mark 3 is put is moved from a carry-in position toward a processing position by a moving stage 5, and a first region of the substrate 2 including the alignment mark 3 is imaged at a first magnification by each imaging section 6 for rough adjustment.例文帳に追加

移動ステージ５によって、アライメントマーク３が形成された基板２を、搬入位置から処理位置へ向かって移動させるとともに、各粗調用撮像部６によって、基板２のアライメントマーク３を含む第１領域を、第１倍率で撮像する。 - 特許庁

The light-receiving part 20 is mounted on an XYZ-stage 2, and its position can be adjusted in the XYZ-axis directions for optical axis alignment of the light-emitting elements 11.例文帳に追加

受光部２０は、ＸＹＺステージ２に取付けられており、発光素子１１の光軸合わせのため、ＸＹＺ軸方向に位置調整できるようになっている。 - 特許庁

To provide an alignment stage and a processing equipment that can be manufactured at lower cost and structured to have smaller size while maintaining the driving efficiency and operation speed.例文帳に追加

駆動効率及び動作速度を確保できるとともにコンパクトに構成でき、しかも、製造コストを低減することのできるアライメントステージ及び処理装置を提供する。 - 特許庁

First, a wafer stage is moved so that design positions of respective alignment marks may be on the center of a visual field of an optical microscope, and the positions are measured in this status.例文帳に追加

初めに、各アライメントマークについて、その設計上の位置が光学顕微鏡の視野中心にくるようにウエハステージを移動させてその状態で測定を行う。 - 特許庁

To accurately control the formation position of polycrystalline silicon during a crystallization stage by forming an alignment mark on a non-display region, and to form an active layer with optimum characteristics.例文帳に追加

非表示領域にアラインマークを形成して結晶化工程中に多結晶シリコンの形成位置を正確に制御及び最適特性のアクティブ層を形成する。 - 特許庁

To provide an exposure unit which can shorten tact time by mounting a substrate on a substrate stage in a short time and with high accuracy without providing a specific pre-alignment unit.例文帳に追加

専用のプリアライメント装置を設けることなく、短時間で且つ精度良く基板を基板ステージに搭載して、タクトタイムを短縮することができる露光ユニットを提供する。 - 特許庁

To provide a laser apparatus for an exposure device in which MO laser light can be injected into an amplification stage laser (PO) with high injection efficiency and a mirror alignment is facilitated.例文帳に追加

高い注入効率でＭＯレーザ光を増幅段レーザ（ＰＯ）に注入することができ、ミラーのアライメントが容易な露光装置用レーザ装置を提供すること。 - 特許庁

Since alignment processing can be performed by using a clean dummy substrate in the exposure unit side, contamination of a mechanism inside the exposure unit, such as substrate stage, can be reduced.例文帳に追加

露光ユニット側では清浄なダミー基板を使用してアライメント処理を実行できるため、基板ステージ等の露光ユニット内の機構の汚染を低減することができる。 - 特許庁

To obtain a biochip having no fear of contamination in an array forming stage, enabling the alignment of the array formed on the biochip and easy to mount, attach and detach.例文帳に追加

アレイを形成させる段階でのコンタミネーションの恐れがなく、バイオチップ上に形成させたアレイの位置合わせが可能であり、装着と脱着が容易なバイオチップを得る。 - 特許庁

For a substrate W transported to a substrate stage 2 from a prealignment device 50 and retained on the substrate stage 2, a deviated quantity from the center of a field in an alignment camera 30 of an alignment mark 40 printed by a first exposure on the substrate W is found to compensate the position of a next substrate W on the prealignment 50 side based on the deviated quantity.例文帳に追加

プリアライメント装置５０から基板ステージ２に搬送されて該基板ステージ２上に保持された基板Ｗについて、該基板Ｗに一層目の露光で焼き付けられたアライメントマーク４０のアライメントカメラ３０の視野中心からのずれ量を求め、該ずれ量に基づいてプリアライメント装置５０側で次回の基板Ｗの位置を補正する。 - 特許庁

The wafers W are taken out to be sucked and held from upward (reverse side of wafer) by an edge ring-like arm 2 from the cassette C1 charged in a mounting device, and consistently handled in the state that the reverses of the wafers W are upward in transferring and mounting them to an alignment stage 4 and transferring and mounting them from the alignment stage 4 to a mounting table 6.例文帳に追加

そして、マウント装置に装填されたカセットＣ１から先端がリング状したアーム２によって上方（ウエハの裏面側）からウエハＷが吸着保持されて取り出され、アライメントステージ４への移送および載置、並びにアライメントステージ４からマウントテーブル６への移送および載置と、終始一貫してウエハＷの裏面が上向きにした状態で取り扱われる。 - 特許庁

The starting position jetting of the coloring agent is determined by measuring coordinates of 3 points of a stage position coordinate at the time of forming coating data by applying the coloring agent on a blank 7, a stage position coordinate at the time of photographing the coating data with a CCD camera 5 and a stage position coordinate at the time of photographing the alignment mark of the substrate with the CCD camera 5.例文帳に追加

ブランク７に色剤を塗布して塗布データを形成した時のステージ位置座標と、塗布データをＣＣＤカメラ５にて撮影した時のステージ位置座標と、基板のアライメントマークをＣＣＤカメラ５にて撮影した時のステージ位置座標の３点の座標を測定することにより色剤の吐出開始位置を決定する。 - 特許庁

Before mounting a sealed substrate 1 on which cutting portion patterns are previously aligned on an alignment stage B formed on the substrate cutting device independently of a cutting stage C to the cutting stage C, the prescribed number of markers 6 is searched, the sealed substrate 1 is mounted on the cutting stage C and then the sealed substrate 1 is cut off along the cutting portions 4 to separately form individual packages 5.例文帳に追加

基板の切断装置を用いて、切断ステージＣとは別に該装置に設けたアライメントステージＢで、切断部位パターンを予めアライメントされた封止済基板１を、切断ステージＣへ装着する前に、所要数の標識６を探知してから、切断ステージＣに封止済基板１を装着して切断部位４に沿って封止済基板１を切断して個々のパッケージ５を分離形成する。 - 特許庁

Scattering lights from the first and second alignment marks enter an observation optical system having an optical axis oblique from the first surface of the first member held on the first stage to form the images of the first and second alignment marks on an image plane.例文帳に追加

第１のステージに保持された第１の部材の第１の面に対して斜めの光軸を有する観測光学系に、第１のアライメントマーク及び第２のアライメントマークからの散乱光が入射し、第１のアライメントマーク及び第２のアライメントマークが像面に結像する。 - 特許庁

To allow spacers to be stayed at prescribed positions in a semispherical dot of spacer carrier liquid 122 after the spacers are dried without being moved at random, in a stage for drying the spacer carrier liquid ejected onto an alignment layer of a glass substrate subjected to an alignment treatment.例文帳に追加

配向処理されたガラス基板の配向膜上に吐出されたスペーサーキャリア液の乾燥過程において、スペーサーがスペーサーキャリア液２１の半球状ドット内で、ランダムに移動することなく、乾燥終了後に所定位置に残留させるようにすることである。 - 特許庁