「BEAM CURRENT」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

A high-resistance film is formed on the outside surface of an insulator provided with a cathode for emitting thermoelectrons and a grid for forming an electron beam by converging the thermoelectrons in this electron beam generation device, and accumulation of the thermoelectrons in the insulator is prevented and thereby discharge is prevented by carrying a minute current to the high-resistance film.例文帳に追加

電子ビーム生成装置における、熱電子を放出するカソード、及び熱電子を集束させ電子ビームを形成するグリッドが設けられた碍子の外面に高抵抗膜を設け、高抵抗膜に微小な電流を流すことにより、碍子における熱電子の蓄積を防ぎ、放電を防止する。 - 特許庁

As one embodiment, the laser system has a gain medium (210) that emits a beam in response to the applied current, a wavelength selective reflector (240) structured such that it resonates the beam emitted from the gain medium, and chambers (205, 305, 505, 705, and 905) that contain the predetermined atmosphere.例文帳に追加

１実施形態では、レーザシステムは、印加された電流に応答して光を放出する利得媒質（２１０）と、利得媒質から放出された光を共振させるよう構成された波長選択性反射器（２４０）と、所定の雰囲気を収容するチャンバ（２０５，３０５，５０５，７０５，９０５）とを備える。 - 特許庁

To realize an inspecting method of a semiconductor wafer test piece, which uses a charged particle beam, and can improve absorption current sensing sensitivity and detecting accuracy by exactly controlling the charged particle beam irradiating the test piece in response to measurement purpose, and to provide its equipment.例文帳に追加

試料に照射する荷電粒子ビームを計測目的に応じて的確に制御することで、吸収電流検出感度と検出精度を向上させることができる荷電粒子ビームを用いた半導体ウェハ試料の検査方法および装置を実現する。 - 特許庁

When the tip of the diamond probe 1 for machining is worn away or altering of the probe tip shape is needed, machining of the tip of the diamond probe for machining is performed by selective irradiation of an electron beam 4 to only a region requiring with increase in amount of water vapor and current of the electron beam 4.例文帳に追加

加工用ダイヤモンド探針1の先端が磨耗している場合や探針先端形状の変更が必要な場合は水蒸気量と電子ビーム4の電流量を増やして電子ビーム4を必要な領域のみ選択照射して加工用ダイヤモンド探針先端を加工する。 - 特許庁

To provide a picture tube device enabled to form a cross over with small diameter at all time without variation of the cross over when beam current is modulated, as a result, enabled to display an image with high resolution, by making a beam spot on a fluorescent surface small.例文帳に追加

ビーム電流変調を行なったときに、クロスオーバーが変動することなく、常に小径のクロスオーバーを形成することができ、その結果、蛍光面上の電子ビームスポットを小さくして高い解像度の画像を表示することができる受像管装置を提供する。 - 特許庁

An injection current is supplied in the extent at which the semiconductor laser element is not excited, a plurality of beam spots are formed by turning toward a recording layer of the optical recording medium with light wave and the recording layer is retrieved by plotting loci at which the beam spots are not overlapped.例文帳に追加

半導体レーザ素子が励起されない程度に注入電流が供給され、光記録媒体の記録層に光波を向けて複数のビームスポットが形成され、ビームスポットが記録層上で重なり合わない軌跡を描いて記録層が検索される。 - 特許庁

An aperture for controlling an electron beam current has one or a plurality of holes other than a hole at a center of an optical axis on the periphery of the hole at the center so that spherical aberration of an objective lens forces electron beams passing through the holes to land at places a little distant from landing point of the electron beam coming from the hole at the center.例文帳に追加

電子線の電流を制限する絞りに、光軸中心の孔以外の孔を周囲に１個または複数個設け、それらの孔を通過した電子線が対物レンズの球面収差の作用により中心の孔からの電子線の着地点よりやや離れた場所に着地するようにする。 - 特許庁

An LD driving current is supplied from an LD driving circuit 14 to an LD1, a laser beam emitted from the LD1 is converted into parallel luminous fluxes by a collimator lens 2, and passed through a λ/2 plate 3, a shape rectifying prism 4 and a 3-beam generation grating 8 to enter a polarized beam splitter 5.例文帳に追加

ＬＤ駆動回路１４よりＬＤ駆動電流がＬＤ１に注入され、ＬＤ１から発光されたレーザ光は、コリメータレンズ２で平行光束化され、λ／２板３、整形プリズム４、３ビーム生成用グレーティング８を透過し、偏光ビームスプリッタ５に入射する。 - 特許庁

To improve the whole capacity of a power unit by returning a detected value of directly detected amount of generated ion beam to a controlling circuit of a discharge power supply, without adhering to constant current control of the discharge power supply, in a power supply used for an ion beam generator.例文帳に追加

イオンビーム発生装置に用いられる電源において、放電電源の定電流制御に固執することなく、イオンビーム発生量を直接検出した検出値を放電電源の制御回路に帰還させることで、電源装置全体の能力向上を図る。 - 特許庁

When the intensity of a light beam is adjusted, a driving pulse current the period of which and ON time of each pulse of which are fixed is input into a semiconductor laser 211, a pulse beam is received by a light-receiving unit 51, and a detection signal is output by the light-receiving unit 51.例文帳に追加

光ビームの強度調整の際には、周期および各パルスのＯＮ時間が一定である駆動パルス電流が半導体レーザ２１１に入力され、パルスビームが受光部５１にて受光されて検出信号が出力される。 - 特許庁

An optical disk 1 for irradiating an optical disk D with a laser beam includes a motor 2 for rotating the optical disk D and a control unit 7 for increasing/decreasing a rotational speed of the motor 2 based on a driving current of a laser element for irradiating the optical disk D with a laser beam and a temperature change of the laser element.例文帳に追加

光ディスクＤにレーザ光を照射する光ディスク装置１であって、光ディスクＤを回転させるモータ２と、レーザ光を照射するレーザ素子の駆動電流及び該レーザ素子の温度変化に基づいて、モータ２の回転速度を増減する制御部７と、を備える。 - 特許庁

A surface modifying method for the structural material 7 is for forming the hydrophilic minute uneven surface to the surface of the structural material by continuously irradiating the surface of the structural material 7 with an electron beam 5 at a given irradiation pitch, wherein the ratio of an irradiation current/an irradiation frequency of the electron beam 5 is 0.015-0.08.例文帳に追加

構造材７の表面に電子ビーム５を所定の照射ピッチで連続的に照射することにより構造材表面に親水性の微細凹凸面を形成する構造材７の表面改質方法において、前記電子ビーム５の照射電流／照射周波数比を０．０１５〜０．０８とする。 - 特許庁

An analyzing slit S1 of a mass spectrometry 12, the beam restricting slit S2 for measuring beam current amount through the control of the scan mechanism 15, and the faraday cup FC are arranged at the position defined by acceleration energy established by the acceleration condition of the accelerating tube 13.例文帳に追加

質量分析部１２の分析スリットＳ１と、スキャン機構１５の制御を介してビーム電流量を計測するためのビーム制限スリットＳ２及びファラディーカップＦＣは、加速管１３の加速条件の設定による加速エネルギーで規定される位置に配置される。 - 特許庁

An injection current is supplied in the extent at which the semiconductor laser element is not excited, light wave is turned toward a recording layer of the optical recording medium from the surface emitting semiconductor laser element, and a plurality of beam spots are formed, and this recording layer is retrieved by that the beam spots plot loci being not overlapped on the recording layer.例文帳に追加

半導体レーザ素子が励起されない程度に注入電流が供給されて表面発光半導体レーザ素子から光記録媒体の記録層に光波を向けて複数のビームスポットを形成され、ビームスポットが記録層上で重なり合わない軌跡を描いてこの記録層が検索される。 - 特許庁

To provide a metal oxide sintered compact which is a forming material for an optical thin film having high refractive index and small light absorbance and which is used as a material for vacuum deposition, wherein the crack of the material and the depression on a beam-irradiated surface or the like are not caused even when performing irradiation with electron beam of high current.例文帳に追加

高屈折率を有する光吸収率の小さい光学薄膜用材料であり、大電流の電子ビームの照射を行っても材料の割れやビーム照射面の陥没などの起こらない真空蒸着用材料として用いることのできる金属酸化物焼結体を提供する。 - 特許庁

When switching is performed, if the coercive force of the transparent ZnO magnetic layer is reduced by additionally irradiating the transparent ZnO magnetic layer with a laser beam, making the magnetic layer absorb the laser beam and heating the magnetic layer, magnetization change can be generated by using less current and power-saving, miniaturization and lightweight can be achieved.例文帳に追加

スイッチングに際しては、付加的にレーザー光を照射して透明ＺｎＯ磁性層に吸収させ加熱することによって透明ＺｎＯ磁性層の保磁力を低下させれば、より少ない電流で磁化変化を起こすことにより、省電力化、小型化、軽量化がはかれる。 - 特許庁

A laser beam pulse-driven by a high frequency signal from an HF oscillator 11 is irradiated to an optical disk 1, an output of a photodetector receiving the laser beam reflected from the optical disk is converted to a electric pulse reproduced signal by a current amplifier 13.例文帳に追加

ＨＦ発振器１１からの高周波信号でパルス駆動されたレーザ光を光ディスク１に照射し、光ディスクから反射されたレーザ光を受光する光検出器の出力を電流アンプ１３によって電気的なパルス再生信号に変換する。 - 特許庁

To provide an accelerator device capable of easily conducting beam adjustment containing orbit correction to the change of output current of a power source, reducing the number of load switching units and exciting power sources even when beams are divided in plural courses, and reducing possibility generating unnecessary beam loss.例文帳に追加

電源の出力電流の変動に対する軌道補正を含めたビーム調整が容易で、ビームコースが複数に別れている場合にも負荷切換器及び励磁電源の員数を低減し、不要なビーム損失の可能性を改善する加速器装置の提供にある。 - 特許庁

Voltage or a current value applied on the second coherent light source 12 is controlled so that incident intensity on the third photodetector 24 is constant on the basis of the intensity of the light beam from the second coherent light source 12 detected with the third photodetector 24 by a light beam intensity control means.例文帳に追加

そして、光ビーム強度制御手段により、該第３の光検出器２４で検出した第２の可干渉光源１２からの光ビームの強度に基づいて、その第３の光検出器２４への入射強度が一定となるように、第２の可干渉光源１２に印加する電圧もしくは電流値を制御する。 - 特許庁

In a space allowing a light beam emitted from the light beam emitting window 6 of the optical scanner 20 to a photoreceptor 5, to pass therethrough, air currents 57 and 58 flow in the shaft direction of the photoreceptor, and the direction of the air current and the optical scanning direction by the rotating polygon mirror are made the same.例文帳に追加

光走査装置２０の光線射出窓６から感光体５に向けて射出された光線が通過する空間の気流５７、５８が感光体軸方向に流れており、当該気流の方向と回転多面鏡による光走査方向が同じ向きとする。 - 特許庁

(2) Two places (e.g. both hands) of a living body are connected to a galvanometer via a capacitor, a μ-neutrino beam which is radiated from another living body is received by the face of the living body, a change in the current of the galvanometer at this time is read out, and the μ-neutrino beam is detected.例文帳に追加

（２）生体の二つの場所（例えば、両手）を、コンデンサーを介してガルバノメーターに接続し、生体の面で別の生体から発射されたミューニュートリノビームを受け、そのときのガルバノメーターの電流の変動を読みミューニュートリノビームを検出する。 - 特許庁

A Faraday cup for measuring the current of the ion beam is installed oppositely to the head of the beam introduction pipe 2 across the sample S under a table 1, and a nitrogen gas introduction pipe is connected thereto, and the air in the space from the under surface of the sample to the Faraday cup is evacuated to form a nitrogen gas atmosphere.例文帳に追加

テーブル１の下方には、試料Ｓを挟んでビーム導入管２の先端と対向するようにイオンビームの電流測定用ファラディカップを設け、これに窒素ガス導入管を接続し、試料の下面からファラディカップまで空間の空気を排除して窒素ガス雰囲気を形成する。 - 特許庁

The current density of an electron beam for charge neutralization and the irradiation position, range and intensity of the electron beam are varied in time series to achieve optimum conditions for each of a plurality of patterns different from each other in optimum conditions in charge neutralization and each defective part is irradiated.例文帳に追加

電荷中和の最適条件が異なる複数のパターンに対して、時系列的に電荷中和用の電子ビームの電流密度や照射位置・範囲・強度をそれぞれのパターンの最適条件になるように変化させて欠陥を含んだ個所に照射する。 - 特許庁

The optical pickup 1 comprises a semiconductor laser 2, a light attenuating filter actuator 100 for attenuating a laser beam from the semiconductor laser 2, a light receiving sensor 17 for detecting return light from an optical disk after the laser beam is radiated to the optical disk, and a current control circuit 19.例文帳に追加

光ピックアップ装置１は、半導体レーザ２と、半導体レーザ２からのレーザ光を減光する減光フィルタアクチュエータ１００と、レーザ光が光ディスクに照射された後、光ディスクからの戻り光を検知する受光センサ１７と、電流制御回路１９と、を備える。 - 特許庁

A target distribution to be an adjustment target of a beam current density distribution is set for the respective ribbon-like ion beams, and first to (m-1)th ribbon-like ion beams are adjusted such that the beam current density distribution is within a first allowable range for the target distribution.例文帳に追加

各リボン状イオンビームに対してビーム電流密度分布の調整目標とする目標分布を設定し、予め決められた順番従って、１本目からｍ−１本目までのリボン状イオンビームに対して、ビーム電流密度分布が目標分布に対して第１の許容範囲内に入るように調整する。 - 特許庁

This ion source device is equipped with a slit adjusting plate 6 mounted on an arc chamber 2 for varying the opening area of a slit 5, a motor 8 for driving the slit adjusting plate 6, and a controller 13 for controlling the motor 8 based on the result of comparison of a measured ion-beam current Ia with a previously set-up target ion-beam current Ib.例文帳に追加

開示されているイオン源装置は、アークチャンバ２に取り付けられてスリット５の開口面積を可変させるスリット調整板６と、このスリット調整板６を駆動するモータ８と、測定イオンビーム電流Ｉａと予め設定された目標イオンビーム電流Ｉｂとの比較結果に基づいてモータ８を制御するコントローラ１３とを備えている。 - 特許庁

The control circuit 6 controls the level converting circuit 1 to shift the DC voltage level in one direction so that almost the same beam current value as the initial beam current value (i) read from the storage circuit 7 can be obtained, and to return the shifted DC voltage level to the opposite direction only by almost the same initial shift amounts X.例文帳に追加

制御回路６は、記憶回路７から読み出した初期ビーム電流値ｉとほぼ同じビーム電流値が得られるように直流電圧レベルを一方向にシフトさせ、当該シフト後の直流電圧レベルを逆方向に初期シフト量Ｘとほぼ同じだけ戻すように、レベル変換回路１を制御する。 - 特許庁

Even when the oscillation wavelength of the semiconductor laser 1 changing in the oscillation wavelength according to the temperature is changed by a change of a driving current 11 or a laser beam output of the laser 1, a set temperature of the laser 1 is always corrected by a reference voltage corrector 15 in response to the change of the driving current or the laser beam output, and hence the change of the oscillation wavelength can be suppressed.例文帳に追加

温度によって発振波長の変化する半導体レーザ１の駆動電流１１やレーザ光出力の変化によって発振波長が変動しても、常にこの駆動電流やレーザ光出力の変化に応じて半導体レーザ１の設定温度が基準電圧補正回路１５で補正されるため、発振波長の変動を抑えることができる。 - 特許庁

This charge-up measurement device 20 has plural measuring conductors 22 disposed on a surface across an ion beam 12, for receiving the ion beam 12; plural bidirectional constant voltage elements 28 respectively connected to the measuring conductors 22; and plural current measurement devices 30 each for measuring a polarity and an amount of a current I flowing through each the bidirectional constant voltage element 28.例文帳に追加

このチャージアップ測定装置２０は、イオンビーム１２と交差する面に配列されていてイオンビーム１２を受ける複数の測定用導体２２と、この各測定用導体２２にそれぞれ接続された複数の双方向定電圧素子２８と、この各双方向定電圧素子２８を通して流れる電流Ｉの極性および大きさをそれぞれ測定する複数の電流測定器３０とを備えている。 - 特許庁

Current density distributions of a scanning direction (X direction) of an ion beam 2 at two Z coordinate positions Zf and Zb are measured by multi-point faradays 20, 30, and the current density distributions of the scanning direction of the beam 2 at an arbitrary Z position disposed in a material 4 to be treated are obtained by an interpolating method using the distributions.例文帳に追加

二つのＺ座標位置Ｚ_f およびＺ_b におけるイオンビーム２の走査方向（Ｘ方向）の電流密度分布を多点ファラデー２０、３０でそれぞれ測定し、その電流密度分布を用いて内挿法によって、被処理物４内に位置する任意のＺ座標位置におけるイオンビーム２の走査方向の電流密度分布を求める。 - 特許庁

The multi-charged particle writing system for writing on a wafer 9 using a plurality of charged particle beams comprises a Faraday cup 14 receiving a plurality of charged particle beams directly and measuring the total current thereof, and a multi-detector 15 having a function for receiving each charged particle beam directly and multiplying incident electrons, and measuring the relative value of the current of each charged particle beam.例文帳に追加

複数の荷電粒子線を用いてウエハ９を描画するマルチ荷電粒子線描画装置において、複数の荷電粒子線を直接入射させその総電流を計測するファラデーカップ１４と、各荷電粒子線を直接入射させ入射電子を増倍する機能を有し、各荷電粒子の電流の相対値を計測するマルチ検出器１５とを有する。 - 特許庁

To provide a microwave ion source or a plasma source stabilizing beam current without precise magnetic field adjustment by reducing change of plasma density caused by change of strength of magnet field in axial direction or ion beam current, and to provide an application device utilizing the above devices such as a linear accelerator system, an accelerator system for medical use, or the like.例文帳に追加

軸方向磁場の強度変化によるプラズマ密度或いはイオンビーム電流の変化を低減し、精密な磁場調整なしでビーム電流を安定化するマイクロ波イオン源或いはプラズマ源と、それを利用した線形加速器システム、医療用加速器システム等の機器等の応用装置を提供する。 - 特許庁

An ion beam 32 which is incident from a main slit 14 is made incident on a main Faraday cup 43, a sub-slit 15 and an auxiliary Faraday cup 53 are formed in an ion current detector 10 for measuring ion current, and after the mass spectrometry analysis of an ion beam 33 incident from the sub-slit 15 is carried out, it is admitted into the auxiliary Faraday cup 53.例文帳に追加

主スリット１４から入射したイオンビーム３２を主ファラディカップ４３に入射させ、イオン電流を測定するイオン電流検出器１０に、副スリット１５と副ファラディカップ５３とを設け、副スリット１５から入射したイオンビーム３３を質量分析した後、副ファラディカップ５３に入射させる。 - 特許庁

A color picture tube device is formed by mounting field controller 32 correcting a phase shift of serially arranged center beam and side beam by a vortex current generated in a convergence-cup by a crosslinking of a deflecting magnetic field on the inside of the convergence-cup 1, the field controller being formed in the asymmetric form to an axis perpendicular to a 3-electron beam arranging direction.例文帳に追加

コンバーゼンス・カップ1 の内側に偏向磁界の鎖交によりコンバーゼンス・カップに発生する渦電流による一列配置のセンタービームと一対のサイドビームの位相ずれを補正するフィールドコントローラ32が設けられてなるカラー受像管装置において、そのフィールドコントローラを３電子ビームの配列方向と直交する軸に対して非対称形状に形成した。 - 特許庁

For example, the convergent electron beam 110 of a 20 kV accelerating voltage, a current amount of an electron beam 100 pA, and a 50 nm spot size, is scanned at a 400 nm/s scan speed to a scan direction 111 vertical to an extension direction of the carbon nanotube 103, and the state where the convergent electron beam 110 is irradiated on the local area of the carbon nanotube 103 is created.例文帳に追加

例えば、加速電圧２０ｋＶ，電子線の電流量１００ｐＡ，スポットサイズ５０ｎｍの収束電子線１１０を、カーボンナノチューブ１０３の延在方向に対して垂直な走査方向１１１に、走査速度４００ｎｍ／ｓで走査し、カーボンナノチューブ１０３の局所領域に、収束電子線１１０が照射された状態とすればよい。 - 特許庁

The laser unit (10) includes: a mask (14) allowing the laser beam to selectively pass; a reducing lens part (15) reducing at a ratio that is set to irradiate the amorphous substance with the laser beam having passed through the mask; and an interception (16) intercepting the inflow of outside air current to the space between the mask connecting the focus of the laser beam and the reducing lens part.例文帳に追加

そして、レーザーユニット（１０）は、レーザービームを選択的に通過させるマスク（１４）、マスクを通過したレーザービームを非晶質物質に照射するために設定された比率で縮小する縮小レンズ部（１５）、そしてレーザービームの焦点が結ばれるマスクと縮小レンズ部との間への外部気流の流入を遮断する遮断部（１６）を含む。 - 特許庁

The lithographic unit includes an illuminating system that controls a radiation beam, a patterning support that retains a patterning device for patternizing the radiation beam, a substrate support that retains a substrate, a projection system that projects the radiation beam with a pattern, an additional support, and a flexible line assembly that transmits at least any one of current, signal, and fluid.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームをパターン化するパターニングデバイスを保持するパターニングサポートと、基板を保持する基板サポートと、パターン付き放射ビームを基板に投影する投影システムと、追加のサポートと、電流、信号および流体のうちの少なくとも１つを伝達する可撓性の線アセンブリとを含む。 - 特許庁

The beam size is approximated by a polynomial in the beam current measurement, and a fine size region wherein the contributions from an offset and a rotation coefficient are large in each order is calibrated beforehand, and offset coefficients are added to gain coefficients independently in the xy coordinate directions, and higher order trapezoidal coefficients are so calibrated that the inclination distortion thereof will be minimum in a beam size large region.例文帳に追加

本発明は、ビーム電流測定でビーム寸法を多項式で近似し、各次数でオフセットおよび回転係数の寄与の大きい微細寸法領域をあらかじめ校正して、ゲイン係数はｘｙ座標方向に独立にオフセット係数を加え、高次の台形係数はビーム寸法大領域でその傾斜歪が最小となるように校正するものである。 - 特許庁

To provide a device and a method for optical disk original disk recording which enables even an original disk exposing device for an optical disk which uses which enables even an original disk exposing device for an optical disk which uses an electron beam to makes pit width corrections by pit lengths with beam intensity while a beam current taken out of a source is held stable.例文帳に追加

この発明は、電子ビームによる光ディスク用原盤露光装置においても、ソースから取り出されるビーム電流を安定させたままで、ビーム強度によって各ピット長毎のピット幅補正を行うことを可能とする光ディスク原盤記録装置とその方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

The detection element comprises a silicon membrane 1 provided with a cantilever beam 11; the superconducting closed circuit 3 formed in a surface or the inside of the cantilever beam 11; a Josephson junction 4 inserted in the closed circuit 3; and a property change detection means for detecting deformation of the cantilever beam 11 on the basis of changes in a maximum superconducting current which can be made to flow through the superconducting closed circuit 3.例文帳に追加

検出素子は、片持ち梁１１を備えたシリコン薄膜１と、片持ち梁１１の表面あるいは内部に形成された超伝導体閉回路３と、閉回路３に挿入されたジョセフソン接合４と、片持ち梁１１の変形を、超伝導体閉回路３に流すことができる最大超伝導電流の変化を通じて検出する物性変化検出手段とを有する。 - 特許庁

The light source part 10a includes a laser beam source 12 with a semiconductor laser, a light source control circuit 11 for controlling a current injected into the semiconductor laser to modulate a frequency of the laser beam emitted from the semiconductor laser, and a ring resonator 13 for resonating the laser beam emitted from the semiconductor laser to be guided to the measured optical fiber FB.例文帳に追加

光源部１０ａは、半導体レーザが設けられたレーザ光源１２と、半導体レーザに注入する電流を制御して半導体レーザから射出されるレーザ光の周波数変調を行う光源制御回路１１と、半導体レーザから射出されるレーザ光を共振させて被測定光ファイバＦＢに導くリング共振器１３とを備える。 - 特許庁

In the electron beam vapor deposition system provided with a pierce type electron gun, sensors for catching electrons sprung from or result from electron beams are installed in the vicinities of beam paths, and electric current and/or voltage based on the electrons caught by the sensors is detected, thus the state of the beam is monitored.例文帳に追加

本発明の電子ビーム蒸着装置は、電子ビームに起因乃至由来する電子を捕捉するためのセンサがビームパスの近傍に設置され、センサによって捕捉された電子に基づく電流および／または電圧を検出することで、ビーム状態をモニタするようにしたピアス式電子銃を備えてなることを特徴とする。 - 特許庁

A beam is statically deflected to the maximum deflection by all the deflectors 110 and in front of a specific slit aperture along the path of the charged particle beam, then scanning is made in a direction in parallel with a direction for crossing the direction of static deflection, at the same time, the current of the charged particle beam captured by the end part of each slit aperture 150 is recorded successively.例文帳に追加

荷電粒子ビームの経路に沿った特定のスリット・アパーチャより上／前のすべての偏向器を使用してビームを最大偏向まで静的に偏向させ、次に、静的偏向の方向に対して直交する方向と平行する方向にスキャンすると同時に、各スリット・アパーチャの縁部によって捕捉された荷電粒子ビームの電流を順に記録する。 - 特許庁

This semiconductor laser stimulating solid-state laser for solid- state laser medium 13 by a laser beam L1 generated from the semiconductor laser 11 is provided with a photodetector 33 for detecting at least a part of the outputted laser beam L3 and an APC circuit 34 for controlling the driving current of the semiconductor laser 11 so as to fix the output of the laser beam L3 based on the output signal S1 of the photodetector 33.例文帳に追加

固体レーザー媒質13を半導体レーザー11から発せられたレーザービームL1によって励起する半導体レーザー励起固体レーザーにおいて、出力されるレーザービームL3の少なくとも一部を検出する光検出器33と、この光検出器33の出力信号S1に基づいて、レーザービームL3の出力を一定化するように半導体レーザー11の駆動電流を制御するＡＰＣ回路34とを設ける。 - 特許庁

The ion beam device includes an electron source to irradiate ions to an emitter to emit the ions, and when the ion current becomes destabilized by impurities adhered to the emitter of the ion source, senses fluctuations of the ion current and irradiates the electrons to the emitter tip.例文帳に追加

本発明におけるイオンビーム装置では、イオンを放出するエミッタに電子を照射する電子源を備え、イオン源のエミッタへ付着する不純物によりイオン電流が不安定となった際には、そのイオン電流の変動を感知してエミッタ先端に電子を照射する。 - 特許庁