「BEAM CURRENT」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目)

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BEAM CURRENTの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 951件

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例文

To correct beam size so as not to cause an error by a Coulomb effect even when a beam current value is large in the charged particle beam exposure of a variable rectangular exposing system.例文帳に追加

可変矩形露光方式の荷電粒子ビーム露光において、ビーム電流値が大きい場合にもクーロン効果に起因する誤差が生じないようにビームサイズ補正を行なえるようにする。 - 特許庁

To efficiently adjust a beam current density distribution of each ion beam in an ion-beam-superposed region on a glass substrate irradiated with a plurality of ion beams.例文帳に追加

ガラス基板上に照射された複数本のイオンビームによる重ね合わせ領域において、各イオンビームのビーム電流密度分布を効率的に調整する。 - 特許庁

In beam tuning, scan (X) direction distribution characteristics of a beam current at a maximum beam scan width (BSW1) are measured, and a scan voltage correction function 15w at such a time is calculated.例文帳に追加

ビームチューニングにおいて、ビームスキャン幅最大（ＢＳＷ１）時のビーム電流のスキャン（Ｘ）方向分布特性を測定し、このときのスキャン電圧補正関数１５ｗを演算する。 - 特許庁

To provide a diaphragm unit capable of performing correct adjustment of a beam current of particle beams and limiting a beam path unrelated to a module of the particle beams, in a proper manner, and to provide a particle beam device that uses the diaphragm unit.例文帳に追加

粒子ビームのビーム電流の正確な調整を良好に行い、粒子ビームのモジュールとは無関係のビーム経路を限定する絞りユニットおよび絞りユニットを備える粒子ビーム装置を提案する。 - 特許庁

例文

A switch beam antenna system generates a plurality of beams in a predefined beam pattern and switches the current beam position to one of the plurality of predefined beams in accordance with measurement results for each of the beams.例文帳に追加

切替型ビームアンテナシステムは、予め定められたビームパターンをもって、複数のビームを発生させ、かつ、各ビームの測定結果に応じて、複数の予め定められたビームのうちの１つに、現在のビーム位置を切り替える。 - 特許庁

例文

To provide an adjusting method for a charged particle illumination optical system, in which an electric current density of illumination beam can stably be measured and an illumination beam adjusting, having a superior uniformity in an illumination beam surface can (uniform in illumination) be made.例文帳に追加

照明ビームの電流密度を安定に計測でき、照明ビーム面内均一性（照明一様性）に優れた照明ビーム調整が可能な荷電粒子線照明光学系の調整方法を提供する。 - 特許庁

To prevent discharge by electric charge of a fluorescent beam monitor provided on a beam passage of a charged particle accelerator, and to precisly measure a position, a diameter, a shape of a beam and a current value.例文帳に追加

荷電粒子加速器のビーム通過路上に設置された蛍光ビームモニタの電荷帯電による放電を防止し、かつビームの位置、径、形状ならびに電流値を精度よく測定可能なビームモニタを得る。 - 特許庁

To provide a charged particle beam measuring device capable of improving the upper limit of charged particle beam current measurable of space distribution of the charged particle beam in an accelerator system with a distribution measuring device.例文帳に追加

加速器システムのなかで荷電粒子ビームの空間分布分布測定装置で計測可能な荷電粒子ビーム電流の上限を向上させることができる荷電粒子ビーム計測装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device which generates an electron beam of a large current and a micro beam diameter with a simple and inexpensive configuration and is able to perform drawing speedily, and to provide a drawing device using the same.例文帳に追加

簡単な構成で安価に、大電流かつ微小ビーム径の電子ビームを発生し、高速に描画を行うことができる電子ビーム照射装置およびこれを用いた描画装置を提供する。 - 特許庁

例文

Furthermore, it is provided with a beam measuring instrument 46 measuring a beam current density distribution in the Y-direction of the ion beam 4, and a control device 50 controlling each flow regulator 36 based on the measured information and uniformalizing the beam current density distribution in the Y-direction of the ion beam 4 at an injection position.例文帳に追加

更に、イオンビーム４のＹ方向におけるビーム電流密度分布を測定するビーム測定器４６と、それによる測定情報に基づいて各流量調節器３６を制御して、注入位置でのイオンビーム４のＹ方向におけるビーム電流密度分布を均一化する制御装置５０とを備えている。 - 特許庁

例文

A waveform of a scanning voltage Vs output from a scanning power source 52 is shaped and scanning speed of the ion beam 4 is controlled based on the data from a beam measuring instrument 58 measuring a beam current distribution at the neighboring area of a target 6 in the X-direction of the ion beam 4, whereby, the beam current distribution is uniformalized.例文帳に追加

ターゲット６の近傍におけるイオンビーム４のＸ方向のビーム電流分布を計測するビーム計測器５８からのデータに基づいて、制御装置６０によって走査電源５２から出力する走査電圧Ｖ_S の波形整形を行い、イオンビーム４の走査速度を制御して、上記ビーム電流分布を均一化する。 - 特許庁

A control device has a control logical circuit for adjusting an opening gap, and automatically adjusted the opening gap on the basis of respective inputs for showing an actual ion beam current passing through a beam line, a desired ion beam current and an opening position.例文帳に追加

また、制御装置が、開口ギャップを調整する制御論理回路を有し、ビームラインを通過する実際のイオンビーム電流、所望のイオンビーム電流及び開口位置を表す各入力に基づいて、開口ギャップを自動的に調整する。 - 特許庁

To automatically control the beam current of an electron beam irradiated from a filament to a constant value, and to control the beam current to the constant value without stopping a production line in a TFT array substrate inspection device incorporated in the production line.例文帳に追加

フィラメントから照射される電子ビームのビーム電流を自動で一定値に制御し、また、生産ラインに組み込まれたＴＦＴアレイ基板検査装置において、ビーム電流の一定値制御を、生産ラインを停止することなく行う。 - 特許庁

ALD bar alley 2 is emitted by a pulse current more than several times of a rated continuous current, the laser beam linearly emitted is converged by a cylindrical lens 8, a flat plate 20 of an object to be worked is irradiated with the laser beam as a linear beam converging spot 10.例文帳に追加

ＬＤバーアレイ２を定格連続電流の数倍以上のパルス電流によって発光させ、ライン状に出射されるレーザー光をシリンドリカルレンズ８によって集光して被加工物である平板２０にライン状集光スポット１０として照射する。 - 特許庁

To provide a method for measuring a beam current of an electron-beam plotting apparatus capable of measuring the current density of an electron beam while carrying out the on-line operation.例文帳に追加

本発明は電子ビーム描画装置のビーム電流検出方法に関し、オンライン動作させながら、電子ビームの電流密度を測定することができるようにした電子ビーム描画装置のビーム電流測定方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a processing device having a compact stage structure that can irradiate respective surfaces of an object to be processed which has a three-dimensional structure with a gas cluster ion beam and can measure a beam current value and a beam current distribution at an irradiation position on a surface of the object to be processed even during the process.例文帳に追加

３次元構造をもつ加工対象物の各面にガスクラスターイオンビームを照射することができ、かつ各加工対象面の照射位置におけるビーム電流値やビーム電流分布をプロセス中にも計測可能なコンパクトなステージ構造を有する加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron gun for a cathode-ray tube capable of reducing a spot diameter of an electron beam when the electron beam is in a high current area, and restraining moire when the electron beam is in a low current area, and to provide a color cathode-ray tube equipped with the same.例文帳に追加

電子ビームが高電流域の場合には電子ビームのスポット径を縮小し、かつ電子ビームが低電流域の場合にはモアレを抑制し得る陰極線管用電子銃およびそれを備えたカラー陰極線管を提供する。 - 特許庁

The apparatus then irradiates a surface of a semiconductor device 1 with the charged beam 5 and scans the device 1 to absorb the beam 5 to the wirings 3, detects the beam 5 (current) absorbed by the wirings 3 by the probe 2 connected to the amplifier 7, and amplifies the detected current by the amplifier 7.例文帳に追加

次いで、半導体装置１の表面に荷電ビーム５を照射および走査することで、配線３に荷電ビーム５を吸収させ、増幅器７と接続されたプローブ２により配線３が吸収した荷電ビーム５（電流）を検出し、その検出した電流を増幅器７にて増幅する。 - 特許庁

A potential difference is imparted between the supports 22 to pass a current through the arched beam 24 to give a current-carrying heat to the arched beam 24 to cause arching displacement of the arched beam 24, with the valve 30 moved in the direction of arching displacement via the actuator member 26.例文帳に追加

支持体２２間に電位差を与えてアーチ梁２４に電流を流すことで、アーチ梁２４を通電加熱してアーチ梁２４を湾曲変位し、アクチュエータ部材２６を介してバルブ板３０をその湾曲変位方向に移動する。 - 特許庁

To reduce influence of noise superimposed on a long transmission path, when highly precisely measuring a feeble beam current, in an electron beam drawing device, and to provide technology to highly precisely and efficiently measure the feeble current in a multiple beam drawing apparatus.例文帳に追加

電子ビーム描画装置において、微弱なビーム電流を高精度に計測する際、長い伝送経路に重畳するノイズの影響を低減し、また、マルチビーム描画装置において、微弱なビーム電流を高精度に効率よく計測する技術を提供する。 - 特許庁

A beam current is measured at a turnaround point apart from the substrate and a current value is used to control a subsequent fast scan speed so as to compensate for the effect of a variation in beam current on dose uniformity in the slow scan direction.例文帳に追加

基板から離れた転換ポイントでビーム電流を測定し、その電流値を使用して、低速走査方向におけるドーズ均一性に対するビーム電流の変動の影響を補償するように、その後の高速走査速度を制御する。 - 特許庁

A moving mechanism 75 is formed on beam forming units 61, 62 for decelerating ions 80 emitted from an ion source and forming them into an ion beam 81 by reducing the beam diameter, so that the ions 80 are prevented from being applied on the beam forming units 61, 62 before a secondary electron current is measured.例文帳に追加

イオン源から放出されるイオン８０を減速し、ビーム径を絞ってイオンビーム８１とするビーム成形器６１、６２に、移動機構７５を設け、二次電子電流を測定する前に、ビーム成形器６１、６２にイオン８０が照射されないようにする。 - 特許庁

The electron beam exposure device 10 for exposing the wafer with an electron beam includes an electron gun 110 for generating an electron beam, a wafer stage 148 for holding the wafer 146 exposed by the electron beam, and a beam instrument module 20 provided at the wafer stage 148 for detecting the current of the electron beam and storing it as digital data.例文帳に追加

電子ビームによりウェハを露光する電子ビーム露光装置１０は、電子ビームを発生する電子銃１１０と、電子ビームによって露光されるウェハ１４６を保持するウェハステージ１４８と、ウェハステージ１４８に設けられ、電子ビームの電流を検出してデジタルデータとして格納するビーム計測モジュール２０とを備える。 - 特許庁

A molecular beam 3 of a measuring-objective molecule is irradiated with a flat laser beam 4 having a major axis in a molecular beam 3 flowing direction as the laser beam 4 for ionization to ionize the measuring-objective molecule, in a laser inonization mass spectrometer wherein the molecular beam 3 is irradiated with the laser beam 4 to ionize the objective molecule, so as to conduct mass spectrometric analysis by detecting an ion current therein.例文帳に追加

レーザー光４を測定対象分子の分子ビーム３に照射して、前記測定対象分子をイオン化してそのイオン電流を検知して質量分析を行うレーザーイオン化質量分析装置において、前記イオン化のためのレーザー光４として、前記分子ビーム３の流れ方向に長軸を有する偏平なレーザー光を前記分子ビームに照射して、イオン化を行う。 - 特許庁

The flyback transformer fault detection circuit is provided with a power supply current detection circuit section 3, a beam current detection circuit section 4, and a fault current detection circuit section 14.例文帳に追加

このフライバックトランス異常検知回路は、電源電流検出回路部３と、ビーム電流検出回路部４と、異常電流検出回路部１４とを備える。 - 特許庁

To improve the current-voltage conversion accuracy of a current-voltage converter circuit for converting a photo current to a voltage, corresponding to a laser beam output received by a photo diode.例文帳に追加

本発明は、フォトダイオードで受光したレーザ光出力に応じた光電流を電圧に変換する電流電圧変換回路において、電流電圧変換の精度を向上できるようにするものである。 - 特許庁

The laser 2 is driven with a current I_1 provided by subtracting the current I_2 from the current I_0', to output a laser beam modulated based on the modulated signal.例文帳に追加

電流Ｉ_ｏ’から電流Ｉ_２を差し引いた、電流Ｉ_１により、レーザ２が駆動され、変調信号に基づき変調されたレーザ光が出力される。 - 特許庁

A current flows in a feedback coil 5 to counterbalance the change of the magnetic flux, and a voltage generated by the current between both ends of a feedback resistance 7 is measured, to thereby measure the beam current.例文帳に追加

この磁束の変化を打ち消すようにフィードバックコイル５に電流が流れ、その電流がフィードバック抵抗７の両端に発生させる電圧を測定することでビーム電流が測定できる。 - 特許庁

The optical pickup device 1A is provided with a photodetection part which detects reflected light of an optical beam to be applied on the optical disk and outputs a current signal, and a current/voltage conversion part which converts the current signal to a voltage signal.例文帳に追加

光ピックアップ装置１Ａは、光ディスクに照射される光ビームの反射光を検出して電流信号を出力する光検出部と、電流信号を電圧信号に変換する電流電圧変換部とを備える。 - 特許庁

To provide a charged particle beam device that realizes, by a simple circuit arrangement, current control having high resolution and high stability, even if a drift of output current characteristics and a current jump occur due to an error of differential linearity accuracy of DAC.例文帳に追加

ＤＡＣの微分直線性精度の誤差に起因して出力電流特性のズレや電流とびが発生しても、簡単な回路構成で、高分解能と高安定性の電流制御を実現する荷電粒子線装置を提供する。 - 特許庁

An electric current to be supplied to the grid 4 that draws and accelerates an ion beam is measured by a grid current measuring unit 5, and then, the current so measured is voltage-converted and outputted.例文帳に追加

イオンビームを引き出し加速するグリッド４に供給される電流をグリッド電流測定部５により測定し、さらに測定した電流を電圧変換して出力する。 - 特許庁

To provide a current probe capable of measuring, with sufficient accuracy, the total current or the like of a lightning surge current flowing through a large structure, such as a pillar or a beam of a building or a steel tower.例文帳に追加

本発明の課題は、建物の柱、梁や鉄塔等の大きな構築物に流れる雷サージ電流の総電流等を十分な精度で測定を可能とする電流プローブを提供することにある。 - 特許庁

To provide a discharge lamp driving device which inhibits the overshoot of a tube current at the time of turning on the discharge lamp by a burst light control, and in which a target beam current is promptly raised with the discharge lamp driving device which can be started for the tube current.例文帳に追加

放電灯をバースト調光で点灯する際の管電流のオーバーシュートを抑制すると共に管電流を速やかに目標の電流値に立ち上げ可能な放電灯駆動装置を提供する。 - 特許庁

The electron beam recorder 100 includes a condenser lens 4 to converge an electron beam emitting from an electron gun 2, a current controlling aperture to control the electron beam passing the condenser lens 4, and an irradiation lens 6 to collimate the electron beam controlled by the current controlling aperture 5.例文帳に追加

この電子ビーム露光装置１００は、電子銃２から射出された電子ビーム３を集束させるコンデンサレンズ４と、コンデンサレンズ４を通過した電子ビームを制限する電流制御アパーチャ５と、電流制御アパーチャ５により制限された電子ビームを略平行にする照射レンズ６とを備えている。 - 特許庁

This ion milling device is provided with an ion beam source radiating ion beams to the specimen, an acceleration electrode accelerating ions of the ion beam source and functioning as a secondary electron suppressor, and an ion beam current measurement apparatus measuring electric current of the ion beams, and the acceleration electrode is installed between the specimen and the ion beam source.例文帳に追加

本発明は、試料にイオンビームを照射するイオンビーム源と、前記イオンビーム源のイオンを加速させるとともに二次電子サプレッサとして機能する加速電極と、前記イオンビームの電流を測定するイオンビーム電流測定器とを備え、前記試料と前記イオンビーム源との間に前記加速電極を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

The amount of charges of a low frequency pulse beam such as an electron beam generated by a microtron can be measured by providing an integrating circuit 10 to integrate a pulse beam current for one pulse, a discharge circuit 20 to discharge the beam current for one pulse integrated by the integrating circuit 10 and a clocking circuit 30 to measure a discharge time by the discharge circuit 20.例文帳に追加

パルスビーム電流の１パルス分を積分する積分回路１０と、該積分回路１０で積分された１パルス分のビーム電流を一定速度で放電させる放電回路２０と、該放電回路２０による放電時間を測定する計時回路３０とを備えることにより、マイクロトロンで発生する電子ビームのような低周波のパルスビームの電荷量を測定することを可能とした。 - 特許庁

To provide an ion implanter comprising a beam current measuring unit which can measure the value of a substantial beam current, with which a target is irradiated, depending on the pressure variation in a processing chamber changing every moment, and can measure an accurate beam current without being affected by a fluctuation caused by the charge up of a target.例文帳に追加

時々刻々と変化する処理室内での圧力変動に応じて、ターゲットに照射されている実質的なビーム電流の値を算出可能にするとともに、ターゲットのチャージアップに起因するゆらぎの影響を受けずに正確なビーム電流の測定を可能とするビーム電流測定器を備えたイオン注入装置を提供する。 - 特許庁

The controller of semiconductor laser is provided with a semiconductor laser 12 emitting a laser beam irradiating the optical disk, a constant current circuit 14 making a constant current flow in the semiconductor laser 12, and a switch 21 performing on-off of the constant current made to flow in the semiconductor laser 12 by the constant current circuit 14.例文帳に追加

光ディスクに対して照射するレーザ光を発光する半導体レーザ１２と、半導体レーザ１２に定電流を流す定電流回路１４と、定電流回路１４により半導体レーザ１２に流される定電流をオンオフするスイッチ２１とを備える。 - 特許庁

In an image forming apparatus where a laser beam is generated by a pulse current being generated depending on an image signal and a semiconductor layer being supplied with a bias current and exposure scanning of a rotating photosensitive drum is carried out with that laser beam, the bias current is stopped (LD current) or reduced at a predetermined timing (/Bias) when the photosensitive drum is rotated at a speed lower than a normal speed.例文帳に追加

画像信号に応じて発生するパルス電流と、バイアス電流が供給される半導体レーザにより、レーザビームを発生し、このレーザビームにより回転する感光ドラムを露光走査する画像形成装置において、前記感光ドラムを通常時より低速回転させる場合に、所定のタイミング（／Ｂｉａｓ）で前記バイアス電流を停止（ＬＤ電流）または減少させる。 - 特許庁

In the electron beam lithography apparatus 1, electron beam drawing is performed by irradiating a specimen with the electron beam 6 shaped by the shaping aperture, abnormalities of the electron beam 6 are detected based on a change in the amount of a current detected by the detector, and electron beam drawing of the specimen is stopped by determining occurrence of abnormalities.例文帳に追加

電子ビーム描画装置１では、成形アパーチャで成形された電子ビーム６を照射して試料上に電子ビーム描画をするとともに、検出器で検出される電流量の変化に基づいて、電子ビーム６の異常を感知し、異常発生を判断して試料への電子ビーム描画を停止するようにする。 - 特許庁

When continuously irradiating the electron beam to a moving grain-oriented electromagnetic steel sheet in its width direction, a converging current of the electron beam is adjusted according to an incidence angle of the electron beam to the steel sheet surface so as to change the area of a beam spot, thereby homogenizing the energy density across the width direction of the beam spot.例文帳に追加

走行する方向性電磁鋼板の幅方向に、連続して電子ビームを照射するにあたり、該電子ビームの鋼板表面に対する入射角度に応じ、該電子ビームの収束電流を調整して、ビームスポットの面積を変更することにより、幅方向にわたる該ビームスポットのエネルギー密度を一定に制御する。 - 特許庁

In the manufacturing apparatus for the optical master disk, as the characteristics of a means 1 for irradiating a resist layer 102 composed of the electron beam photosensitive resist of the optical master disk with converged electron beams, the maximum acceleration voltage of the electron beam 2 is ≤15 kV, an electron beam spot diameter in an irradiation beam current 80 nA is ≤80 nm, and a beam blanking frequency is ≥50 MHz.例文帳に追加

光ディスク原盤の電子線感光レジストから成るレジスト層１０２に対して集束された電子ビームを照射する手段１の特性として、電子ビーム２の最大加速電圧が１５ｋＶ以下、照射ビーム電流８０ｎＡにおける電子ビームスポット径が８０ｎｍ以下、ビームブランキング周波数５０ＭＨｚ以上である光ディスク原盤の製造装置を構成する。 - 特許庁

Fine milling was started using the 350 pA beam current to reduce the membrane thickness down to 0.3 μm over a considerably small width of 9 μm. 例文帳に追加