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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > BEAM CURRENTの意味・解説 > BEAM CURRENTに関連した英語例文

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BEAM CURRENTの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 951



例文

The lens element 40 is set so that the current density distribution of the ion beam can be adjusted in a region near a focusing position 52 of the ion beam.例文帳に追加

レンズ要素40は、イオンビームの収束位置52の近傍の領域で、イオンビームの電流密度分布が調整されるようにレンズ要素40が設けられている。 - 特許庁

Because beam transportation efficiency can be obtained by measuring beam current at each position before ion implantation into wafer, ion is not required to be actually implanted into wafer.例文帳に追加

ウェハに対するイオン注入の前に、ビーム輸送効率を各位置におけるビーム電流を測定することによって得られるため、ウェハに実際にイオンを注入する必要がなくなる。 - 特許庁

To make errors of beam current measurement small by suppressing incidence of ions in a plasma generated in beam plasma and near a mask surface to a Faraday cup.例文帳に追加

ビームプラズマおよびマスク表面付近に発生するプラズマ中のイオンがファラデーカップに入射することを抑制して、ビーム電流計測の誤差を小さくする。 - 特許庁

To adjust a current density distribution of an ion implantation apparatus with precision by finely bending a part of a stripe type ion beam in a surface of the stripe type ion beam.例文帳に追加

イオン注入装置において、帯状イオンビームの一部分を帯状イオンビームの面内で小さく曲げて電流密度分布を精度よく調整する。 - 特許庁

例文

To provide an ion implantation apparatus capable of improving uniformity of a beam current density distribution in the Y-direction of an ion beam in a ribbon shape at an injection position.例文帳に追加

注入位置でのリボン状イオンビームのY方向におけるビーム電流密度分布の均一性を高めることができるイオン注入装置を提供する。 - 特許庁


例文

Adsorbate depletion is controlled by controlling the beam current, preferably by rapidly blanking the beam and by cooling the substrate.例文帳に追加

吸着物質の枯渇は、ビーム電流を、好ましくはビームを高速ブランキングすることによって制御すること、および基板を冷却することによって制御することができる。 - 特許庁

A second charged-particle beam is an ion beam 102 for smoothing processing which performs the smoothing processing by variably controlling a pulse width and a current amount corresponding to the change of the scanning speed.例文帳に追加

第2の荷電粒子ビームは、前記走査速度の変化に応じてパルス幅や電流量を可変制御することで平滑化加工を行う平滑化加工用イオンビーム102である。 - 特許庁

To provide a small and less expensive electron beam generator that generates effectively an electron beam that has large electron current and also has high acceleration energy.例文帳に追加

大きな電子電流を有するとともに高い加速エネルギーを有する電子線を効率よく発生させる小型で安価な電子線発生装置を提供する。 - 特許庁

To provide a phase width confining method and a phase width confining device enlarging the value of a beam current by confining the phase width of a beam of a cyclotron and improving the transmissivity of the same.例文帳に追加

サイクロトロンにおけるビームの位相幅を制限して、且つ、透過率を向上してビーム電流値を大きくする位相幅制限方法および位相幅制限装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide an image forming device where pulse width in the pulse width modulation control of a laser beam source is set to an appropriate value which is not influenced by the threshold current of the laser beam source.例文帳に追加

本発明はレーザー光源のパルス幅変調制御のパルス幅をレーザー光源のしきい値電流に影響されない適切な値に設定する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide an electron beam generating apparatus for multi-column which can be controlled to discharge a stable electron beam corresponding to variation in emission current.例文帳に追加

エミッション電流の変化に対応し、安定した電子ビームを放出することができるように制御可能なマルチコラム用電子ビーム生成装置を提供すること。 - 特許庁

The current density of the ion beam 2 is favorably at most 65 μA/cm^2, and the magnetic material thin film can be irradiated with the ion beam during the deposition of the thin film.例文帳に追加

イオンビーム2の電流密度は、65μA/cm^2以下であることが好ましく、磁性材料薄膜を成膜中にイオンビームを照射してもよい。 - 特許庁

The fluorescent screen 20 also acts as an electron beam detecting screen, and a current corresponding to the electron beam quantity detected with the fluorescent screen 20 is sent to an electron microscope controlling computer 18 through an amplifier 22.例文帳に追加

蛍光板20は電子線検出板を兼ねており、蛍光板20で検出された電子ビーム量に対応する電流は増幅器22を介して電子顕微鏡制御用コンピューター18に送られるように成っている。 - 特許庁

To provide a short-arc type discharge lamp with high reliability, of which the inner lead rod and the current collecting disc can be connected tightly by a welding method that uses laser beam irradiation or electron beam irradiation.例文帳に追加

レーザービーム照射又は電子ビーム照射による溶接法によって、内部リード棒と集電円板とを強固に接合でき、信頼性の高いショートアーク型放電ランプを提供すること。 - 特許庁

To provide an electron beam type measurement and inspection apparatus and a measurement and inspection method featuring a reduced divergence in electron beam scanning caused by a mirror body current noise.例文帳に追加

鏡体電流ノイズで発生する電子ビーム走査ずれを低減した電子ビーム式計測および検査装置と計測および検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ion implanter and its control method wherein reduction of real beam current in the beam deflection part is analyzed, and a dose control method is adopted from the result.例文帳に追加

ビーム偏向部における実ビーム電流の減少を解析し、結果からドーズ制御方法を採用したイオン注入装置及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam trajectory correcting method and device with an arithmetic unit capable of simply and appropriately calculating an exciting current quantity without restricted by the number of steering electromagnets and beam position monitors.例文帳に追加

ステアリング電磁石とビームポジションモニタとの数の制約を受けずに、簡単かつ適切な励磁電流量を算出できる演算装置を備えた電子ビームの軌道補正装置及び軌道補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ion implantation device in which a uniformity of a beam current density distribution in a Y direction of the ion beam can be improved even if a plasma density distribution is not uniform in a plasma generator of an ion source.例文帳に追加

イオン源のプラズマ生成部内におけるプラズマ密度分布が均一でない場合でも、イオンビームのY方向におけるビーム電流密度分布の均一性を良くする。 - 特許庁

The excitation current ΔIobj of the objective lens is converted into an acceleration voltage ΔV of an electron beam getting incident upon the sample, and the acceleration voltage of the electron beam getting incident upon the sample is changed by the acceleration voltage ΔV.例文帳に追加

そして、対物レンズの励磁電流ΔIobjを試料に入射する電子ビームの加速電圧ΔVに換算し、試料に入射する電子ビームの加速電圧をΔVだけ変更する。 - 特許庁

The thickness and radius of the coil spring 3 formed by a focused ion beam-induced chemical vapor growth method is controlled by controlling the raw material gas pressure or beam current to be supplied, or scanning direction and speed to have an appropriate spring constant.例文帳に追加

適切なバネ定数になるように、供給する原料ガス圧やビーム電流や走査方向・速度を制御して集束イオンビーム誘起化学気相成長で作製するコイルバネ3の太さ及び半径を制御する。 - 特許庁

To provide a laser beam irradiator capable of corresponding to both treatments of non-thermal reaction and photothermal reaction by increasing and decreasing the excitation current of a semiconductor laser diode to change over the output of laser beam.例文帳に追加

半導体レーザダイオードの励起電流を増減させてレーザ光の出力を切換えることにより、非熱反応と光熱反応の両方のトリートメントに対応できるレーザ光照射装置を提供する - 特許庁

A first photodiode 25 for BD receives a laser beam L2 separated from a laser beam L1 emitted from a first semiconductor laser 11, detects the laser power of the first semiconductor laser 11, and outputs an output current i2.例文帳に追加

BD用の第1フォトダイオード25は、第1半導体レーザ11から出射されたレーザ光L1から分離されたレーザ光L2を受けて、第1半導体レーザ11のレーザパワーを検出し、出力電流i2を出力する。 - 特許庁

An electron beam is generated by applying a direct current pulse voltage to electrodes provided in a chamber, and reforming of the surface of a carbon-based material is carried out by irradiating the surface of the carbon-based material with the electron beam.例文帳に追加

チャンバー内に設置された電極に対して直流パルス電圧を印加することによって電子ビームを発生させ、この電子ビームを炭素系材料の表面に照射することで改質を行う。 - 特許庁

To provide an electron beam device capable of evaluating a sample with high throughput by a large beam current at an operating point of a large opening angle by using an object lens having a small aberration.例文帳に追加

、収差の小さい対物レンズを用いて、大きい開口角の動作点で大きなビーム電流により高スループットで試料の評価を行うことが可能な電子線装置を提供すること。 - 特許庁

To switch the frequency of a parabolic current flowing through a quadrupole coil for correcting the beam shape of an electron beam by using an electronic switch.例文帳に追加

電子ビームのビーム形状を補正する四重極コイルに流れるパラボラ電流の周波数を電子スイッチを使用して切り替えできるようにする。 - 特許庁

Irradiation of the laser beam 2 for generating the photoelectric current and the laser beam 3 for heating is performed from the rear surface side of the LSI chip 1, and detection by the SQUID fluxmeter 4 is performed on the surface side of the LSI chip 1.例文帳に追加

光電流発生用レーザビーム2及び加熱用レーザビーム3の照射は、LSIチップ1の裏面側から行い、SQUID磁束計4による検出は、LSIチップ1の表面側で行う。 - 特許庁

To provide a device capable of: corresponding to enlargement of a substrate; alleviating weight increase; and preventing increase of beam-line length and degradation of beam-current density.例文帳に追加

基板の大型化に対応することができ、かつ重量増大を軽減し、ビームライン長増大およびビーム電流密度低下を防止することができる装置を提供する。 - 特許庁

To provide a recording device and method for forming a latent pattern by irradiation with an exposure beam, the device and method causing no beam current loss and achieving highly precision and high throughput.例文帳に追加

露光ビームを照射して潜像パターンを形成する記録装置と記録方法において、ビーム電流のロスが無く、高精度でスループットの高い装置及び方法を提供する。 - 特許庁

A PD 21 and a current voltage conversion circuit 33 detect a laser beam emitted from a LD 10, and output a photodetecting signal whose voltage is changed based on the power of the laser beam.例文帳に追加

PD21及び電流電圧変換回路33は、LD10から出射されたレーザ光を検出し、レーザ光のパワーに基づいて電圧が変化する光検出信号を出力する。 - 特許庁

To provide a cathode ray tube, which can remove the change of focus state of electron beam caused when the deflection amount or the current amount of the electron beam change, and obtain a good image property around the screen.例文帳に追加

電子ビームの偏向量や電子ビームの電流量が変化した場合に生ずる電子ビームの集束状態の変化をなくして、画面全面にわたり良好な画像特性が得られる陰極線管を構成することを目的とする。 - 特許庁

Since the DC level of the quadrupole coil can be varied in response to the current beam shape, excessive correction to the shape of electronic beam spot is avoided thereby enhancing the focus of the entire screen when the screen gets bright.例文帳に追加

ビーム電流に応じて四重極コイルの直流レベルを可変できるから、過度のビーム形状補正がなくなり、画面が明るいときの画面全体のフォーカスを改善できる。 - 特許庁

To irradiate an ion beam having sufficiently uniform current density distribution against a semiconductor substrate even when energy reduction of the ion beam is advanced.例文帳に追加

イオンビームの低エネルギー化が進んだ場合においても、半導体基板に対して十分に均一な電流密度分布を有するイオンビームを照射することを主たる目的としている。 - 特許庁

In the case of gross leak, the helium ion beam is not deflected so as not to enter the microchannel plate, but is allowed to enter a sector electrode, and an ion beam current is detected by the sector electrode.例文帳に追加

グロスリークの場合は、ヘリウムイオンビームを偏向せず、マイクロチャンネルプレートに入射させないで、セクター電極に入射し、セクター電極でイオンビーム電流を検出する。 - 特許庁

To restrain generation of measurement errors of ion-beam currents by an ion-beam current measurement device, even if it is fitted at a downstream side of a plasma generating device.例文帳に追加

プラズマ発生装置を備えていても、その下流側に設けられたイオンビーム電流測定装置によるイオンビーム電流の測定に誤差が生じるのを抑制する。 - 特許庁

Information related to the displacement of the beam axis of the electron beam is obtained from the quantity of current flowing into respective electrode parts constituting the displacement detection electrode 13.例文帳に追加

位置ずれ検出電極13を構成する各電極部に流れ込む電流量から電子ビームのビーム軸の位置ずれに関する情報を取得する。 - 特許庁

To improve uniformity of a dose even when a beam current of an ion beam has periodic variation during batch type ion implantation processing, and to make uniform characteristics of a semiconductor device manufactured using the same.例文帳に追加

バッチ式イオン注入処理において、イオンビームのビーム電流に周期変動が存在する場合にもドーズ量の均一性を向上させ、それを用いて製造される半導体装置の特性を均一化する。 - 特許庁

To solve such a problem that, when a sacrificial interlayer dielectric becoming a mold material of a cylindrical lower electrode is removed, leakage current of a capacitor increases at a connection between a beam and a lower electrode by formation of the beam to prevent collapse.例文帳に追加

シリンダ状下部電極の型材となる犠牲層間絶縁膜を除去する際に、倒壊を防止する梁が形成されることで、梁と下部電極の接続部でキャパシタのリーク電流が増加する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam radiation system which can stably vary necessary emission current of particle beam for scanning radiation or the like with a simple control device.例文帳に追加

スキャニング照射等で必要な粒子線の出射電流を簡便な制御機器で安定に変更可能な荷電粒子ビーム照射システムを提供すること。 - 特許庁

By preventing the accumulation of the thermoelectrons in the insulator, the discharge can be prevented, the current amount of the electron beam can accurately be controlled, and the service life of the electron beam generation device can be extended.例文帳に追加

碍子における熱電子の蓄積を防ぐことにより、放電を防止し、電子ビームの電流量を精度良く制御し、且つ、電子ビーム生成装置の長寿命化ができる。 - 特許庁

To provide an ion implantation device capable of coping with enlargement of a board while suppressing reduction of homogeneity of a beam current density distribution in a width direction of an ion beam, aggravation of a parallel degree, and reduction of a treatment speed of the board.例文帳に追加

イオンビームの幅方向におけるビーム電流密度分布の均一性の低下、平行度の悪化および基板処理速度の低下を抑制しつつ、基板の大型化に対応可能なイオン注入装置を提供する。 - 特許庁

An optical diode sensor, mounted on the diaphragm of the detector 80, senses beams excepting the +/- first order beams due to the scattering or the twisting of the beam or a twisted +/- first order beam, and generates a current.例文帳に追加

前記整列検出装置80のダイアフラムに取り付けられた光ダイオードセンサはビームの散乱と捩れなどによる+/−1次光を除いた他のビーム、又は捩れた+/−1次光を感知して電流を発生する。 - 特許庁

In the method, an electron beam is radiated to the surface of the insulating film through a metal thin film, and a sample current is measured when the electron beam is radiated to the surface of the insulating film.例文帳に追加

本方法では、電子線を、金属薄膜を介して絶縁膜表面に照射し、電子線を絶縁膜表面に照射したときの試料電流を測定する。 - 特許庁

By a light quantity and beam deflection width detection circuit 230, a light quantity detection signal and a beam deflection width detection signal are outputted from a current outputted by the PSD 220.例文帳に追加

光量・ビーム振れ幅検出回路230はPSD220の出力電流から光量検出信号およびビーム振れ幅検出信号を出力する。 - 特許庁

The measurement device to measure the parallel degree and the divergence angle is provided with a beam split slit and a movable Faraday cup to measure a current amount of the ion beam passed through the slit.例文帳に追加

また、平行度及び発散角度を測定する測定装置は、ビーム分割スリットと、このビーム分割スリットを透過したビームの電流量を計測する可動式ファラデーカップを具備している構成とした。 - 特許庁

To provide a method for maintaining high measurement accuracy from several nA to several μA, and at the same time for measuring a beam current in a wide measurement range from scores of nA to scores of mA without shielding a beam.例文帳に追加

数nAから数μAの高い測定精度を維持して、且つ、ビームを遮断せずに数十nAから数十mAの広い測定レンジでビーム電流を測定できる方法を提供する。 - 特許庁

Even when the current beam shape is changed, deformation of the beam spot shape at the peripheral part of the screen is decreased so as to avoid in advance the focus on the entire screen from being deteriorated.例文帳に追加

ビーム電流が変化したときでも、画面周辺部でのビーム形状の変形が少なくなり、画面全体のフォーカス劣化を未然に回避できる。 - 特許庁

To provide a charged particles beam device capable of surely attaining an image under weak beam current.例文帳に追加

本発明は荷電粒子ビーム装置に関し、更に詳しくは微弱なビーム電流の下でも確実に画像を得ることができる荷電粒子ビーム装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide an electron beam apparatus which can improve the sharpness of the edge of a beam even when the current density is enhanced.例文帳に追加

本発明は電子線装置に関し、電流密度を高めた場合でも、ビームの縁の鮮明さを向上させることができる電子線装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

A high-current electron beam 19 is radiated only at one time or several times of short time duration onto the wafer 9 to be inspected to form an electron beam image before the electric potentials of the circuit pattern materials change.例文帳に追加

被検査基板9に対して、高速に大電流の電子線19を1回あるいは数回のみ照射して回路パターンの部材の電位が変動する前に電子線画像を形成する。 - 特許庁

例文

To solve the problem that, in a beam index system CRT display device, when the CRT display device is to be applied to a high definition display, the contrast is made to be steeply reduced because an index frequency becomes high and a black level beam current becomes large.例文帳に追加

ビームインデクス方式カラーCRTディスプレイ装置では、高精細ディスプレイに応用する場合、インデクス周波数が高くなり、黒レベルビーム電流が大きくなるため、コントラストが大幅に低下してしまう。 - 特許庁

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