「BEAM CURRENT」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

Thereby influence of the leakage current upon the exposure beam can be reduced.例文帳に追加

したがって、漏れ電流が露光ビームに及ぼす影響を低減することができる。 - 特許庁

To provide an electron beam device capable of suppressing discharge by a lower current value and in a short time.例文帳に追加

より低い電流値且つ短時間で放電を抑制することのできる電子線装置を提供する - 特許庁

To provide an electron gun forming electron beams uniformly over a wide region and of high current density in a fixed beam diameter or variable beam diameters, an electron beam irradiating device applying the electron gun, corresponding to wide-region beam scanning, and corresponding to irradiation time throughputs, or an electron beam irradiating device with uniform beams on a treated object and with enhanced electron beam efficiency of high current density.例文帳に追加

広領域にわたって均一で、高電流密度の電子ビームをビーム径固定若しくは可変に形成する電子銃、その電子銃を適用し、広領域のビームスキャンに対応し，照射時間スループットに対応した電子線照射装置、或いは被処理物上ビームが均一で、高電流密度の電子線効率を高めた電子線照射装置を提供する。 - 特許庁

This is an electron beam exposing device to radiate the electron beams to a specimen, and has an electron beam generating part to generate the electron beam and has a current detecting part to detect the current of the electron beam with a mark part which is smaller than the area of the cross section of the electron beam in the specimen, by the electron beam radiated to the mark part.例文帳に追加

試料に電子ビームを照射する電子ビーム露光装置であって、電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、試料における電子ビームの断面の面積より小さいマーク部を有し、マーク部に電子ビームが照射されることにより、電子ビームの電流を検出する電流検出部とを備える。 - 特許庁

The current density section control grating is so constituted, as to generate an electron beam having nonuniform current density section from the electron gun.例文帳に追加

電流密度断面制御格子は、不均一な電流密度断面をもつ電子ビームが電子銃から発生するように構成される。 - 特許庁

In this way, the current corresponding to the amount of compensation subject to D/A conversion applies to the exciting current of the beam position compensation coil 8.例文帳に追加

このようにしてＤ／Ａ変換された補正量に対応する電流がビーム位置補正コイル８の励磁電流に加えられる。 - 特許庁

To reasonably rapidly set up an LD drive current to a set current value, in a laser diode power supply device for a laser beam machine.例文帳に追加

レーザ加工機用のレーザダイオード電源装置においてＬＤ駆動電流を設定電流値まで無理なく高速に立ち上げられるようにする。 - 特許庁

METHOD FOR QUICKLY SWITCHING LARGE CURRENT MODE AND SMALL CURRENT MODE IN CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM例文帳に追加

荷電粒子ビーム・システムにおいて大電流モードと小電流モードとを高速に切り替える方法 - 特許庁

The control part 32 sets a detection current value Ids for emitting a detection laser beam on the basis of the current value Ibs for setting.例文帳に追加

そして、制御部３２は、設定用電流値Ｉｂｓに基づき、検知用レーザ光を発光させるための検知用電流値Ｉｄｓを設定する。 - 特許庁

When the cover is opened, a first switch opens a current-carrying path to interrupt supply of current to the laser beam source.例文帳に追加

この発明では、カバーが開放されると、第１スイッチが通電路を開放し、レーザ光源への電流の供給が断たれた状態になる。 - 特許庁

To decrease costs by reducing the number of current signal lines of a current monitor for a multi-beam laser.例文帳に追加

マルチビームレーザの電流モニタ電流信号線数を減らすことでコストダウンを図ることを目的とする。 - 特許庁

Based on the recorded, captured beam current, the deflector is aligned or a driver current (or voltage) or both are corrected.例文帳に追加

記録された捕捉ビーム電流に基づいて、偏向器位置合わせまたはドライバ電流（または電圧）あるいはその両方の補正を行う。 - 特許庁

The control circuit of a laser beam generating section is provided with a load part 8, a control part 10, a bias current circuit 16, and a current modulation circuit 18.例文帳に追加

レーザ光発生部制御回路は、負荷部８、制御部１０、バイアス電流回路部１６、及び変調電流回路部１８を備える。 - 特許庁

An ion dosage control part 5 compares the current measured by the ion beam current measuring part 4 to the conditional ion beam current of logical value optimized to the measuring condition, and them calculate a correction coefficient by the difference of the current value.例文帳に追加

イオン注入量制御部５は、このイオンビーム電流計測部４を通して計測された電流値とこの時の条件に最適な理論値の条件イオンビーム電流値とを比較し、これらの差分により補正係数を算出する。 - 特許庁

Since the current-voltage converting means uses the transformer, the current variation amount accompanying the beam irradiation can be selectively converted into a voltage to be detected from current flowing into the current-voltage converting means.例文帳に追加

この場合、電流電圧変換手段がトランスを利用しているので、電流電圧変換手段に流れ込む電流のうちビーム照射に伴う電流変化量を選択的に電圧に変換して検出することが可能である。 - 特許庁

The fault current detection circuit section 14 subtracts the current detected by the beam current detection circuit section 4 from the current detected by the power supply current detection circuit section 3 to detect a fault in the power supply current supplied to the flyback transformer 2.例文帳に追加

異常電流検出回路部１４は、電源電流検出回路部３による検出結果からビーム電流検出回路部４による検出結果を差し引くことにより、フライバックトランス２に供給される電源電流の異常を検出する。 - 特許庁

This ion implanting device includes an ion source 100 for generating an ion beam 50, an electron beam source Gn for emitting an electron beam 138 scanned in the Y direction in the ion source 100, a power source 114 for the electron beam source, an ion beam monitor 80 for measuring the Y direction beam current distribution of the ion beam 50 in the vicinity of the implanting position, and a control device 90.例文帳に追加

このイオン注入装置は、イオンビーム５０を発生するイオン源１００と、イオン源１００内でＹ方向に走査される電子ビームを放出する電子ビーム源Ｇｎと、それ用の電源１１４と、注入位置近傍におけるイオンビーム５０のＹ方向のビーム電流密度分布を測定するイオンビームモニタ８０と、制御装置９０とを備えている。 - 特許庁

This ion implanting device includes an ion source 100 for generating an ion beam 50, an electron beam source Gn for emitting an electron beam 138 scanned in the Y direction to generate plasma 12, a power source 114 for the electron beam source, an ion beam monitor 80 for measuring the Y direction beam current density distribution of the ion beam 50 in the vicinity of the implanting position, and a control device 90.例文帳に追加

このイオン注入装置は、イオンビーム５０を発生するイオン源１００と、Ｙ方向に走査される電子ビーム１３８を放出してプラズマ１２４を生成する電子ビーム源Ｇｎと、それ用の電源１１４と、注入位置近傍におけるイオンビーム５０のＹ方向のビーム電流密度分布を測定するイオンビームモニタ８０と、制御装置９０とを備えている。 - 特許庁

Although beam was attenuated by installing an attenuator in a low energy beam transport system in the past, an attenuator 9 (making beam pass through by making a pinhole on a cutoff plate cutting the beam off) is installed to a high-energy beam transport system, and attenuate the strength of beam (number of charged particles or current value) without lowering the beam energy.例文帳に追加

従来は低エネルギービーム輸送系２に減衰器を設けてビームを減衰していたが、高エネルギービーム輸送系５に減衰器９（ビームを遮断する遮断板に小孔を明けてビームを通す）を設け、この減衰器９でビームのエネルギーを低下せずにビーム強度（荷電粒子数または電流値）を減衰させる。 - 特許庁

This ion beam irradiation device is equipped with an ion source to generate an ion beam 4, an electron beam source G to emit an electron beam two-dimensionally scanned in the ion source 2, a power supply 14 for it, an ion beam monitor 10 to measure the two-dimensional beam current distribution of the ion beam 4 at a position equivalent to the substrate, and a control device 12.例文帳に追加

このイオンビーム照射装置は、イオンビーム４を発生するイオン源２と、イオン源２内で２次元で走査される電子ビームを放出する電子ビーム源Ｇと、それ用の電源１４と、基板相当位置におけるイオンビーム４の２次元のビーム電流分布を測定するイオンビームモニタ１０と、制御装置１２とを備えている。 - 特許庁

From this, the drawn out/accelerated negative ion beam current can be prevented from widely changing with time, and also the negative ion beam current value can be prevented from getting small.例文帳に追加

これにより、引出し／加速される負イオンビーム電流が時間的に大きく変化することを防止すると共に、この負イオンビーム電流値が小さくなることをも防止することができる。 - 特許庁

To provide an ion source capable of generating ion beams with wide width, large beam current, and excellent uniformity of beam current distribution in width direction, and capable of prolonging a lifetime of the cathode.例文帳に追加

幅が広く、ビーム電流が大きく、かつ幅方向におけるビーム電流分布の均一性の良いイオンビームを発生させることができ、しかもカソードの寿命を長くすることができるイオン源を提供する。 - 特許庁

A groove 3 is processed in a wide region continuing to the grooves 1, 2 by the quantity of the converging ion beam current larger than one of the converging ion beam current to cut an electrode.例文帳に追加

溝１、２につらなる広い範囲の溝加工に、上記の集束イオンビーム電流量よりも大きな集束イオンビーム電流量を用いて溝３を加工し電極を切断する。 - 特許庁

A sample inspection device for outputting absorption current images 13 and 15 by interlocking an absorption current output from two probes 4 into scanning an electron beam 1 at the time of scanning an electron beam adopts the following configuration.例文帳に追加

電子線の走査時に２本の探針４から出力される吸収電流を、電子線１の走査に連動させて吸収電流像１３，１５を出力する試料検査装置に、以下の仕組みを採用する。 - 特許庁

This ion implanting apparatus is equipped with the unipotential lens 40 installed between the beam scanner and the beam collimator, and a direct current power supply 60 to apply direct current voltages V_1, V_2 to their second electrode 42 and third electrode 43.例文帳に追加

このイオン注入装置は、ビーム走査器とビーム平行化器との間に設けられたユニポテンシャルレンズ４０と、その第２電極４２、第３電極４３に直流電圧Ｖ_1 、Ｖ_2 を印加する直流電源６０とを備えている。 - 特許庁

A semiconductor laser 1 has a mode-hop generating property wherein the wavelength of its output beam is varied in response to the variations of its injection current and its temperature, and the wavelength of its output beam is varied step-wise at a certain current and temperature.例文帳に追加

半導体レーザ１は、注入電流及び温度の変化に応じて出力光の波長が変化し、ある電流及び温度において出力光の波長がステップ的に変化するモードホップを生じる性質を有する。 - 特許庁

To provide a filed emission type electron source device having improved the ability of reading signal charges by reducing the flow-in amount of a beam current to a shield electrode to increase the beam current amount irradiated to a target.例文帳に追加

、シールド電極へのビーム電流の流れ込み量を低減することによりターゲットへ照射するビーム電流量を増加させて、信号電荷の読み取り能力を向上した電界放出型電子源装置を提供する。 - 特許庁

When it is determined that the beam current has periodic variation, the rotating speed of the wafer disk is updated to the number of revolutions that does not synchronize with the periodic variation of the beam current.例文帳に追加

周期変動が存在すると判定されたとき、ウェーハディスクの回転速度が、ビーム電流の周期変動と同期しない回転数に更新される。 - 特許庁

The electronic beam stream intersects substantially perpendicularly to the flow direction of the liquid current, and the orthogonal width intersecting perpendicularly to the flow direction of the liquid current is smaller than the double of the effective flight distance of the electronic beam stream.例文帳に追加

電子線流は液流の流れ方向に概ね直交し、液流の流れ方向に直交する直交方向の幅は、電子線流の有効飛行距離の２倍より狭い。 - 特許庁

After that, the condition of the beam is calculated by calculating the size of the beam, and a filament voltage and a bias voltage are automatically adjusted so that an emission current set at a saturated point can be obtained, by detecting the amount of the current.例文帳に追加

その後、ビームの大きさを計算することで、ビームの状態を計算し、また電流量を検出することにより、飽和点で設定したエミッション電流が得られるようにフィラメント電圧とバイアス電圧を自動調整する。 - 特許庁

A non-conductive part is provided inside the chuck electrode 501 to electrically shield the axis of an electron beam from a region generating a large eddy current, whereby leakage of the generated eddy current can be prevented to the axis of an electron beam.例文帳に追加

吸着用電極５０１の内部において、大きな渦電流を発生する領域と電子ビーム軸との間を、電気的に遮断する不導体部を設けることにより、発生した渦電流が電子ビーム軸に到達しないようにする。 - 特許庁

The correction current in X-direction and the correction current in Y-direction in a condition where an electron beam is most stopped are stored in a memory 24 together with a condition of the acceleration voltage of the electronic beam.例文帳に追加

電子ビームが最も絞れる状態のときのＸ方向の補正電流とＹ方向の補正電流は、電子ビームの加速電圧の条件と共にメモリー２４に記憶される。 - 特許庁

A laser beam 4 emitted from the laser diode 3 is detected by a photodiode 5, a monitor current Im is outputted from the photodiode 5 corresponding to the intensity of the laser beam 4, and the current Im is converted to a monitor voltage Vm through a resistor 9.例文帳に追加

レーザダイオード３からのレーザビーム４はフォトダイオード５で受光され、その光強度に応じたモニタ電流Ｉｍが出力され、抵抗器９によりモニタ電圧Ｖｍに変換される。 - 特許庁

To provide a beam stop for ion implantation apparatus for comprehending a magnitude of an incident ion beam current, which can be used in an optimization of ion beam.例文帳に追加

入射するイオンビーム電流の大きさを提供するイオン打ち込み装置用ビームストップであって、イオンビームの最適化に使用されることが可能なビームストップを提供する。 - 特許庁

A dose Faraday 1 is installed outside a path of an ion beam 6 applied toward a wafer 4 of an ion irradiation object, and measures a beam current of the ion beam 6 during ion implantation treatment into the wafer 4.例文帳に追加

ドーズファラデー1は、イオン照射対象物のウェハ4に照射するイオンビーム6の軌道外に設けられ、ウェハ4へのイオン注入処理中のイオンビーム6のビーム電流を測定する。 - 特許庁

To provide an electron beam device having a relatively large beam current even in forming a multi-beam by using a cathode formed of TaC.例文帳に追加

ＴａＣからからなるカソードを用いてマルチビームを形成したときであっても比較的大きいビーム電流を有する電子線装置を提供すること。 - 特許庁

A front Faraday 2 is installed on the path of the ion beam 6 near the does Faraday 1, and measures a beam current on the upper stream of the wafer 4 of the ion beam 6 before the ion implantation treatment.例文帳に追加

フロントファラデー2は、ドーズファラデー1近傍のイオンビーム6の軌道上に設けられ、イオン注入処理前にイオンビーム6のウェハ4の上流のビーム電流を測定する。 - 特許庁

To enhance uniformity of a beam current density distribution in the y-direction (longitudinal direction) of an ion beam without having an adverse influence to parallelism and the divergence angle of the ion beam.例文帳に追加

イオンビームの平行度や発散角に悪影響を与えることなく、イオンビームのｙ方向（長手方向）のビーム電流密度分布の均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide an ion beam detector capable of detecting a pulse beam and a direct current beam without switching a detecting circuit.例文帳に追加

検出回路の切換を行うことなくパルスビームと直流ビームとを検出することができるようにしたイオンビーム検出器を提供することにある。 - 特許庁

To provide a beam transport apparatus which uses an electrostatic lens of low cost and simple configuration, and transporting a large current beam in high beam utilization efficiency even in a long transportation zone.例文帳に追加

安価で単純な構成の静電レンズを用いながらも、長い輸送区間であっても高いビーム利用効率で大電流ビームの輸送が可能なビーム輸送装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam device for suppressing fluctuation of orbit of electron beam even if a voltage applied to a first lead-out electrode is controlled for stable emission current amount of the electron beam.例文帳に追加

電子線の放出電流量を安定化するために、第１引出し電極に印加する電圧を制御しても、電子線の軌道の変動を抑えることができる電子線装置を提供する。 - 特許庁

As to the electron beam irradiation equipment 1, current readout electrodes 5 are placed in a window unit 4 so that they cannot overlap an electron beam emission window 24, as seen from the emission axis direction of an electron beam EB.例文帳に追加

電子線照射装置１では、窓ユニット４において、電子線ＥＢの出射軸方向から見て、電子線出射窓２４と重ならないように電流読出電極５が設けられている。 - 特許庁

To provide a particle beam therapy system capable of stably maintaining control of high-precision irradiation beam current, against changes of the number of orbiting beam particles or tunes at synchrotron radiation.例文帳に追加

シンクロトロン出射時の周回ビーム粒子数やチューンの変化に対し、高精度な照射ビーム電流の制御を安定に維持できる粒子線治療システムを提供する。 - 特許庁

To provide a simple and versatile method for making an ion beam carry a high current, as to an ion beam generating device used for a device for analyzing an atomic arrangement on a surface and an interface by using a helium ion beam.例文帳に追加

ヘリウムイオンビームを用いて、表面・界面の原子配列を解析する装置に用いるイオンビーム発生装置に関し、簡便で汎用性のあるイオンビームの大電流化方法を提供する。 - 特許庁

To accurately control the current amount of an electron beam and extend the service life of an electron beam generation device by preventing discharge in an electron beam exposure device.例文帳に追加

電子ビーム露光装置における、放電を防止し、電子ビームの電流量を精度よく制御し、且つ、電子ビーム生成装置の長寿命化を図る。 - 特許庁