「BEAM CURRENT」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The ion-beam current measurement device 30 is equipped with a beam current detector 32, and a first suppression electrode 34, as well as, a second suppression electrode 36.例文帳に追加

イオンビーム電流測定装置３０は、ビーム電流検出器３２、第１抑制電極３４および第２抑制電極３６を備えている。 - 特許庁

A beam current detection section 5 of the display device 101 detects the luminance of an image displayed on a screen 10 through a beam current J flowing through the inside of a CRT 1.例文帳に追加

ビーム電流検出部５は、ＣＲＴ１の内部を流れるビーム電流Ｊを通じて、画面１０に映出される画像の輝度を検出する。 - 特許庁

To enable an ion beam of a high beam current in low-energy in an ion implantation system by a ribbon form ion beam.例文帳に追加

リボン形イオンビームによるイオン注入システムにおいて、低エネルギーで高ビーム電流のイオンビームを可能にする。 - 特許庁

To provide an ion beam implantation device capable of preventing damage of an ion beam current detection means and exactly implanting ion beam.例文帳に追加

本発明は、イオンビーム電流検出手段の損傷を防止して正確にイオンビームを注入できるイオンビーム注入装置を提供する。 - 特許庁

A back Faraday 5 is installed on the path of the ion beam 6, and measures a beam current in the downstream of the wafer 4 of the ion beam 6.例文帳に追加

バックファラデー5は、イオンビーム6の軌道上に設けられ、イオンヒ゛ーム6のウェハ4の下流のビーム電流を測定する。 - 特許庁

CURRENT MEASURING METHOD OF ELECTRON BEAM IN VARIABLE AREA ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND VARIABLE AREA ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

可変面積型電子ビーム描画装置における電子ビームの電流測定方法および可変面積型電子ビーム描画装置 - 特許庁

A beam orbital signal processor 21 measures the position of a beam orbit by using the voltage detected by the current beam position monitor 20.例文帳に追加

ビーム軌道信号処理装置２１はビーム位置モニタ２０で検出した電圧を用いてビーム軌道の位置を計測する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam device capable of getting sufficient resolution even at large current or with a large-diameter beam by correcting chromatic aberration of a beam separator.例文帳に追加

ビーム分離器の色収差を補正して大電流や大口径ビームでも十分な解像度が得られる荷電粒子ビームデバイスを実現する。 - 特許庁

A current of the primary beam for charge control, and an interval between the primary beam of the charge control and the primary beam for inspection are controlled.例文帳に追加

また、帯電制御用一次ビームの電流や、帯電制御用一次ビームと検査用一次ビームの間隔を制御する。 - 特許庁

In a TEM, a thin specimen is illuminated with an electron beam of uniform current density. 例文帳に追加

TEMでは、薄い試料が均一な電流密度の電子ビームで照らされる。 - 科学技術論文動詞集

Thus, the measurement error of the ion beam current measuring part 4 itself is corrected.例文帳に追加

イオンビーム電流計測部４それ自体の測定誤差が補正される。 - 特許庁

PARTICLE SOURCE HAVING SELECTABLE BEAM CURRENT AND EXPANSION OF ENERGY例文帳に追加

選択可能なビーム電流及びエネルギーの広がりを備えた粒子源 - 特許庁

FILAMENT CURRENT VALUE SETTING METHOD AND ELECTRON BEAM GENERATOR USING SAME例文帳に追加

フィラメント電流値設定方法及びこれを用いた電子線発生装置 - 特許庁

To lessen noise generated in a sample current in an electron beam system.例文帳に追加

電子線装置において、試料電流に発生する雑音を小さくする。 - 特許庁

The method also comprises the steps of supplying a beam current from a measuring instrument 40 to neutralize the beam, and measuring an implanting amount of the beam (unwanted impurity) in the wafer from the beam current.例文帳に追加

イオンビームを中和させるため計測器４０からビーム電流を流し、このビーム電流からイオンビーム（不要な不純物）のウェハーへの注入量を計測する。 - 特許庁

An amount of wear of an ion beam current detecting plate at a replacement time for the ion beam current detecting plate is preliminarily set and inputted to a set value input circuit 10 of an ion beam current detecting plate wear monitor 8.例文帳に追加

あらかじめイオンビーム電流検出板削れモニタ８の設定値入力回路１０に、イオンビーム電流検出板２の交換時期のイオンビーム電流検出板２の削れ量を設定入力する。 - 特許庁

This ion implanter is characterized by controlling dynamic variation with time of the beam current value by feeding back the beam current measured by a beam current value measurement means.例文帳に追加

イオン注入装置において、経時的に動的なビーム電流値の変化をビーム電流値測定手段によって測定されるビーム電流値を帰還して制御することを特徴とするイオン注入装置。 - 特許庁

The depletion of the beam is detected by measuring a beam current flowing through each head and comparing the present beam current IB with a beam depletion threshold JB to a beam control signal S at that time, the voltages of a common power source is maintained to maintain a filament current of normal heads and that of an abnormal head which causes the drop in the beam current is interrupted.例文帳に追加

各々のヘッドに流れるビーム電流を計測し、ビーム切れを現在のビーム電流Ｉ_Ｂとそのときのビーム制御信号Ｓに対するビーム切れ閾値Ｊ_Ｂとを比較することによって検出し、共通の電源電圧を維持し正常ヘッドのフィラメント電流は維持し、ビーム電流低下を起こした異常ヘッドのフィラメント電流を遮断する。 - 特許庁

A control device confirms the agreement between a beam current value of the ion beam 6 measured by the front Faraday 2 and a beam current value of the ion beam 6 measured by the back Faraday 5, and operates a coefficient Dff for agreement of a beam current value measured by the does Faraday 1 with the ion beam current values measured by the front Faraday 2 and the back Faraday 5.例文帳に追加

図に示さない制御装置は、フロントファラデー2で測定したイオンビーム6のビーム電流値と、バックファラデー5で測定したイオンビーム6のビーム電流値との一致を確認し、ドーズファラデー1で 計測されるヒ゛ーム電流値を、フロントファラデー2、バックファラデー5で計測されるイオンビーム電流値と一致させるための係数Dffを演算する。 - 特許庁

A signal conditioning circuit 8 is provided to obtain a beam current output signal equivalent to the average value of the beam current by carrying out signal conditioning for removing a pulse component corresponding to the pulse current P2 from the output of the current transformer 5.例文帳に追加

変流器５の出力からパルス電流Ｐ2 に相当するパルス成分を除去する信号処理を施してビーム電流の平均値に相当するビーム電流出力信号を得る信号処理回路８を設ける。 - 特許庁

To provide a beam space charge neutralization device capable of increasing a beam current by suppressing the divergence of an ion beam neutralizing beam space charge for improving beam transport efficiency.例文帳に追加

ビーム空間電荷を中和してイオンビームの発散を抑え、ビーム輸送効率を向上させてビーム電流を増大させることができるようなビーム空間電荷中和装置を提供する。 - 特許庁

The quadrupole lens array splits the incident solid electron beam into multiple sub-beam, allowing out-going beam radiation to be different from incident beam radiation while total current of beam does not change.例文帳に追加

四重極レンズ・アレイは、入射するソリッド電子ビームを多数のサブビームに分割し、それによって出射ビーム放射が入射ビーム放射と異なり、一方、ビーム総電流は変化しない。 - 特許庁

On a beam line before an incident into a beam scanner 36, there is arranged, in a takeout/takein manner, an injector flag Faraday cut 32 for measuring a total beam volume of an ion beam and detecting a beam current.例文帳に追加

ビームスキャナ３６への入射前のビームライン上に、イオンビームの全ビーム量を計測してビーム電流を検出するインジェクタフラグファラデーカップ３２が入れ出し可能に配置される。 - 特許庁

In this electron beam generating device 1 which emits the electron beam from the filament by thermionic emission, filament current control means 4, 5 to control a filment current flowing in the filament 3 are provided, and the beam current is controlled to the constant value by detecting the beam current of the electron beam and feeding back the detected value to the filament current control means.例文帳に追加

熱電子放出によりフィラメントから電子ビームを放出する電子ビーム発生装置１において、フィラメント３を流れるフィラメント電流を制御するフィラメント電流制御手段４，５を備え、電子ビームのビーム電流を検出し、その検出値をフィラメント電流制御手段にフィードバックすることによってビーム電流を一定値に制御する。 - 特許庁

As the working ion beam, two kinds of the focusing ion beam 11 having a high image resolution and the edge working ion beam 12 to be used for the large current beam and capable of sharply working a cross sectional edge part are prepared, and the high working position accuracy is realized even in the case of the large current ion beam.例文帳に追加

加工用のイオンビームとして、像分解能が高い集束イオンビーム１１と、大電流ビームに用いる断面エッジ部がシャープに加工できるエッジ加工用イオンビーム１２の２種類用意し、大電流イオンビームでも高加工位置精度を実現する。 - 特許庁

In advance, the correlation between the deposition rate of the thin film and ion beam current value or the like are data-tabled by an experiment, an integrated ion beam current value is calculated from the data, the type of the target and the film thickness, the calculated result is set, the ion beam current value is monitored, and, while performing subtracting from the integrated ion beam current value, the emission of an ion beam is performed.例文帳に追加

予め実験によって、薄膜の堆積速度とイオンビーム電流値との相関関係等をデータテーブル化しておき、そのデータと前記ターゲット種類、膜厚とから積算イオンビーム電流値を算出し、その算出結果を設定して、イオンビーム電流値をモニタして、積算イオンビーム電流値から減算しながらイオンビームの照射を行う。 - 特許庁

By implanting operation of an ion beam, an amount of wear of the ion beam current detecting plate is integrated in an integrating circuit 11 from ion beam current amount converted into a parameter signal in an arithmetic circuit 9, time when the ion beam current detecting plate receives the ion beam, an accelerating voltage value of the ion beam and an atomic mass number of ion.例文帳に追加

イオンビーム１の注入動作により、演算回路にてパラメータ信号に変換したイオンビーム電流量、イオンビーム電流検出板２がイオンビーム１を受けた時間、イオンビーム１の加速電圧値およびイオンの質量数から、積算回路１１にてイオンビーム電流検出板２の削れ量を積算する。 - 特許庁

The ion beam IB is controlled so that its scanning speed decrease when the beam current is decreased more than normally by its fluctuations, and its scanning speed may increase, when the beam current is increased than normally.例文帳に追加

イオンビームＩＢは、その変動によりビーム電流が通常より減少したときにはその走査速度が小さくなり、通常より増大したときにはその走査速度が大きくなるよう制御される。 - 特許庁

This sterilizer is composed of a duct 2 passing a liquid current and an electronic beam generator 3 introducing the electronic beam stream in the liquid current in the duct 2 through an electronic beam transmission window 5.例文帳に追加

液流を通すダクト２と、ダクト２の中の液流に電子線透過窓５を介して電子線流を導入する電子線生成器３とから構成されている。 - 特許庁

Furthermore, the ion beam irradiation device includes beam current density distribution adjustment mechanisms 70a, 70b for respectively adjusting beam current density distributions in the vicinity of an end of ion beams 54a, 54b.例文帳に追加

更に、イオンビーム５４ａ、５４ｂの一端付近のビーム電流密度分布をそれぞれ調整するビーム電流密度分布調整機構７０ａ、７０ｂを備えている。 - 特許庁

To provide a multi-wire beam profile monitor capable of precisely monitoring the beam current without being affected by the unstable electrostatic capacity of the capacitor for storing the beam current.例文帳に追加

ビーム電流蓄積用コンデンサの静電容量のばらつきの影響を受けることなくビーム電流を正確にモニタすることができるようにしたマルチワイヤ型ビームプロファイルモニタを提供する。 - 特許庁

When a beam current I is 5 μA, it is a minimum value of 30 [nm] or thereabout at a beam spread angle of about 5.5 [mrad], and when a beam current I is 25 μA, it is 92 [nm] or thereabout at about 8.0 [mrad].例文帳に追加

ビーム電流Ｉが５μＡの場合には、ビーム開き角が５．５［ｍｒａｄ］程度のとき最低値の３０［ｎｍ］程となり、ビーム電流Ｉが２５μＡの場合には、８．０［ｍｒａｄ］程度のとき、９２［ｎｍ］程となる。 - 特許庁

A current source leads a current via the anchors and the buckle beam parts and transfers the thermal expansion of the buckle beam parts, i.e., a bending motion of the buckle beam parts to the outside surface of the base board.例文帳に追加

電流源は、アンカーを介し、熱バックルビーム部を介して電流を導き、熱バックルビーム部の熱膨張を、したがって基板の面外へのそれらの湾曲運動を伝える。 - 特許庁

In large-current ion implantation equipment, the shape of a surface 4B of the ion beam current measuring apparatus 4, the surface of which is adjacent to an ion beam, is made a round, and area which is in contact with the ion beam is reduced.例文帳に追加

大電流イオン注入装置におけるイオンビーム電流計測装置４のイオンビームと近接する面４Ｂの形状をＲ形に構成し、イオンビームと接触する面積を低減する。 - 特許庁

The electron beam lithography system using a variably shaped beam is equipped with electron beam detectors 130 and 131 used for measuring the amount of current of the variable shaped beam, and the current values measured corresponding to the beam sizes of the variably shaped beam are fed back to the exposure time of an electron beam so as to solve the problem.例文帳に追加

可変成形ビームを用いる電子ビーム描画装置において、可変成形ビームの電流量を計測するための複数の電子ビーム検出器１３０、１３１を有し、可変成形ビームの複数のビームサイズに応じて計測された電流値を、電子ビームの露光時間にフィードバックすることにより解決する。 - 特許庁

To provide an electronic beam current measuring technology that not only ensures the precision required for current measurement but also enables short-time current measurement and efficient current measurement in a variety of current measurement modes in electronic beam drawing systems.例文帳に追加

電子ビーム描画システムの電流計測の多様な計測モードにおいて、電流計測に要求される計測精度を保障した上で、最短時間での計測を行い、効率の良い電流計測を可能にする電子ビーム電流計測技術を提供する。 - 特許庁

This ion implanter is provided with a control device 22 for controlling a filament current IF to flow through respective filaments 6 according to a beam current IB measured by a plurality of beam current measuring instruments 18.例文帳に追加

このイオン注入装置は、複数のビーム電流計測器１８で計測したビーム電流ＩＢに基づいて各フィラメント６に流すフィラメント電流ＩＦを制御する制御装置２２を備えている。 - 特許庁

In the detection step, a beam shape, which is a cross-sectional shape of an ion beam applied to the semiconductor substrate, and a beam current of the ion beam are detected.例文帳に追加

検出工程では、半導体基板へ照射されるイオンビームの断面形状であるビーム形状および前記イオンビームのビーム電流を検出する。 - 特許庁

This enables the electron beam irradiation equipment 1 to measure the current generated by the electron beam EB that has been returned to the side of the electron beam irradiation window 24, by scattering and the like among the electron beams emitted from the electron beam irradiation window 24.例文帳に追加

これにより、電子線照射装置１では、電子線出射窓２４から出射した電子線のうち、散乱等で電子線出射窓２４側に戻ってきた電子線ＥＢによって生じる電流を測定することができる。 - 特許庁

Consequently, if the position of the electron beam 2 is so adjusted by an aligner 5 for beam position adjustment as to maximize the current detected by the ampere meter 4, it is possible to align the center position of the hollow aperture 1 to the beam position of the electron beam 2.例文帳に追加

従って、電流計２により検出される電流が最大になるようにビーム位置調整用アライナ５で電子線２の位置を調整すれば、ホローアパーチャ１の中心と電子線２のビーム位置を合わせることができる。 - 特許庁

An electron source is positioned on the surface of the wafer for an oxygen ion beam to be irradiated and outside a line of the ion beam, so that an electron beam is irradiated thereon by the same amount as an ion beam current value or less, with electron energy set at 50 eV or more.例文帳に追加

酸素イオンビームが照射されるウエハ面側に有ってイオンビームライン外に電子源を設置し、イオンビーム電流値と同量、それ以下の電子ビームを照射し、電子エネルギーが５０ｅＶ以上である。 - 特許庁

To provide a focusing ion beam device capable of stably generating an ion beam of the desired ion current.例文帳に追加

所望のイオン電流のイオンビームを安定して発生できる集束イオンビーム装置を提供する。 - 特許庁

To provide an ion beam measuring device capable of an improvement in measurement precision by reducing the measurement error of the ion beam current.例文帳に追加

イオンビーム電流の計測誤差を小さくして計測精度を高めることができるイオンビーム計測装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure device for exposing a wafer with high precision in plotting by controlling a current of the electron beam with high accuracy.例文帳に追加

電子ビームの電流を高精度に制御することにより、高い描画精度でウェハを露光する電子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam source capable of emitting a large diameter electron beam with homogeneous current density, with a simple structure.例文帳に追加

均一な電流密度を有する大口径の電子ビームを放出することができる簡単な構造の電子ビーム源を提供する。 - 特許庁