「C ACID」に関連した英語例文の一覧と使い方(79ページ目) - Weblio英語例文検索

The glass hydrophilizing agent for automobile comprises at least one kind of an acrylamide-based polymer selected from the group consisting of a cationic acrylamide-based polymer composed of a polymer of an acrylic acid ester, a nonionic acrylamide-based polymer composed of a polymer of acrylamide and a copolymer of an acrylic acid ester and acrylamide and has ≤5.5 mPa s viscosity at 23°C.例文帳に追加

アクリル酸エステル類の重合物からなるカチオン性アクリルアミド系重合物、アクリルアミドの重合物からなるノニオン性アクリルアミド系重合物、アクリル酸エステル類とアクリルアミドの共重合物からなる群より選ばれる少なくとも一種のアクリルアミド系高分子を含有する自動車用ガラス親水化剤であって、粘度が２３℃で５．５ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

This radiation-sensitive resin composition comprises [A] a copolymer of (a1) an ethylenically unsaturated carboxylic acid and/or an ethylenically unsaturated carboxylic acid anhydride, (a2) an epoxy group- containing ethylenically unsaturated compound and (a3) other ethylenically unsaturated compounds, [B] a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond and [C] a photopolymerization initiator represented by formula (1).例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物は、〔Ａ〕（ａ１）エチレン性不飽和カルボン酸および／またはエチレン性不飽和カルボン酸無水物と（ａ２）エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物と（ａ３）他のエチレンン性不飽和化合物との共重合体、〔Ｂ〕エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、並びに〔Ｃ〕下記式（１）で表される化合物からなる光重合開始剤を含有する。 - 特許庁

The method for producing a polyester comprises (a) an esterification step to obtain an oligomer from a dicarboxylic acid component composed mainly of terephthalic acid and a diol component composed mainly of ethylene glycol, (b) a melt polycondensation step to obtain a prepolymer by the melt polycondensation reaction of the oligomer, (c) a granulation step to obtain particles of the prepolymer and (d) a solid-phase polycondensation step for the particles.例文帳に追加

テレフタル酸主体のジカルボン酸成分とエチレングリコール主体のジオール成分とからオリゴマーを得るエステル化工程（ａ）、オリゴマーを溶融重縮合反応させプレポリマーを得る溶融重縮合工程（ｂ）、該プレポリマーの粒状体を得る造粒工程（ｃ）、該粒状体の固相重縮合工程（ｄ）、を有するポリエステルの製造方法であって、下記１乃至３の要件を充たす方法。 - 特許庁

The ferulic acid bonding type saccharide such as arabinooligosaccharide or galactooligosaccharide having a ferulic acid group is produced by using a material containing pectin derived from a plant cell wall and utilizing a hydrothermal treatment process for applying to the pectin-containing material the hydrothermal treatment under pressure control of higher than the saturated vapor pressure and on the treating conditions of 160-180°C heating temperature and 5-15 min heating time.例文帳に追加

植物細胞壁由来のペクチン含有原料を使用し、ペクチン含有原料に、飽和蒸気圧以上の圧力制御下において、加熱温度160〜180℃、加熱時間5〜15分の処理条件により水熱処理を施す水熱処理工程を利用することにより、フェルラ酸基を持つアラビノオリゴ糖あるいはガラクトオリゴ糖等のフェルラ酸結合型糖質を製造する。 - 特許庁

The detergent composition for an automatic dishwasher contains: a specific amine oxide (a) represented by general formula (1); a specific polyoxyethylene alkyl ether (b); a polymer compound (c) containing a monomer constitutional unit having at least either a carboxylic acid group or an anhydride structure from two carboxylic acid groups and a monomer constitutional unit derived from a 3-12C unsaturated hydrocarbon.例文帳に追加

一般式（１）で表される特定のアミンオキシド（ａ）と、特定のポリオキシエチレンアルキルエーテル（ｂ）と、カルボン酸基及び２つのカルボン酸基からの無水化構造の少なくとも何れかを有するモノマー構成単位と、炭素数３〜１２の不飽和炭化水素由来のモノマー構成単位とを含有する高分子化合物（ｃ）とを含有する自動食器洗浄機用洗浄剤組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition contains a copolymer (A) including a constitutional unit (a1) derived from unsaturated carboxylic acid and a constitutional unit (a2) derived from an unsaturated compound having an oxetanyl group (precluding the unsaturated carboxylic acid) as a binder resin, a quinonediazido compound (B), and a salt consisting of hexafluoroantimonate anion and onium cation as a cation polymerization initiator (C).例文帳に追加

バインダー樹脂として、不飽和カルボン酸から導かれる構成単位（ａ１）およびオキセタニル基を有する不飽和化合物（ただし、不飽和カルボン酸を除く。）から導かれる構成単位（ａ２）を含む共重合体（Ａ）、キノンジアジド化合物（Ｂ）およびカチオン重合開始剤（Ｃ）としてヘキサフルオロアンチモネートアニオンとオニウムカチオンとからなる塩を含有する感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

There is provided a compound for resin coupling type magnet including magnetic powder (A) and a resin binder (B) wherein the magnetic powder (A) is subjected to the surface process with a inorganic phosphoric acid compound (C) and thereafter is covered with at least a kind of compound selected from abietic acid compounds (D1) or alkoxylane monomers (D2).例文帳に追加

磁性粉末（Ａ）及び樹脂バインダー（Ｂ）を含む樹脂結合型磁石用組成物において、磁性粉末（Ａ）は、予め無機燐酸系化合物（Ｃ）で表面処理された後、更にアビエチン酸系化合物（Ｄ１）又はアルコキシシラン系モノマー（Ｄ２）から選ばれる少なくとも１種の化合物で被覆されることを特徴とする樹脂結合型磁石用組成物によって提供。 - 特許庁

The deodorized Actinidia polygama having good flavor is obtained by extracting Actinidia polygama or the foliage of Actinidia polygama with an organic acid or an organic acid-containing liquid at 10-80°C, by selectively decreasing ingredients such as actinidine and matatabilactone while effectively retaining ingredients, etc., having nourishing/nutritional ingredients and pharmacological action which Actinidia polygama contains to remove the undesirable odor of Actinidia polygama.例文帳に追加

マタタビ或いはマタタビの茎葉を、１０〜８０℃の温度条件下、有機酸又は有機酸含有液体で抽出処理することにより、マタタビの含有する滋養・栄養成分や薬理作用を有する成分等を有効に保持しながら、アクチニジンやマタタビラクトン等の成分を選択的に減少させ、マタタビの好ましくない臭いを除去し、香味の良い除臭マタタビを得る。 - 特許庁

The modifier comprises an ester compound being obtained by reacting (a) a 2-5C glycol, (b) a 8-12C aromatic (anhydrous) dicarboxylic acid and/or its esterified product and (c) a 5-11C aromatic monocarboxylic acid and having a 300-5,000 number average molecular weight.例文帳に追加

本発明は、２〜５個の炭素原子を有するグリコール（ａ）と、８〜１２個の炭素原子を有する芳香族系（無水）ジカルボン酸及び／またはそのエステル化物（ｂ）と、５〜１１個の炭素原子を有する芳香族系モノカルボン酸（ｃ）とを反応させて得られる、３００〜５０００の数平均分子量を有するエステル化合物からなることを特徴とするセルロースエステル樹脂用改質剤に関するものである。 - 特許庁

This method for producing an unsaturated carboxylic acid ester comprises feeding an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic alcohol into a reactor having a heating measure on the outer periphery and is characterized by having ≤80°C temperature difference between the temperature of the outer periphery of the reactor heated by the heating measure and the average temperature of the reacting liquid in the reactor.例文帳に追加

外周部に加熱手段を有する反応槽に不飽和カルボン酸と脂肪族アルコール類とを供給する不飽和カルボン酸エステルの製造方法において、該加熱手段によって加熱される反応槽外周部の温度と、反応槽内の反応液の平均温度との温度差が８０℃以下であることを特徴とする、不飽和カルボン酸エステルの製造方法である。 - 特許庁

Provided are fusion proteins comprising the amino acid sequence of at least four HIV proteins selected from Vif, Vpr, Vpu, Vpx, Rev, Tat and Nef or derivatives of the amino acid sequence of one or more of the proteins, wherein the fusion protein is not processed to individual HIV proteins having the natural N terminals and C terminals.例文帳に追加

上記課題は、Ｖｉｆ、Ｖｐｒ、Ｖｐｕ、Ｖｐｘ、Ｒｅｖ、ＴａｔおよびＮｅｆから選択される少なくとも４つのＨＩＶタンパク質のアミノ酸配列、または１種以上の前記タンパク質のアミノ酸配列の誘導体を含む融合タンパク質であって、天然のＮ末端およびＣ末端を持つ個々のＨＩＶタンパク質にはプロセシングされない融合タンパク質によって解決される。 - 特許庁

The method includes a step of crosslinking one polymer or a plurality of the polymers with a crosslinking agent under an alkaline condition at a low temperature of 10-30°C by taking a reaction time not less than 48 hr to produce the crosslinked hyaluronic acid, and the polymer is selected from a group consisting of hyaluronic acid, hyaluronates, their derivatives, and a mixture of them.例文帳に追加

アルカリ条件において、セ氏１０〜３０度の低温で、４８時間以上の反応時間をかけて一種類又は複種類のポリマーと架橋剤とを架橋結合させることにより、架橋ヒアルロン酸を形成させるステップを有し、該ポリマーは、ヒアルロン酸、ヒアルロン酸塩、それらの誘導体、それらの混合物からなる群より選択されるものであることを特徴とする。 - 特許庁

The positive-type silicone-containing photosensitive composition contains (a) an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble polymer, having silicon atoms in a side chain and convertible into a polymer soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid, (b) a compound which generates acid, when irradiated with active light or radiation and (c) a nitrogen-containing compound having at least one specified partial structure in the molecule.例文帳に追加

（ａ）側鎖にシリコン原子を有し、かつアルカリには不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となるポリマー、（ｂ）活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物、（ｃ）特定の部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物、を含有することを特徴とするポジ型シリコン含有感光性組成物。 - 特許庁

The negative type resist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) an alkali-soluble resin, (C) a crosslinker which causes crosslinking with the resin (B) under the action of the acid and (D) a compound containing both at least one amino group selected from secondary to tertiary alicyclic amino groups and at least one carboxyl group in one molecule.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 （Ｂ）アルカリ可溶性樹脂 （Ｃ）酸の作用により（Ｂ）の樹脂と架橋を生じる架橋剤、 （Ｄ）分子内に２級〜３級の脂環式環状アミノ基から選ばれる少なくとも１種のアミノ基と、少なくとも１種のカルボキシル基をともに含む化合物 を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The manufacturing method of the active ester of the organic acid or of derivatives thereof comprises causing the organic acid or the derivatives thereof to react with an electron-withdrawing group (one or a combination of two or more of succinimidyl, sulfosuccinimidyl, maleimidyl, phthalimidyl, imidazolyl, nitrophenyl, tredyl and derivatives thereof) in the presence of N, N'-dicyclohexylcarbodiimide at a reaction temperature of 0-10°C in an organic solvent.例文帳に追加

有機酸又はこれらの誘導体を有機溶媒中において電子吸引基（スクシンイミジル、スルホスクシンイミジル、マレイミジル、フタルイミジル、イミダゾールイル、ニトロフェニル、トレジル又はこれらの誘導体の１種又は２種以上の組み合わせ）と、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミドの存在下、反応温度０〜１０℃にて、反応させる有機酸又はこれらの誘導体の活性エステル体の製造方法。 - 特許庁

The present invention relates to a peptide hormone in which the parent peptide hormone has been modified by introducing a lipophilic substituent, W, into the N-terminal amino acid or introducing a lipophilic substituent, Z, into the C-terminal amino acid of the parent peptide hormone, wherein the lipophilic substituent W or Z has 8-40 carbon atoms and has a protracted profile of action, or an analogue thereof.例文帳に追加

親ペプチドホルモンのＮ末端のアミノ酸に親油性置換基Ｗ、またはＣ末端のアミノ酸に親油性置換基Ｚを導入することにより、修飾された薬理学的活性をもつペプチドホルモンまたはその類縁体であって、前記親油性置換基ＷとＺが８〜４０の炭素原子をもち、持続的作用特性を有するペプチドホルモンまたはその類縁体。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) a specified compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which contains at least one selected from repeating units each having a specified alicyclic structure in the principal chain and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility to an aqueous alkali solution and (C) a specified solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造を有する活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物 （Ｂ）主鎖に特定の構造の脂環式構造を有する繰り返し単位より選択される少なくとも一種を含む、酸の作用により分解しアルカリ水溶液に対する溶解性が増加する樹脂 （Ｃ）特定の溶剤 を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

This method for producing the clay-containing fatty acid metal salt composition comprises homogeneously mixing a neutralizing agent into waste clay used for treating oil and fat, adding an aqueous solution or dispersion of lipases to the mixture to nearly simultaneously carry out hydrolysis of the oil and fat and neutralization of the resultant fatty acid; wherein as the lipases, two kinds whose hydrolytic activity peak temperatures differ from each other by ≥10°C.例文帳に追加

油脂の処理に使用した廃白土に、中和剤を均一に混合させた後、リパーゼの水溶液又は分散液を添加し、油脂の加水分解反応と脂肪酸の中和反応とを略同時に行わせる白土含有脂肪酸金属塩組成物の製造方法において、上記リパーゼとして、少なくとも、加水分解活性ピーク温度が１０℃以上異なる２種のリパーゼを用いる。 - 特許庁

This W/O/W type emulsion contains (A) a silicone oil, (B) one or more compounds selected from amino acids consisting of glycine, alanine, valine, leucine, isoleucine, serine, threonine, phenylalanine, tyrosine, tryptophan, cystine, cysteine, methionine, hydroxyproline, aspartic acid, glutamic acid, asparagine, glutamine, arginine, histidine, and lysine and their salts, and (C) a compound having a chelate action.例文帳に追加

（Ａ）シリコーン油、（Ｂ）グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリン、トレオニン、フェニルアラニン、チロシン、トリプトファン、シスチン、システイン、メチオニン、プロリン、ヒドロキシプロリン、アスパラギン酸、グルタミン酸、アスパラギン、グルタミン、アルギニン、ヒスチジン、リシンからなる群より選択されるアミノ酸及びその塩の１種又は２種以上、及び（Ｃ）キレート作用を有する化合物を含有することを特徴とするＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルジョン。 - 特許庁

The polymerizable composition comprises (A) at least one alicyclic epoxy compound, (B) at least one oxetane compound, (C) at least one urethane polymer or urethane oligomer which is a compound not having a polymerizable group within a molecule and having a weight-average molecular weight of 600-10,000, and (D) at least one acid generator, wherein the acid generator is represented by general formula (1).例文帳に追加

（Ａ）脂環式エポキシ化合物、（Ｂ）オキセタン化合物、（Ｃ）ウレタンポリマーまたはウレタンオリゴマーであって、分子内に重合性基を有さない重量平均分子量６００〜１００００の化合物、及び（Ｄ）酸発生剤をそれぞれ少なくとも一種含有し、かつ、該酸発生剤が下記一般式（１）で表されるものであることを特徴とする重合性組成物。 - 特許庁

The aggregated spherical calcium hydrogenphosphate is easily produced by reacting slaked lime having 0.5-5 mm particle diameter with phosphoric acid at ≥50°C to deposit calcium hydrogenphosphate, thereby introducing a field for the formation of nucleus of the calcium hydrogenphosphate crystal, the growth and the aggregation which are different from the milk of lime or slaked lime fine powder in the reaction of slaked lime with phosphoric acid, without using a chemical.例文帳に追加

粒子径0.5-5mmの消石灰とリン酸とを50℃以上で反応させてリン酸水素カルシウムを析出させることにより、消石灰とリン酸の反応において石灰乳や消石灰微粉末とは異なるリン酸水素カルシウム結晶の核形成と成長および凝集の場を導入して、薬剤を必要としないで、凝集球状リン酸水素カルシウムを容易に生成させる。 - 特許庁

This invention is especially suitable for an oxidation reactions using gas containing molecular oxygen under existence of the fluid bed of a fluidizing catalyst, for example, (a): acetoxylation of olefins, (b): oxidation of ethylene to acetic acid and/or oxidation of ethane to ethylene and/or acetic acid, (c): ammoxidation from propylene and/or propane to acrylonitrile, and (d): oxidation from C4 compound to maleic anhydride.例文帳に追加

本発明は、流動化性触媒の流動床の存在下に分子状酸素含有ガスを用いる 酸化反応、たとえば（ａ）オレフィンのアセトキシル化、（ｂ）エチレンから酢酸への酸化および／またはエタンからエチレンおよび／または酢酸への酸化、（ｃ）プロピレンおよび／またはプロパンからアクリロニトリルへのアンモキシデーション、および（ｄ）Ｃ_４化合物から無水マレイン酸への酸化につき特に適している。 - 特許庁

The photosensitive resin composition usable as a resist ink for a flexible wiring board comprises (A) a carboxyl modified epoxy (meth)acrylate resin obtained by reacting a bisphenol type epoxy resin with (meth)acrylic acid and then reacting the resulting resin with an acid anhydride, (B) a photopolymerizable compound having a (meth)acryloyl group, (C) a photopolymerization initiator, (D) a triazine compound and (E) a diluent.例文帳に追加

（Ａ）ビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸とを反応させた後、酸無水物を反応させて得られるカルボキシル変性エポキシ（メタ）アクリレート樹脂と、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）トリアジン系化合物と、（Ｅ）希釈剤とを含有することを特徴とし、フレキシブル配線板用レジストインキとして用いることができる感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The polyamide composition is obtained by blending (A) 100 pts.wt. polyamide consisting of (a) dicarboxylic acid units containing 60-100 mol% terephthalic acid units and (b) diamine units containing 60-100 mol% 6-18C aliphatic alkylenediamine units, (B) 1-200 pts.wt, inorganic needlelike filler, and (C) 0.01-10 pts.wt. talc.例文帳に追加

テレフタル酸単位を６０〜１００モル％含有するジカルボン酸単位（ａ）と、炭素数６〜１８の脂肪族アルキレンジアミン単位を６０〜１００モル％含有するジアミン単位（ｂ）とからなるポリアミド（Ａ）１００重量部に対して、無機の針状充填剤（Ｂ）１〜２００重量部およびタルク（Ｃ）０．０１〜１０重量部を配合してなるポリアミド組成物；並びに該ポリアミド組成物からなる成形品。 - 特許庁

This polyester resin consists of a dicarboxylic acid component consisting mainly of terephthalic acid and a diol component having ≥50 mol% 1,6-hexane diol is characterized by having melting point of 100 to 150°C, containing 0.01 to 5.0 mass% polyolefin as a crystal-nucleating agent and having a DSC curve obtained by the DSC, showing its crystallization by decreasing temperature and satisfying following formula (1).例文帳に追加

テレフタル酸を主成分とするジカルボン酸成分と、１，６−ヘキサンジオールを５０モル％以上とするジオール成分とからなるポリエステルであって、融点が１００〜１５０℃、結晶核剤としてポリオレフィンを０．０１〜５．０質量％含有し、かつＤＳＣより求めた降温結晶化を示すＤＳＣ曲線が下記式（１）を満足することを特徴とするポリエステル樹脂。 - 特許庁

The coated granular material is obtained by coating a biologically active substance-containing granular material with a urethane resin which is obtained by reacting an aromatic polyisocyanate, a polyester polyol (preferably a polycaprolactone polyol) having in the molecule an oxy-carbonyl [-O-C(=O)-] partial structure at a rate of at least 15% (converted into weight), and a 10-24C hydroxy fatty acid (preferably 12-hydroxystearic acid).例文帳に追加

芳香族ポリイソシアネート、オキシカルボニル［−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−］部分構造が１５％以上（重量換算）の割合で分子内に有するポリエステルポリオール（好ましくはポリカプロラクトンポリオール）及び炭素数１０〜２４のヒドロキシ脂肪酸（好ましくは１２−ヒドロキシステアリン酸）を反応させてなるウレタン樹脂で、生物活性物質含有粒状物が被覆されてなる被覆粒状物。 - 特許庁

The positive type resist composition for use in liquid immersion exposure includes (A) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and in which solubility for an alkali developer increases by an action of acid, (B) a compound which generates acid upon irradiation with an active light or a radiation, (C) an alkali soluble compound which has an alkyl group of 5 or more carbon atoms and (D) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）単環または多環の脂環炭化水素構造を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 （Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、 （Ｃ）炭素数５以上のアルキル基を有するアルカリ可溶性化合物、 （Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The negative resist composition includes an alkali-soluble resin component (A), an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure to light, and a crosslinker component (C), wherein the alkali-soluble resin component (A) includes a polymer compound (F) having a constitutional unit (f1) containing a base-dissociable group and a constitutional unit (f2) containing a crosslinkable group-containing group.例文帳に追加

アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）および架橋剤成分（Ｃ）を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）は、塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）と架橋性基含有基を含む構成単位（ｆ２）とを有する高分子化合物（Ｆ）を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition comprises at least a binder resin (1), a 1,2-quinonediazide compound (2) and a pigment (3), wherein a reaction product (X) obtained by reacting an epoxy adduct having a structure in which an unsaturated monobasic acid (B) is added to a polyfunctional epoxy resin (A) with a polybasic acid anhydride (C) is used as the binder resin (1).例文帳に追加

少なくとも、バインダ樹脂（イ）、１，２−キノンアジド化合物（ロ）及び顔料（ハ）を含有するポジ型感光性樹脂組成物であって、 前記バインダ樹脂（イ）として、多官能エポキシ樹脂（Ａ）に、不飽和一塩基酸（Ｂ）を付加させた構造を有するエポキシ付加物に対し、多塩基酸無水物（Ｃ）を反応させて得られる反応生成物（Ｘ）を用いることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The method for producing the cured product comprises heating an epoxy resin composition whose essential components are an epoxy resin (A) having an alicyclic structure, an acid group-containing radically polymerizable monomer (B), and a radical polymerization initiator (C), and performing reaction of an epoxy radical of the epoxy resin (A) with an acid radical of the monomer (B), and simultaneously performing polymerization caused the radically polymerizable group of the monomer (B).例文帳に追加

環状脂肪族構造を有するエポキシ樹脂（Ａ）、酸基含有ラジカル重合性単量体（Ｂ）、及びラジカル重合開始剤（Ｃ）を必須成分とすることを特徴とするエポキシ樹脂組成物を加熱し、エポキシ樹脂（Ａ）中のエポキシ基と単量体（Ｂ）中の酸基とを反応させると同時に単量体（Ｂ）に起因するラジカル重合性基の重合を行う。 - 特許庁

A pattern forming method comprises the steps of: (a) forming a film from an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition containing a compound(A) that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and is decomposed by an action of an acid to reduce solubility in an organic solvent; (b) exposing the film; and (c) developing using a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

（ア）活性光線又は放射線の照射により酸を発生し、かつ酸の作用により分解し有機溶剤に対する溶解度が減少する化合物（Ａ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程 を含む、パターン形成方法。 - 特許庁

The acrylic graft copolymer is obtained by the copolymerization of (a) a (meth)acrylic acid ester having a 1-14C alkyl group, (b) a polymerizable monomer represented by formula (1) and/or (c) a polymerizable monomer represented by formula (2) as the main components, wherein the acrylic graft copolymer contains substantially no structural unit originating from a polymerizable unsaturated carboxylic acid.例文帳に追加

主成分として、炭素数１〜１４のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステル（ａ）と、下記一般式（１）で表される重合性単量体（ｂ）及び／又は下記一般式（２）で表される重合性単量体（ｃ）とを共重合してなるアクリル系グラフト共重合体であって、実質的に、重合性不飽和カルボン酸に由来する構成単位を含有しないアクリル系グラフト共重合体。 - 特許庁

The liquid detergent composition for a hard surface comprises (a) one or more surfactants selected from a nonionic surfactant and an amphoteric surfactant, (b) a copper phthalocyanine-based pigment, (c) a polymer compound obtained by graft polymerizing a monoethylenic unsaturated monomer consisting essentially of acrylic acid and/or methacrylic acid onto a backbone chain of a specific polyether compound, (d) an alkanolamine and water.例文帳に追加

（ａ）ノニオン性界面活性剤及び両性界面活性剤から選ばれる１種以上の界面活性剤、（ｂ）銅フタロシアニン系色素、（ｃ）特定のポリエーテル化合物の幹鎖に、アクリル酸及び／又はメタクリル酸を主体とするモノエチレン性不飽和単量体をグラフト重合した高分子化合物、（ｄ）アルカノールアミン並びに水を含有する、硬質表面用液体洗浄剤組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin whose solubility in an alkaline developer is increased by the action of an acid, (B) a compound capable of generating a 2 or 3C alkylsulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, and (C) a low molecular compound containing an amino group with a nitrogen atom protected by a degradable group.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により炭素数２又は３のアルキルスルホン酸を発生する化合物、及び（Ｃ）窒素原子が分解性基で保護されたアミノ基を含む低分子化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

A composition for the controlled release of substances is provided that includes:(i) a non-polymeric, water-insoluble liquid carrier material (sucrose acetic acid isobutyric acid ester: SAIB) of a viscosity of at least 5,000 cP at 37°C that does not completely crystallize under ambient or physiological conditions; and (ii) a substance to be delivered.例文帳に追加

物質の制御された放出に用いられる配合物が提供され、この配合物は、（ｉ）周囲条件および生理学的条件下において純粋には結晶化しない３７°Ｃで少なくとも５，０００ｃＰの粘度を有する非重合の水不溶性の液体キャリヤ材料（ショ糖酢酸イソ酪酸エステル：ＳＡＩＢ）と、（ｉｉ）送達されるべき物質とを含む配合物。 - 特許庁

It comprises (A) an urethane acrylate resin obtained by the reaction of a hydrogenated polybutadiene polyol, polyisocyanate and hydroxylalkyl acrylate, (B) a radiation-curing type resin composition obtained by including an aliphatic or alicyclic alkylacrylate having 6 or more carbons and preferably and additionally (C) a radiation-curing type resin composition blended with a michael adduct of acrylic acid or 2-acryloyloxyethyldicarboxylic acid monoester.例文帳に追加

（Ａ）水添ポリブタジエンポリオール、ポリイソシアネート及びヒドロキシアルキルアクリレートを反応させてなるウレタンアクリレート系樹脂、（Ｂ）炭素数６以上の脂肪族又は脂環族アルキルアクリレートを含んでなる放射線硬化型樹脂組成物、好ましくは更に（Ｃ）アクリル酸のミカエル付加物、あるいは２−アクリロイルオキシエチルジカルボン酸モノエステルを配合した放射線硬化型樹脂組成物からなる。 - 特許庁

This method for esterifying (meth)acrylic acid is provided by separating unconverted starting materials and a formed (meth)acrylates by distillation to form a bottom product containing oxyesters, separating the bottom product, heating at 150-250°C in the presence of an acid, and adjusting pressure so as to directly evaporating cleaved products formed under the above condition from the oxyesters contained in the bottom product.例文帳に追加

未変換の出発化合物及び形成される（メタ）アクリレートを蒸留により分離し、オキシエステル−含有底部生成物を形成させ、この底部生成物を分離し、酸の存在下１５０〜２５０℃に加熱し、底部生成物に含有されているオキシエステルから上述の条件下で形成された開裂生成物を直接蒸発させるように圧力を調節する。 - 特許庁

The production process of the triarylmethane compound includes (a) a step of feeding an aryl acetal as a reaction mixture with an electron-rich aryl compound, (b) a step of adding an acid catalyst to the reaction mixture, and (c) a step of reacting the aryl acetal with the electron-rich aryl compound in the presence of the acid catalyst to form the triarylmethane compound.例文帳に追加

トリアリールメタン化合物の製造プロセスは、（ａ）アリールアセタールを電子の豊富なアリール化合物と共に反応混合物として供給するステップと、（ｂ）酸触媒を前記反応混合物に添加するステップと、（ｃ）前記酸触媒の存在下で前記アリールアセタールに前記電子の豊富なアリール化合物を反応させてトリアリールメタン化合物を生成するステップと、を含む。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition contains (A) a compound having an episulphide structure (three-membered ring structure composed of two carbon atoms and one sulfur atom); (B) a resin increasing a dissolution speed to an alkali developer by action of acid; and (C) a compound generating acid by an active beam or radiation of a radiation ray.例文帳に追加

（Ａ）エピスルフィド構造（２個のＣ原子と１個のＳ原子とから成る３員環構造）を少なくとも１個有する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂及び（Ｃ）活性光線又は放射線の放射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The thermosetting resin composition contains (A) a resin containing ≥3 acid anhydride groups in one molecule and having a weight-average molecular weight of 1,000-20,000, (B) a polyfunctional oxetane compound having ≥2 oxetanyl groups in one molecule and (C) a curing catalyst containing at least one kind of aliphatic or aromatic organic acid metal salt.例文帳に追加

（Ａ）１分子中に３個以上の酸無水物基を有する重量平均分子量１，０００〜２０，０００の酸無水物基含有樹脂、（Ｂ）１分子中に２個以上のオキセタニル基を有する多官能オキセタン化合物、及び（Ｃ）少なくとも１種の脂肪族もしくは芳香族有機酸金属塩を含む硬化触媒を含有する熱硬化性樹脂組成物が提供される。 - 特許庁

The method for manufacturing the concentrated composition containing the α-sulfofatty acid alkyl ester salt comprises concentrating the composition containing the α-sulfofatty acid alkyl ester salt to a water content of 13% or lower by a simple concentration operation so that the phase state of the composition has been converted, after concentrated, into a hexagonal phase state at 70°C as confirmed by observation by a polarization microscope.例文帳に追加

α−スルホ脂肪酸アルキルエステル塩を含有する組成物を簡易濃縮操作により水分量を１３％以下に濃縮するにあたり、濃縮後の組成物の相状態が偏光顕微鏡観察で確認した際に７０℃の温度でヘキサゴナル相状態となっていることを特徴とするα−スルホ脂肪酸アルキルエステル塩含有濃縮組成物の製造方法。 - 特許庁

The method for the purification of a crude polyether (d) produced by the addition polymerization of (c) an alkylene oxide to (b) a compound containing active hydrogen in the presence of (a) a basic catalyst comprises adjusting the water content of (d) to 0.1-6.0 wt.%, neutralizing with a mineral acid, adding an aromatic carboxylic acid to crystallize the neutral salt and filtering the product.例文帳に追加

塩基性触媒（ａ）の存在下、活性水素含有化合物（ｂ）にアルキレンオキサイド（ｃ）を付加重合して得られる粗ポリエーテル（ｄ）の精製方法において、該（ｄ）の水分量を０．１〜６．０重量％に調整し、鉱酸で中和した後、芳香族カルボン酸を添加して中和塩を晶析させ、その後ろ過処理することを特徴とする粗ポリエーテルの精製方法である。 - 特許庁

This composition contains (a) 10-40 wt.% surfactant containing a linear alkylbenzenesulfonate and/or a linear alkylsulfate, (b) 0.3-7 wt.% component comprising a polycarboxylic acid polymer or its salt and/or an amino acid-derived chelating agent, and (c) 0.02-5 wt.% enzyme comprising at least two kinds of protease different in their bacterial origins and lipase.例文帳に追加

本発明は（ａ）直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩及び／又はアルキル硫酸塩を含有する界面活性剤 １０〜４０重量％ （ｂ）ポリカルボン酸重合体又はその塩、及び／又はアミノ酸誘導体型キレート剤 ０．３〜７重量％ （ｃ）酵素として、菌起源の異なる２種以上のプロテアーゼ、及びリパーゼを合計で ０．０１〜５重量％ を含有することを特徴とする。 - 特許庁

The film has a laminate structure of two or more layers including an outermost layer, where the outermost layer comprises a thermoplastic resin composition containing a thermoplastic resin having a melting-point of 98°C or higher, and at least one layer other than the outermost layer (second layer) comprises a resin composition containing an ethylene/unsaturated carboxylic acid copolymer having 17 mass% or more of unsaturated carboxylic acid content, or its ionomer.例文帳に追加

最外層を含む二層以上の積層構造を有し、最外層は、融点が９８℃以上の熱可塑性樹脂を含有する熱可塑性樹脂組成物からなり、最外層以外の少なくとも一層（第二層）は、不飽和カルボン酸含有量が１７質量％以上のエチレン・不飽和カルボン酸共重合体、またはそのアイオノマーを含有する樹脂組成物からなる。 - 特許庁

A substrate-cleaning step of the method includes a first cleaning step of heating a compound semiconductor substrate 1, containing impurities of a first conductivity-type to a temperature range of 250°C and lower and etching a surface of the substrate with a gas of hydrochloric acid, and a second cleaning step after the first cleaning step, of subjecting the compound semiconductor substrate etched with the hydrochloric acid gas to a radical hydrogen treatment.例文帳に追加

第１導電型不純物を含む化合物半導体基板１の温度を２５０℃以下の温度域に加熱にしてその表面を塩酸ガスでエッチングする第１クリーニング工程と、第１クリーニング工程の後、塩酸ガスでエッチングされた化合物半導体基板に対してラジカル水素処理を行う第２クリーニング工程と、を含む基板クリーニング工程を備える。 - 特許庁