「Alignment Stage」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

The article discharge device 2 is a device to receive lined bottles B0 from an alignment device provided in the former stage and deliver the bottles B0 to the next process with their aligned into a line.例文帳に追加

物品排出装置部２は、前段に設けられた整列装置部から列状のボトルＢO を受け入れた後、１列に整列させた状態で次工程に搬出するための装置である。 - 特許庁

The imperfect shot exposure system 40A irradiates the second region on the wafer W2 held by the wafer stage WST2 with the exposure light ILA, during the detection of the mark by the alignment sensor 26.例文帳に追加

欠けショット露光系４０Ａは、アライメントセンサ２６によるマークの検出動作中に、ウエハステージＷＳＴ２に保持されるウエハＷ２上の第２領域に露光光ＩＬＡを照射する。 - 特許庁

A reticle mark formed on the reticle is measured by using a pre-alignment sensor 41 before and after the reticle is delivered from the whirling arm 40 to the reticle stage RST in the case of the first carrying of the reticle.例文帳に追加

レチクルの第１回目の搬送時には、旋回アーム４０からレチクルステージＲＳＴに受け渡される前後でプリアライメントセンサ４１を用いてレチクルに形成されたレチクルマークを計測する。 - 特許庁

An air passage 28 provided from the front side to the backside and discharging air heated by the backlight 3 to the side of the backside is provided in the alignment stage 4.例文帳に追加

上記アライメントステージ４内にその前面側から背面側まで貫通して設けられ上記バックライト３で加熱された空気を背面側へ排出する空気通路２８を備えた。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for liquid crystal display device which has a simple manufacturing stage and doesnot damage an alignment control layer and flexibly copes with change of the type of liquid crystal display devices.例文帳に追加

製造工程が簡易で、配向制御膜の損傷がなく、液晶表示装置の品種の切り替わりに柔軟に対応できる液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an alignment stage device which can demonstrate high speed and high responsiveness or the like, by securing a small size with a large arrangement space for an armature assembly in a bed so as to enhance thrust.例文帳に追加

このアライメントステージ装置は，サイズを小形に且つベッドに配設される電機子組立体の配設スペースを大きく確保して推力をアップさせ，高速，高応答等の性能を発揮させる。 - 特許庁

Then a work conveying mechanism 23 conveys the work W to an exposure stage WS and performs alignment so that positions of mark marks MAM and work marks WAM are aligned with each other, and while the exposure stage WS is moved, each exposure region on the work W is exposed in sequence.例文帳に追加

ついで、ワーク搬送機構２３が、ワークＷを露光ステージＷＳに搬送し、マスクマークＭＡＭとワークマークＷＡＭの位置が一致するように位置合わせを行ない、露光ステージＷＳを移動させながら、ワークＷ上の各露光領域を順次露光する。 - 特許庁

Each screw N of the migration mechanism 40 of the communication unit 30A is loosened, and while watching the deflection of the needle of an ammeter 33, an X-axis stage 41 and a Y-axis stage 42 are moved in X-axis and Y-axis directions to perform alignment of changing the position of a light-emitting element 35.例文帳に追加

通信ユニット３０Ａの移動機構４０の各ねじＮを緩め、電流計３３の針の振れを見ながら、Ｘ軸ステージ４１およびＹ軸ステージ４２をＸ軸・Ｙ軸方向に移動させて発光素子３５の位置を変更する位置合わせを行う。 - 特許庁

From the stage position of a defect detected by a review device, a defect candidate close to that stage position is listed along with the defect information (defect type, defect image, defect size) provided by an inspection device, so that a defect for use in the fine alignment correction can be selected.例文帳に追加

レビュー装置が検出した欠陥のステージ位置から、そのステージ位置に近い欠陥候補を検査装置が提供する欠陥情報（欠陥種別，欠陥画像，欠陥サイズ）とともに一覧表示し、ファインアライメント補正に使用する欠陥を選択できるようにする。 - 特許庁

To provide a charged particle beam device which performs visual field alignment for measurement with a high precision regardless of frictional heat generated from a stage mechanism even in the case that a cumulative movement distance of a stage is long due to the existence of many measurement points.例文帳に追加

本発明は、測定点数が多数存在し、ステージの累積移動距離が大きくなるような場合であっても、ステージ機構から生じる摩擦熱に依らず、測定のための視野合わせを高精度に行う荷電粒子ビーム装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To solve problems of the incapability of highly accurate difference extraction and a heavy load imposed on difference extract processing being the post-stage processing of alignment processing when alignment is applied to the whole image in the case that a deviation amount and a deviation direction differ depending on positions on a paper document.例文帳に追加

紙ドキュメント上の場所によって画像のずれ量やずれ方向が異なる場合、画像全体に対して位置合わせを行うと、高精度な差分抽出を行うことができなかったり、位置合わせ処理の後段処理である差分抽出処理に負荷がかかったりする。 - 特許庁

Processing order of prealignment final shot and global alignment first shot is determined such that the stage step driving time from the final processing shot of prealignment to the first processing shot of global alignment ends within the driving time of an object being driven in parallel.例文帳に追加

プリアライメントの最後に処理するショットからグローバルアライメントで最初に処理するショットへのステージステップ駆動時間が、並行して駆動している駆動物の駆動時間内に終るように、プリアライメント最終ショットとグローバルアライメント第１ショットのサンプルショットの処理順番を決定する。 - 特許庁

To shorten the time spent for optical axis alignment by immediately performing optical axis alignment matching the link state of optical radio of an optical radio communication terminal without any unnecessary stage and to perform optical communication normally by accurately align both an up optical axis and a down optical axis.例文帳に追加

無駄な段階を行わずに光無線通信端末の光無線のリンク状態に適した光軸合わせを即座に行って、光軸合わせに費やされる時間を短縮し、さらに、上り光軸及び下り光軸の両方を正確に合わせ、光通信が正常に行われるようにする。 - 特許庁

A die bonding device 200 comprises a semiconductor chip pickup stage 220 for inspecting the condition and position of a semiconductor chip, a chip alignment stage 240 where the semiconductor chip is fixed on a mount head for alignment, a guide rail 253 for transferring the semiconductor chip, CCD cameras 226, 257, and 264 for inspecting the conditions and position of a land pattern, an a bonding unit 260 for bonding the semiconductor chip.例文帳に追加

ダイボンディング設備２００は、半導体チップの状態及び位置を検査する半導体チップピックアップステージ２２０、半導体チップがマウントヘッドに固定されアラインされるチップアラインメントステージ２４０、半導体チップを移送するガイドレール２５３、ランドパターンの状態及び位置を検査するＣＣＤカメラ２２６、２５７、２６４、ならびに半導体チップをボンディングするボンディングユニット２６０を備える。 - 特許庁

This manufacturing method is characterized in that the alignment stage is performed after the sticking stage, that the lamination, the alignment and the compression-bonding stages are performed by using respective devices separately, that two or more devices of these are connected to form a series of lines and that devices used in pre- and post-stages thereof are connected thereto to form a series of lines.例文帳に追加

本発明は、貼り合わせ後に位置合わせすることを特徴とし、貼り合わせ、位置合わせ、圧着の各工程をそれぞれ別の装置によって行なうことを特徴とし、また、これら各装置の内２台以上を連結して一連のラインとすることを特徴とし、さらに、この前後工程で使用する装置を連結して一連のラインとすることを特徴とする。 - 特許庁

A lithography system is disclosed which includes a lithography patterning chamber, a wafer replacement chamber coupled to the lithography patterning chamber, and at least one alignment load-lock separated from the wafer replacement chamber by a second gate valve, wherein the at least one alignment load-lock includes an alignment stage for aligning a wafer.例文帳に追加

本発明のリソグラフィシステムは、リソグラフィシステムであって、リソグラフィのパターニングチャンバと、上記リソグラフィのパターニングチャンバに結合されたウェハ交換チャンバと、第２のゲートバルブによって上記ウェハ交換チャンバから分離された少なくとも１つのアライメントロードロックであって上記少なくとも１つのアライメントロードロックはウェハの位置を合わせるアライメントステージを含む少なくとも１つのアライメントロードロックとを含む。 - 特許庁

A lithography system comprises a patterning chamber of lithography, a wafer replacement chamber coupled with the patterning chamber of lithography, and at least one alignment load lock separated from the wafer replacement chamber by a second gate valve wherein at least one alignment load lock comprises at least one alignment load lock including a stage for aligning a wafer.例文帳に追加

本発明のリソグラフィシステムは、リソグラフィシステムであって、リソグラフィのパターニングチャンバと、上記リソグラフィのパターニングチャンバに結合されたウェハ交換チャンバと、第２のゲートバルブによって上記ウェハ交換チャンバから分離された少なくとも１つのアライメントロードロックであって上記少なくとも１つのアライメントロードロックはウェハの位置を合わせるアライメントステージを含む少なくとも１つのアライメントロードロックとを含む。 - 特許庁

Further, also on a reticle stage RST, the reticle R is matched mechanically with a predetermined reference in terms of an outer shape reference using a reference member 82, the reticle stage RST is moved so as to cancel the estimated drawing error of the pattern, and thereafter reticle alignment is implemented.例文帳に追加

また、レチクルステージＲＳＴ上においても、基準部材８２を用いてレチクルＲを外形基準で機械的に所定の基準に整合させるとともに、求めておいたパターンの描画誤差を相殺するようにレチクルステージＲＳＴを移動させた後に、レチクルアライメントを実施する。 - 特許庁

Two X heads (EX_1, EX_2) and one Y head (EY) are mounted on a stage (WST2), and an X scale (SX_2) and a Y scale (SY_2) corresponding to these heads are arranged facing the stage (WST2) so that the scales may connect an exposure area and an alignment area.例文帳に追加

ステージ（ＷＳＴ２）上に、２つのＸヘッド（ＥＸ_１，ＥＸ_２）と１つのＹヘッド（ＥＹ）とを搭載し、これらのヘッドに対応するＸスケール（ＳＸ_２）とＹスケール（ＳＹ_２）とを、露光領域とアライメント領域との間を結ぶように、ステージ（ＷＳＴ２）に対向して設置する。 - 特許庁

Then, a reticle stage where the exposure mask is mounted, or a wafer stage where the reference wafer for alignment is mounted is finely adjusted so that patterns 12 and 12' for correction of misalignment in θ are superimposed on the positioning line 13 perpendicular to the orientation flat direction of the referential wafer.例文帳に追加

パターンが転写される半導体基板と同一の寸法を有する位置合わせ基準ウェハにおいて、位置合わせ基準ウェハの中心を通りオリエンテーションフラットに垂直な直線状の位置合わせマークと、位置合わせ基準ウェハの中心を示す位置合わせマークとを有する位置合わせ基準ウェハ。 - 特許庁

The stage (16) of the input optical fibers (12), the stage (16) of the output light fibers (14), or both stages have mechanical mechanisms for moving the ferrule into and out of the alignment holes of a central panel, along the Z axis perpendicular with respect to the X and Y axes to physically mate the facets of the coupled fibers.例文帳に追加

入力光ファイバ(12)のステージ(16)、出力光ファイバ(14)のステージ(16)、又はそれらの両方は、Ｘ軸とＹ軸に直交するＺ軸に沿ってフェルールを中央パネルの整合穴に対して内外に動かすための機械式機構を有し、結合されたファイバのファセットを物理的に嵌合させる。 - 特許庁

A light transmissive window 3 is formed at an upper part of the sample chamber 1, light from a light irradiation section 20 is transmitted through the light transmissive window 3, is polarized by a wire grid polarizing element 10 provided between the light transmissive window 3 and the work stage and irradiates the optical alignment layer 31 on the work stage 32.例文帳に追加

試料室１の上部には、光透過窓３が設けられ、光照射部２０からの光は光透過膜３を透過し、光透過窓３とワークステージとの間に設けたワイヤーグリッド偏光素子１０により偏光され、ワークステージ３２上の光配向膜３１に照射される。 - 特許庁

The aligner has a reticle stage RST which is disposed on one side of a projection optical system 13, holds a reticle R having a transfer pattern and is equipped with an alignment reference plate SP, and a wafer stage WST equipped with a reference mark FM on the other side.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系１３の一方の側に配置され、転写パターンを有するレチクルＲを保持するとともに位置合わせ用の基準プレートＳＰを具備したレチクルステージＲＳＴと、他方の側に基準マークＦＭを具備したウエハステージＷＳＴを有する。 - 特許庁

The position detection error between the sensors 13a and 13b is ready measured using the microscope 5a and when an exposure of a wafer is performed on the stage 15a (or 15b) on one side of the stages 15a and 15b, an alignment of the wafer is performed using the sensor 13b (or 13a) on the other stage 15b (or 15a).例文帳に追加

アライメントセンサ１３ａ，１３ｂの位置検出誤差をレチクルアライメント顕微鏡５ａを用いて計測しておき、一方のウエハステージ１５ａ（又は１５ｂ）で露光を行う際に、他方のウエハステージ１５ｂ（又は１５ａ）ではアライメントセンサ１３ｂ（又は１３ａ）を用いてウエハのアライメントを行う。 - 特許庁

A forming method is provided for a junction substrate including a stage of providing the 1st substrate which has a 1st substrate shape and also has at least alignment mark disposed on a 1st surface side.例文帳に追加

本発明は、第１基板形状を有し、第１表面側に位置する少なくとも１つのアライメント・マークを有する第１基板を提供することを含む、接合基板の形成方法を提供する。 - 特許庁

When the two alignment marks are detected, the work stage 3 is shifted so that they should become a predetermined positional relationship, and thus, exposing light is irradiated from the light emitter 1 so as to expose the mask pattern to the work piece W.例文帳に追加

２つのアライメントマークが検出されると、それらが所定の位置関係になるようにワークステージ３を移動し、光照射部１から露光光を照射し、ワークＷにマスクパターンを露光する。 - 特許庁

To realize a stage mechanism for a laser beam machining apparatus with high positioning accuracy in machining an alignment mark or the like by a direct laser lithography or a direct laser machining on a glass substrate for a large display unit.例文帳に追加

大型ディスプレイ用のガラス基板にレーザ直接描画またはレーザ直接加工によりアライメントマークなどを加工するために、高い位置決め精度のレーザ加工装置用ステージ機構を実現する。 - 特許庁

In the exposure device 1 exposing a mask pattern on a substrate 100 by aligning the substrate 100 and a mask 4, an alignment mark 51 arranged on a stage 2, a laser-length measurement system 6, and cameras 7 are mounted.例文帳に追加

基板１００とフォトマスク４とを位置合わせして基板１００にマスクパターンを露光する露光装置１において、ステージ２に配置されたアライメントマーク５１と、レーザー測長系６と、カメラ７とを備える。 - 特許庁

A composite substrate constituted by laminating and mounting a V-grooved substrate for optical fiber alignment and a holding substrate with screw holes is used as a substrate to be mounted on a stage of a jig for laser fusion.例文帳に追加

本発明においては、レーザ融着用冶具のステージに搭載する基板として、光ファイバ整列用Ｖ溝基板とねじ穴付保持基板とを積層搭載して構成された複合基板を用いる。 - 特許庁

To provide a welding wire without copper plating of less occurrence of irregular winding and excellent wire re-winding property when the wire is re-wound in an alignment winding in a spool in a final wire manufacturing stage.例文帳に追加

ワイヤ製造最終段階においてスプールに整列巻きにてワイヤ巻き替えを行う際に巻き乱れの発生が少なく、ワイヤ巻き替え性に優れた銅めっき無し溶接用ソリッドワイヤを提供すること。 - 特許庁

To perform alignment/flattening and correction of the front teeth/back teeth or the like at an early stage by pressing the teeth row or the like by a strong force utilizing the resilient force of a resilient steel material, and also make the inclined tooth to an erected state.例文帳に追加

弾撥性鋼材の弾撥力を利用して、強い力で歯列等を押圧することにより早期に前歯・奥歯等の整列・平坦化及び矯正を行うことを目的とする。 - 特許庁

To reduce the period required for only reading the alignment mark of a recording medium or for conveying a recording medium, and hereby reduce the time for processing from loading a stage member with the recording medium until completion of exposure.例文帳に追加

記録媒体に対してアライメントマークの読取や記録媒体の搬送のみを行う時間を短縮し、記録媒体をステージ部材に装着してから露光が完了するまでの処理時間を短縮する。 - 特許庁

As a result, the flexible substrate 1 is put into a state such that the chucking may act over the entire surface thereof through the full chuck holes 3 and 7 which the substrate is positioned in alignment to the center of the stage 2, by which the substrate is attracted and fixed.例文帳に追加

これにより、フレキシブル基板１はステージ２と中心を合わせた位置決め状態で、全吸着孔３、７を通して全面吸着作用状態となって吸着固定される。 - 特許庁

In the exposure apparatus, two independent finely moving stages 62, 72 of each other are so disposed on a coarsely moving stage 73 as to execute all its focusing measurements and a portion of its alignment measurements at the same time in parallel with its exposure operation.例文帳に追加

１つの粗動ステージ７３上に、独立した２つの微動ステージ６２、７２を配置し、露光動作と並行して、フォーカス計測の全てとアライメント計測の一部とを同時に実行する。 - 特許庁

The manufacturing method for the alignment film of the present invention includes a first stage of forming a pattern substrate 30 having a plurality of columnar bodies 31 slanting at a specified angle and a second stage of obtaining the alignment film made of a light-transmissive inorganic dielectric material by transferring shapes of the columnar bodies 31 to a film 41 made of a light-transmissive inorganic dielectric material by using a nanoimprint method.例文帳に追加

本発明の配向膜の製造方法は、所定角度で傾斜してなる複数の柱状物３１を具備した型基板３０を作成する第１工程と、前記柱状物３１の形状を透光性の無機誘電体材料からなる膜４１にナノインプリント法を用いて転写し、当該透光性の無機誘電体材料からなる配向膜を得る第２工程と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

An optical system PL and first and second alignment optical systems AA1a, AA1b, AA2a, and AA2b are arranged so that the detection of the alignment information on the other substrate W2 (W1) can be performed in parallel when exposing a mask pattern on one substrate W1 (W2) out of substrates retained side by side on a substrate stage ST.例文帳に追加

基板ステージＳＴに並べて保持された一方の基板Ｗ１（Ｗ２）にマスクパターンを露光するときに、他方の基板Ｗ２（Ｗ１）のアライメント情報の検出を並行して行なうように、光学系ＰＬと第１および第２のアライメント光学系ＡＡ１ａ，ＡＡ１ｂ、ＡＡ２ａ，ＡＡ２ｂを配置する。 - 特許庁

In a rubbing machine for a liquid crystal display device used for determining an alignment direction by rubbing an alignment layer applied on a substrate disposed on a stage, a rearranging part is disposed on a part of a rubbing roller so as to come in contact with the rubbing cloth for rearranging the rubbing cloth.例文帳に追加

ステージ上に配置された基板にコーティングされた配向膜を擦って配向の方向を決定するために使用される液晶表示装置のラビング（ｒｕｂｂｉｎｇ）マシンにおいて、ラビング布の再整列のためにラビングローラの一部分上に再整列部がラビング布と接触するように配置されている。 - 特許庁

An optical system PL and first and second alignment optical systems AA1a, AA1b, AA2a, and AA2b are so provided that detection of alignment information for one wafer W2 (W1) is performed in parallel, when the other wafer W1 (W2) which is held side by side on a wafer stage ST is exposed with a mask pattern.例文帳に追加

基板ステージＳＴに並べて保持された一方の基板Ｗ１（Ｗ２）にマスクパターンを露光するときに、他方の基板Ｗ２（Ｗ１）のアライメント情報の検出を並行して行なうように、光学系ＰＬと第１および第２のアライメント光学系ＡＡ１ａ，ＡＡ１ｂ、ＡＡ２ａ，ＡＡ２ｂを配置する。 - 特許庁

The supporting substrate W2 taken out from a supporting substrate feeding section 3 by a robot arm is aligned on a first alignment stage 9, and then, transferred to a holding section 12 to stick a double-sided sticking sheet T1 on the supporting substrate W2.例文帳に追加

支持基板供給部３からロボットアームにより取り出した支持基板Ｗ２を第１アライメントステージ９で位置合せした後、保持部１２に移載して支持基板Ｗ２に両面接着シートＴ１を貼り付ける。 - 特許庁

To quickly perform alignment of an objective lens for a specimen in a preparatory stage by allowing a simple and accurate confirmation of the optical axis position of the objective lens relative to a part desired to be viewed on the specimen.例文帳に追加

試料の観察したい部位に対する対物レンズの光軸位置を簡易かつ精度よく確認することを可能として、準備段階における試料に対する対物レンズの位置合わせ作業を迅速に行う。 - 特許庁

If the tip of the rib 27A is located in alignment with the plate 50 in the initial stage of inserting the sub-housing 20 to the accommodation chamber 13, a locked condition to the frame 10 is generated by a subsequent intruding motion.例文帳に追加

サブハウジング２０を収容室１３に挿入する初めの段階で、リブ２７Ａの先端を係止板５０に位置合わせすれば、引き続く押し込み動作によりフレーム１０に対するロック状態に至る。 - 特許庁

Next, the beltlike work Wb is clamped tight by another work locking mechanism 22, and simultaneously the work Wb is locked by suction to a work stage, and then a mask is shifted and its alignment takes place, and thus the beltlike work Wb is exposed.例文帳に追加

次に、ワーク固定機構２２により帯状ワークＷｂ固定し、帯状ワークＷｂをワークステージに吸着固定して、マスクＭを移動させてアライメントを行い、帯状ワークＷｂに露光処理を行う。 - 特許庁

Four units, an alignment state 21A, a wafer feed arm 21c, an exposure stage 11, and a wafer recovery arm 21d, out of various equipments comprising an exposure system are connected together into a transfer route in which a wafer can be circulated.例文帳に追加

露光装置を構成する各種機器のうち、アライメントステージ２１Ａ、ウエハ供給アーム２１ｃ、露光ステージ１１、ウエハ回収アーム２１ｄの四つのユニットを結び、ウエハが循環可能な搬送経路を想定する。 - 特許庁

A dual stage lithographic apparatus is provided with alignment marks to definitely establish the geometric configuration of the lateral mirrors, which are used only in the exposure station, so that the geometric configuration of the lateral mirrors can be measured while the substrate table is in the measurement station.例文帳に追加

基板テーブルが測定ステーションにある場合に、横ミラーの幾何形状を測定するように露光ステーションでのみ使用される横ミラーの幾何形状を規定するアライメントマークを備えたデュアルステージリソグラフィ装置。 - 特許庁

Positioning of a reticle R held to a reticle stage 2 is carried out by overlapping an alignment mark RM of the reticle R with a reticle reference mark SM of a reticle reference part 13 supported above a projection optical system 3.例文帳に追加

レチクルステージ２に保持されたレチクルＲの位置合わせは、レチクルＲのアライメントマークＲＭと、投影光学系３の上方に支持されたレチクル基準部１３のレチクル基準マークＳＭを重ね合わせることで行なわれる。 - 特許庁