「Alignment Stage」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

A work W is mounted on the alignment stage AS, the stage AS or alignment microscope 4 is fed in steps at intervals where work marks WAM are formed, and the alignment microscope 4 detects the array of the work marks WAM, and position coordinates thereof are stored.例文帳に追加

一方、アライメントステージＡＳにワークＷを載置し、ワークマークＷＡＭの形成されている間隔でステージＡＳまたはアライメント顕微鏡４をステップ送りし、アライメント顕微鏡４によりワークマークＷＡＭを並びで検出し、その位置座標を記憶する。 - 特許庁

Before fine alignment, pre-alignment is carried out using the light having a wavelength different from that of exposure light to position the reticle stage with respect to three degree of freedom (XYθ), so that the fine alignment mark AM2 may be so positioned as to be easily detected at the time of fine alignment.例文帳に追加

ファインアライメントの前に露光光の波長と異なる波長の光を用いてプリアライメントを行って、ファインアライメントマークＡＭ２がファインアライメント時に検出しやすい位置となるように、レチクルステージをＸＹθの３自由度に対して位置決めする。 - 特許庁

The manufacturing method for the optoelectronic device having the insulating film or the alignment layer formed on the surface of a substrate is characteristically includes a stage (a UV irradiation stage) for irradiating the surface of the substrate with UV and a stage (an insulating material applying stage or an alignment layer applying stage) for forming the insulating film or the alignment layer on the surface of the substrate irradiated with UV.例文帳に追加

基板の表面に絶縁膜又は配向膜が形成された電気光学装置を製造する方法であって、基板の表面に紫外線を照射する工程（紫外線照射工程）と、紫外線が照射された基板の表面に絶縁膜又は配向膜を形成する工程（絶縁材料塗布工程又は配向膜塗布工程）とを含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 特許庁

The positional relation between each inching stage and the alignment sensor for the object is unchanged with respect to all the inching stages even when the rough movement stage is moved.例文帳に追加

微動ステージと、対象物用アライメントセンサとの相対的な位置関係は、粗動ステージを移動させても、すべての微動ステージに関して同じになる。 - 特許庁

A work 30, on which the optical alignment layer 31 is formed, is mounted on a work stage 32, and the whole of the work stage 32 is housed in a sample chamber 1.例文帳に追加

光配向膜３１が形成されたワーク３０はワークステージ３２上に載置され、ワークステージ３２全体が試料室１内に収納されている。 - 特許庁

A reticle stage 13, an image projection system 14, an alignment system 15, and a wafer stage 16 are arranged in a thermostatic chamber 10 also having a lighting system 11.例文帳に追加

恒温チャンバー１０内において、照明系１１が併設され、レチクルステージ１３、投影光学系１４、アライメント系１５、ウェハステージ１６が配備されている。 - 特許庁

To provide a structure which prevents local temperature rise of a workpiece at the part of a through-hole formed in a workpiece stage, in an aligner which performs alignment by detecting a mask alignment mark and a workpiece alignment mark.例文帳に追加

マスク・アライメントマークとワーク・アライメントマークとにより位置合わせを行う露光装置において、ワークステージに形成した貫通孔部分でワークに生じる局所的な温度上昇を防止した構造を提案することである。 - 特許庁

To prevent the generation of a defective substrate by detecting the defective application of an alignment layer in flexographic printing at an early stage.例文帳に追加

フレキソ印刷における配向膜の塗布不良を早期に検出して基板の不良の発生を防止する。 - 特許庁

In accordance with the focus height, the height of an alignment mark 10 for calibration is adjusted by a Z3-axis stage 11.例文帳に追加

このフォーカス高さに合わせて校正用アライメントマーク１０の高さをＺ３軸ステージ１１により調整する。 - 特許庁

A substrate 90, preliminarily aligned on a prealignment stage, is mounted on a bed 105 of an alignment unit 101.例文帳に追加

プレアライメントステージにおいてプレアライメントされた基板９０は、アライメントユニット１０１の台１０５上に載置される。 - 特許庁

First the alignment plate 11 is carried to an inspection stage by a positioning pin 13a which operates up and down or from side to side.例文帳に追加

次に、上下、左右に稼動する位置決めピン１３aにより、整列プレート１１を検査ステージまで搬送する。 - 特許庁

Electrically heating wire 113 is built in a stage 110 on which a substrate 101 on which an alignment layer is formed is placed.例文帳に追加

配向膜が形成された基板１０１が載置されるステージ１１０は、電熱線１１３を内蔵している。 - 特許庁

To suppress a measurement error of a position of an alignment mark provided on a work piece mounted on a stage to be conveyed.例文帳に追加

搬送されるステージ上に載置されたワークに設けられたアライメントマークの位置の測定誤差を抑制する。 - 特許庁

To provide an optical isolator whose alignment is easy in an assembling stage without the need of an optical system consisting of lenses.例文帳に追加

レンズによる光学系を必要とせず、組立工程での調芯が容易な光アイソレータを提供すること。 - 特許庁

To provide an alignment stage wherein its size and weight can be reduced and no deformation and no positioning error of its loading object is generated.例文帳に追加

小形・軽量化でき、搭載物の変形や位置決め誤差を生じることが無いアライメントステージを提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus advantageous in terms of throughput by performing alignment measurement during the movement of a stage, for instance.例文帳に追加

例えば、ステージの移動中のアライメント計測が可能でスループットの点で有利な露光装置を提供する。 - 特許庁

The exposure system includes a substrate stage 7 which mounts and moves a photosensitive substrate, and the alignment scope 6 of the triplex or more lens.例文帳に追加

感光基板を搭載して移動する基板ステージ７と、３眼以上のアライメントスコープ６とをそなえる。 - 特許庁

Alignment operation is not needed and the stage can be simplified by adopting such a color filter-on-array structure.例文帳に追加

このように、カラーフィルタオンアレイ構造にすることにより、アライメント作業が不要となって、工程を簡略化できる。 - 特許庁

The wafer stage 11 is moved to the designed coordinate 53 of a second alignment (S6), and the coordinate of a second alignment mark 91 detected by an image obtained by the camera 31 is recorded (S10).例文帳に追加

ウエハステージ１１を第二アライメント設計座標５３へ移動し（Ｓ６）、カメラ３１の取得画像で検出した第二アライメントマーク９１の座標を記憶する（Ｓ１０）。 - 特許庁

A wafer stage 11 is moved to the designed coordinate 52 of a first alignment(S1), and the coordinate of a first alignment mark 81 detected by an image obtained by a camera 31 is recorded (S5).例文帳に追加

ウエハステージ１１を第一アライメント設計座標５２へ移動し（Ｓ１）、カメラ３１の取得画像で検出した第一アライメントマーク８１の座標を記憶する（Ｓ５）。 - 特許庁

Using the alignment scope 6, alignment for an exposure field of the photosensitive substrate 5 on the substrate stage 7 is measured, and the surface configuration of the exposure field is measured.例文帳に追加

そして、アライメントスコープ６を用いて、基板ステージ７上の感光基板５の露光領域に対するアライメント計測と、該露光領域の面形状計測とを実行する。 - 特許庁

The rubbing processing device 1 includes: a stage 10 on which a substrate 30 having an alignment layer formed thereon is placed; and a rubbing roll 20 disposed so that it can come into contact with the alignment layer.例文帳に追加

ラビング処理装置１は、表面に配向膜が形成された基板３０が載置されたステージ１０と、配向膜に接触可能に配置されたラビングロール２０とを備える。 - 特許庁

Processing order of sample shot of global alignment is determined to shorten the stage movement distance from the last shot of global alignment to the first shot of exposure.例文帳に追加

グローバルアライメントの最後に処理するショットから露光第１ショットまでのステージ移動距離が短くなるようにグローバルアライメントのサンプルショットの処理順番を決定する。 - 特許庁

To avoid the reduction of a light condensing ratio due to alignment precision defect of a light source, a micro lens and a liquid crystal panel and to simplify an alignment stage in a transmission type liquid crystal device.例文帳に追加

透過型液晶装置において光源とマイクロレンズと液晶パネルとのアライメント精度不良による集光率の低下を回避し、アライメント工程を簡略化する。 - 特許庁

Two areas, namely an exposure area and an alignment area, are provided, an exposure stage and an alignment stage are provided at each of them, each stage is driven by each plane motor in which the drive means is separated and independent, and respective wafer mounting sections are exchanged, thus performing the exposure operation and alignment operation continuously in parallel.例文帳に追加

本発明は、露光エリアとアライメントエリアの二つのエリアを設け、それぞれに露光ステージ部とアライメントステージ部を設け、さらにそれぞれのステージの駆動を駆動手段が分離独立したそれぞれの平面モーターで行い、互いのウエハ搭載部を交換することにより、連続的に露光動作とアライメント動作を平行作業させるようにした。 - 特許庁

The method for conveying the semiconductor wafer W includes placing of the semiconductor wafer W on an alignment stage 5, pressing of a first brush of a first cleaning mechanism 29 on a front surface of the semiconductor wafer W sucked and held on the alignment stage 5, rotating of the wafer vacuum stage in this state, and removing of a dust deposited on a front surface of the semiconductor wafer W.例文帳に追加

半導体ウエハＷをアライメントステージ５に載置して吸着保持した半導体ウエハの表面に、第１のクリーニング機構２９の第１のブラシを押し当て、その状態でウエハ吸着ステージを回転させ、半導体ウエハＷの表面に付着した塵埃を除去する。 - 特許庁

A reflection-type pattern transfer apparatus, having a beam source for radiating charged particle beams, a first stage for mounting a mask 103 and a second stage for mounting a wafer provides a accurate alignment method for reflecting to the control of a wafer stage 105 and a mask stage 104.例文帳に追加

荷電粒子ビームを照射する線源と、マスクを載置する第１のステージと、ウェハを載置する第２のステージをもつ反射型のパターン転写装置で、ウェハステージ、マスクステージの制御に反映するための高精度なアライメント方法を提供する。 - 特許庁

The level difference of the transparent electrodes, the light shielding part or the like is compensated with resin in a film-forming stage using the resin and in a photolithography stage and flattened and then an alignment controlling film is film-deposited to provide the bright liquid crystal element without any alignment unevenness.例文帳に追加

透明電極、遮光部などの段差を樹脂の成膜工程とフォトリソ工程とを用いて樹脂により補填し、平坦にした後、配向制御膜を成膜することにより配向ムラのない明るい液晶素子を提供する。 - 特許庁

To provide an aligning method and an aligning apparatus for precisely controlling the alignment between a reticle stage and a wafer stage, and to provide an aligner and a method of manufacturing a device.例文帳に追加

レチクルステージとウェハステージとの位置合わせを高精度に制御することができる位置合わせ方法及び装置、露光装置、並びに、デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

In the case when the width of the sheet is small, adjustment is made so that the spacing of the lower stage wall surfaces 102d and 103d becomes identical to the width of the sheet, and preliminary alignment is made at the lower stage.例文帳に追加

一方、転写紙の幅が狭い場合は、下段の壁面１０２ｄ・１０３ｄ間が転写紙の幅になるように調整され、下段で予備整合される。 - 特許庁

Either one substrate 5 of the substrates, which have two kinds of the characteristics and are to be printed with the resin films for the alignment layers, is placed on a stage 2 in a first stage.例文帳に追加

第１工程では、配向膜用樹脂膜が印刷されるべき２種の特性を有する基板５ａ，５ｂのうちのいずれか一方基板５がステージ２に載置される。 - 特許庁

A controller 40 executes alignment based on the position information of the mask stage mark 20 and the position information of the wafer stage mark 42 imaged by the imaging apparatus 48.例文帳に追加

制御部４０は、撮像装置４８によって撮像されたマスクステージマーク２０の位置情報とウェハステージマーク４２の位置情報に基づいてアライメントを実行する。 - 特許庁

Subsequently, a beam PB' is adjusted to pass the center C of the second stage lens 19 using an alignment function having a deflection fulcrum P1 on the major surface of the first stage lens 15.例文帳に追加

その後、一段目のレンズ１５の主面に偏向支点Ｐ１を持つアライメント機能を用いて、ビームＰＢ´が二段目のレンズ１９の中心Ｃを通るように調整する。 - 特許庁

Further, an alignment sensor for the object for detecting the position of the processing object held on the holding face of the concerned inching stage is arranged to each inching stage.例文帳に追加

さらに、微動ステージごとに、対応する微動ステージの保持面に保持された処理対象物の位置を検出する対象物用アライメントセンサが配置されている。 - 特許庁

In this method, semiconductor laser elements C are taken up one by one from a tray 18 by means of a transport collet 14, transported to an alignment stage 12, and placed on the stage 12.例文帳に追加

本方法では、トレー１８から搬送コレット１４を使って１個ずつ半導体レーザ素子Ｃを取り上げ、搬送して、位置合わせステージ１２上に載置する。 - 特許庁

Prior to measuring the characteristics of an alignment detection system AS, a wafer holder 25 is separated temporarily from a wafer stage WST and returned onto the wafer stage (steps 132, 134).例文帳に追加

アライメント検出系ＡＳの特性を計測するのに先立ち、ウエハホルダ２５をウエハステージＷＳＴから一旦離間させた後、ウエハステージ上に戻す（ステップ１３２，１３４）。 - 特許庁

A sample alignment main unit 154 is set to the sample alignment stage 170, and then the sample alignment main unit 154 is reciprocated along the inclined section 172C, in such a state that a handle 152F of a sample alignment plate 152 is held by hand, and thereby placing the sample in the aligned state simply and quickly.例文帳に追加

従って、この試料整列台１７０に試料整列器本体１５４をセットし、試料整列板１５２の把手１５２Ｆを持って、試料整列器本体１５４を傾斜部１７２Ｃに沿って当該往復運動させれば、簡単かつ迅速に試料を整列させることができる。 - 特許庁

A sample alignment main unit 154 is set to the sample alignment stage 170, and then the sample alignment main unit 154 is reciprocated along the inclined section 172C, in such a state that a handle 152F of a sample alignment plate 152 is held by hand, and thereby can make the sample align simply and quickly.例文帳に追加

従って、この試料整列台１７０に試料整列器本体１５４をセットし、試料整列板１５２の把手１５２Ｆを持って、試料整列器本体１５４を傾斜部１７２Ｃに沿って当該往復運動させれば、簡単かつ迅速に試料を整列させることができる。 - 特許庁

A manufacturing method of a patterned retarder includes a light alignment stage to position, on an alignment layer, a polarization filter 20 with light shielding parts 21 and wire grid pattern parts 22 repeatedly formed and to apply light from above the polarization filter 20 for alignment.例文帳に追加

配向膜の上部に光遮断部２１とワイヤーグリッドパターン部２２が繰り返し形成された偏光フィルター２０を位置させ、偏光フィルター２０の上部から光を照射して配向させる光配向段階を含む。 - 特許庁

The miss alignment of the sensor and the positioning stage is calculated based on these detected positions, and the calibration can be carried out.例文帳に追加

検出されたこれらの位置から、センサまたは位置決めステージの整列不良を計算して修正することができる。 - 特許庁

The alignment stage device contains a linear motor comprising primary-side armature coils 3 and secondary-side field system magnets 4.例文帳に追加

このアライメントステージ装置は，一次側の電機子コイル３と二次側の界磁マグネット４から成るリニアモータが内蔵されている。 - 特許庁

An alignment stage 6 corrects a position of the IC 1A to be tested, transferred from a tray 5 mounting the IC 1A to be tested.例文帳に追加

アライメントステージ６は、被試験ＩＣ１Ａを載置したトレー５から移送された被試験ＩＣ１Ａの姿勢を矯正する。 - 特許庁

Finally the alignment plate 11 is conveyed up to a discharge stage by the positioning pin 13a which operates up and down or from side to side.例文帳に追加

次に、上下、左右に稼動する位置決めピン１３aにより、整列プレート１１を排出ステージまで搬送する。 - 特許庁

On a transfer stage 2, an alignment mark 8 is provided as a reference in adjusting an initial position of a photomask 4.例文帳に追加

搬送ステージ２には、フォトマスク４の初期位置を調整する際の基準となるアライメントマーク８が設けられている。 - 特許庁

To improve the alignment accuracy of patterns by correcting a pitch error of a reticle sucked and fixed on a reticle stage.例文帳に追加

レチクルステージに吸着固定した状態におけるレチクルのピッチ誤差を補正し、パターンの重ね合わせ精度を改善する。 - 特許庁