Isotropicallyを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 99件
METHOD AND APPARATUS FOR ISOTROPICALLY TREATING LIQUID CRYSTAL DEVICE例文帳に追加
液晶装置の等方処理方法および等方処理装置 - 特許庁
A trench surface insulating film 21 is isotropically formed on the inside of a trench 4.例文帳に追加
トレンチ4の内面にトレンチ面絶縁膜21を等方的に形成する。 - 特許庁
To isotropically and uniformly relax an internal strain in a silicon germanium film.例文帳に追加
シリコンゲルマニウム膜中の内部歪みを等方的かつ均一に緩和させる。 - 特許庁
Then the wafer sheet 200 is stretched isotropically centering on the center of the wafer 100.例文帳に追加
次いで、ウェハシート200を、ウェハ100の中心を中心として等方的に引き伸ばす。 - 特許庁
Then, the silicon nitride film is etched isotropically and selectively by isotropic etching method.例文帳に追加
この後、等方的ドライエッチングを用い、シリコン窒化膜6に対して等方的かつ選択的にエッチングを行う。 - 特許庁
A narrow-down part 115 isotropically reduces and narrows down the sheath liquid laminar flow and the sample liquid laminar flow before they are fed.例文帳に追加
絞込部115により、シース液層流及びサンプル液層流が、等方的に縮小して絞り込まれて送液される。 - 特許庁
The interlayer 4 beneath an isolated upper layer region 6a is isotropically etched until isolated from a base layer 2.例文帳に追加
遊離上層領域6a直下の中間層4を等方性エッチングし、ベース層2と分離するに至るまでエッチングする。 - 特許庁
The recessed part 21a is formed by isotropically etching the insulation film 21, while using a hard mask with a formed opening.例文帳に追加
第1の絶縁膜への凹部形成は、開口が形成されたハードマスクを用いた等方性エッチングにより行われる。 - 特許庁
To provide a magnetic detector which can isotropically detect a magnetic field for external magnetic fields, utilizing an AMR effect film.例文帳に追加
AMR効果膜を利用して外部磁界に対して等方的に磁界を検出することができる磁気検出装置を提供する。 - 特許庁
The liquid crystal color image screen is provided with a photo luminescent layer 7 containing a dichroically absorbing color agent and an isotropically emitting color agent.例文帳に追加
液晶カラー画像スクリーンが、二色吸収染料及び等方放射染料を含有するホトルミネッセント層(7)を具えるようにする。 - 特許庁
Then, an insulation film 12 is etched isotropically through the penetration hole 20 to form a recessed part at a boundary of the electrode film WL.例文帳に追加
次に、貫通ホール20を介して絶縁膜12を等方的にエッチングし、電極膜WLとの境界部分に凹部を形成する。 - 特許庁
Thereby ions generated by plasma are made to enter an object surface to be treated isotropically, and residue of smears can be reduced.例文帳に追加
これにより、プラズマによって発生したイオンを処理対象面に等方的に入射させて、スミアの残留を減少させることができる。 - 特許庁
(a) When the plasma is not generated, reaction gas molecules 92a are isotropically absorbed by the sidewall of a recess 20 and a volatile compound is formed.例文帳に追加
(a)プラズマ非発生時には、反応ガス分子92aが凹部20の側壁に等方的に吸着して、揮発性化合物が形成される。 - 特許庁
This light scattering sheet isotropically scatters incident light and transmitted light has the maximum value of intensity of scattered light at 2-40° of scattering angle.例文帳に追加
この光散乱シートは入射光を等方的に散乱させ、透過光は、散乱角2〜40°に散乱光強度の極大値を有している。 - 特許庁
The assembly technology uses both an isotropically conductive adhesive(ICA) and a non-conductive material(NCA) in the same assembly cycle.例文帳に追加
同じアセンブリサイクルにおいて、等方性導電接着剤(ICA)と非導電性材料(NCA)の両方を使用するアセンブリ技術を提供する。 - 特許庁
The substrate 1 is isotropically etched by the etchant containing hydrofluoric acid using the patterned thin film 2 as the etching mask.例文帳に追加
この後前記パタ−ニングされた薄膜2をエッチンングマスクとして、フッ化水素酸を含有するエッチング液により、前記基板1を等方的にエッチングする。 - 特許庁
Then the protective film PL is left only in a hollow H1 in, for example, a CMP(chemical-mechanical polishing) method, and with it as a cover, the wiring film 7 is etched isotropically.例文帳に追加
その後、例えばCMP法により空隙H1にのみ保護膜PLを残し、それをカバーとして配線膜7を等方性エッチングする。 - 特許庁
A cantilevered beam is formed in a cavity to an accurate length by isotropically etching a fast-etching material, such as hydrogen sillsquioxane.例文帳に追加
水素シルセスキオキサン等のエッチングの速い物質を等方的にエッチングすることによって凹所内に片持ち梁型ビームを正確な長さに形成する。 - 特許庁
The Cu film is grown isotropically, so that the upper corner 2g of the Cu electrode layer can be made round in shape.例文帳に追加
この場合、Cu膜を等方的に成長させるので、Cu電極層の形状を上面コーナ部2gが丸みを有する形状とすることができる。 - 特許庁
The etching mask patterns of the first mask structure and the second mask structure are etched isotropically to remove the etching mask pattern from the first mask structure.例文帳に追加
第1マスク構造物及び第2マスク構造物のエッチングマスクパターンを等方性エッチングし、第1マスク構造物からエッチングマスクパターンを除去する。 - 特許庁
In an initial stage of etching, the first etching step in which a relatively high etching pressure is set is conducted to isotropically etch an opening region of a mask pattern.例文帳に追加
エッチング開始当初はエッチング圧力を比較的高めに設定した第1のエッチング工程を実施し、マスクパターンの開口領域を等方エッチングする。 - 特許庁
The sacrifice layer 103 is isotropically etched by the diluted hydrofluoric acid solution entering from the through-hole 104a to form the space 131.例文帳に追加
これにより、貫通孔104aより浸入する希弗酸溶液により犠牲層103が等方的にエッチングされ、空間131が形成されるようになる。 - 特許庁
To provide a linear guide mechanism capable of isotropically sustaining the load without being affected by a fitting attitude, absorbing any dimensional error, and performing smooth guide.例文帳に追加
取付姿勢に影響されることがなく等方向に荷重を担持することができるとともに、寸法誤差を吸収して円滑に案内することにある。 - 特許庁
The method of treating the surface of the substrate is used for detecting foreign materials on the surface of the semiconductor substrate, and comprises steps of isotropically oxidizing the surface 11a of the substrate so as to reduce the scattered light, and isotropically etch-removing an oxide film 12 formed by oxidation.例文帳に追加
半導体基板表面の異物検出に用いるための基板の表面処理方法であって、散乱光を減少させるために、基板表面11aを等方的に酸化させる工程と、酸化によって形成された酸化膜12を等方的にエッチング除去する工程とによって表面処理する。 - 特許庁
Faint fluorescence isotropically emitted by the fluorescence dye is reflected toward a detector 81 by a total reflection film coated on a spherical glass 61.例文帳に追加
前記蛍光色素より等方的に発光した微弱蛍光は球形ガラス61の表面にコートされた全反射膜により、検出器81方向へと反射する。 - 特許庁
This resin foamed product is formed out of a homogenous resin material, wherein foamed layers 3 in which foam cells 10 are isotropically dispersed are formed between a base material layer 5 and surface skin layers 1.例文帳に追加
均質の樹脂体からなり、基体層5と表皮層1との間に発泡セル10が等方に分布している発泡層3が形成されていることを特徴とする。 - 特許庁
A method of manufacturing a semiconductor device includes a step of partially lowering the adhesive strength of the adhesive layer before the step of isotropically stretching the wafer sheet 200.例文帳に追加
本半導体装置の製造方法は、ウェハシート200を等方的に引き伸ばす工程の前に、粘着層の粘着力を部分的に低下させる工程を有する。 - 特許庁
The SiN films 4a and 9 are etched isotropically by a CDE method by the mixed gas of a CF_4 gas and an O_2 gas, and the patterns 10 of the new SiN films are formed.例文帳に追加
次に、CF_4ガスとO_2ガスの混合ガスでCDE法によってSiN膜4a,9を等方性エッチングし、新たなSiN膜のパターン10を形成する。 - 特許庁
By this, etching is isotropically progressed from the bottom face of each circular opening and a pattern where concave lens-shaped cavities are arranged is formed on the surface of the substrate 1.例文帳に追加
これによって、円形の開口の底面から等方向にエッチングを進行させ、基板1の表面に凹レンズ状の窪みが配列されたパターンを形成する。 - 特許庁
As a result, even when an element substrate 10 and an FPC substrate 200 isotropically elongate and contract, the misalignment between the corresponding electrode terminals 111, 211 can be absorbed.例文帳に追加
これにより、素子基板10及びFPC基板200が等方的に伸縮した場合にも、対応する電極端子111,211間の位置ズレを吸収することができる。 - 特許庁
A part 60 around the least the etching hole of the oxide layer is isotropically etched to form a void under at least a part of a conductive player pattern.例文帳に追加
酸化物層の少なくともエッチング孔の周りの部分60を等方性エッチングすることにより、導電層パターンの少なくとも一部分の下に空洞が形成される。 - 特許庁
A specimen holder 64 which is used as a holding device for a measuring object is formed from a material with optical propagation properties while isotropically scattering near infrared light and fluorescent light.例文帳に追加
計測対象保持具として用いて検体ホルダ64は、近赤外光及び蛍光が等方散乱しながら伝播する光学特性を有する材質で形成されている。 - 特許庁
The Si substrate 12 is immersed in TMAH to etch crystal-isotropically the Si substrate 12 through the etching window 26 of the back side, and a through hole 14 is formed on the Si substrate 12.例文帳に追加
TMAHにSi基板12を浸漬して裏面エッチング窓26からSi基板12を結晶異方性エッチングし、Si基板12に貫通孔14を設ける。 - 特許庁
Then, the circuit element 16 is crimped on the substrate 10 by isotropically pressurizing the circuit element 16 with a pressurizing mold having a soft layer 22 on the contact surface thereof and simultaneously carrying out heating.例文帳に追加
そして、回路素子16に接触する面に柔軟な層22を有する加圧型により等方加圧し、同時に加熱を行って回路素子16を基板10上に圧着する。 - 特許庁
To provide an array antenna device and an RFID (Radio Frequency Identification) system which can satisfy an EIRP (Equivalent Isotropically Radiated Power) applied to a UHF band RFID system and also can perform a wide range tag authentication scanning without leakage.例文帳に追加
UHF帯RFIDシステムに適用されるEIRPを満たし、しかも漏れのない広範囲のタグ認証走査が可能なアレイアンテナ装置及びRFIDシステムを提供する。 - 特許庁
The isotropic diffusion part 4a is arranged to face the plurality of light sources along the one direction, and diffuses the light incident from the plurality of light sources isotropically.例文帳に追加
等方性拡散部4aは、前記一方向に沿って前記複数の光源と対向して配置され、且つ前記複数の光源より入射された光を等方的に拡散する。 - 特許庁
To provide a rare earth element-added cerium oxide powder containing an easily sinterable and isotropically shaped aluminum oxide, from which a high-density sintered compact is obtainable at a low firing temperature.例文帳に追加
低い焼成温度にて高焼結密度の焼結体を得ることが可能な、易焼結性かつ等方形状の酸化アルミニウム含有希土類元素添加酸化セリウム粉体を提供する。 - 特許庁
Then, an electron emission unit 9 is formed in the center of the extraction electrode aperture 10 in a self-matching manner by isotropically etching the insulating layer 5 and the extraction electrode 6.例文帳に追加
その後、絶縁層5および引出電極6を等方的にエッチングをすることにより、引出電極開口部10の中心に電子放出部9を自己整合的に形成する。 - 特許庁
The resist film 16 is subjected to pattern exposure in a photolithography process, alkaline development is made by alkaline liquid, the resist film 16 and the internal oxide film 15 are isotropically fused for removing, and a mask 17 is formed.例文帳に追加
レジスト膜16をフォトリソグラフィ工程で、パターン露光し、アルカリ液でアルカリ現像し、等方的にレジスト膜16および内部の酸化膜15までを溶融して除去させ、マスク17を形成する。 - 特許庁
The isolation film is one by one isotropically and anisotropiccally etched to have a boundary aligned on a side wall of floating-gate pattern, and a recessed area formed lower than the floating-gate pattern.例文帳に追加
素子分離膜は等方性エッチングと異方性エッチングとを順次に実施して前記浮遊ゲートパターンの側壁に整列された境界を有し、前記浮遊ゲートパターンより低く凹んだ領域を形成する。 - 特許庁
The negative electrode material is manufactured in such a way that the primary particles NM and the secondary particles SM other than the binder are mixed, a mixture is isotropically pressed, and a mixture lump obtained is pulverized.例文帳に追加
この負極材料は、第一粒子NMとバインダー以外の第二粒子SMとを混合し、等方的に加圧した後、加圧で塊状となった混合物を解砕することにより製造される。 - 特許庁
To provide a method for cutting a sapphire single crystal by a wire saw suitable at the time of production of a single crystal sapphire substrate wherein a surface warp shape is isotropically a recessed surface, and the single crystal sapphire substrate.例文帳に追加
表面の反り形状が等方的に凹面である単結晶サファイア基板を製造する際に好適なワイヤソーによるサファイア単結晶の切断方法と単結晶サファイア基板を提供する。 - 特許庁
The resist film 17 is removed and the surface of the interlayer insulating film 16 is flattened by isotropically etching the interlayer insulating film 16 and the resist film 17 which are left after anisotropic etching.例文帳に追加
異方性エッチングで残された層間絶縁膜16及びレジスト膜17を等方性エッチングすることによって、レジスト膜17を除去すると共に層間絶縁膜16の表面を平坦化する。 - 特許庁
The nozzle plate is arranged integrally on the substrate and the ink chambers are made by isotropically etching the substrate exposed through the nozzles using the side wall as an etching stop wall.例文帳に追加
前記ノズルプレートは、基板上に一体に構成され、前記インクチャンバは側壁をエッチング阻止壁として利用しつつノズルを通じて露出された基板を等方性エッチングすることによってなされる。 - 特許庁
To provide a film deposition apparatus in which the thickness and the composition of a film deposited on a work for film deposition can be unified by allowing the gas for film deposition to isotropically flow from the surface of the work to the periphery thereof.例文帳に追加
成膜用ガスを成膜対象物の表面から周囲に向って等方的に流し、成膜対象物上に形成される膜の厚さや組成を均一にしうる成膜装置を提供する。 - 特許庁
In the first step of the chamber cleaning process, the stacked dielectric layer is let to contain a small quantity of fluorine, and the layer is isotropically etched, thus this process has an additional benefit of reforming the ability of filling the gap of the layer.例文帳に追加
チャンバクリーニングプロセスの第1のステップでは、堆積されている誘電層に少量の弗素を含ませ、等方的に層をエッチングして、層のギャップ充填能を改良する付加的な利益を有する。 - 特許庁
The carbon fiber-containing silicon carbide composite is produced by a production method comprising a process of preparing a mixture by mixing a plurality of carbon fibers, carbon powder and a powdery resin, a process of preparing granulates by adding a binder to the mixture, a process of isotropically compressing the granulates, a process of raising temperature of the isotropically compressed granulates to harden the same, and a process of firing the hardened product obtained in the preceding process.例文帳に追加
炭素繊維強化炭素複合体を、複数種類の炭素繊維と、炭素粉末と、粉末樹脂を混ぜ合わせて混合物にする工程と、混合物にバインダーを加えて造粒体にする工程と、造粒体を等方性圧縮する工程と、等方性圧縮された造粒体を昇温し、硬化させる工程と、前工程で得られる硬化物を焼成する工程とを備えている製造方法で作成する。 - 特許庁
A sample and a liquid are put in a measuring cell equipped with a volumetric change detecting part and pressure P is isotropically applied to the sample in the measuring cell through the liquid in the measuring cell by isotropically applying pressure P to the sample in the measuring cell to calculate the volume elasticity of the sample from the volumetric change of the sample with respect to the pressure P.例文帳に追加
体積変化検出部を備えた測定セルに試料および液体を入れ、該測定セルの全体に対して等方的に圧力を加えることにより、該測定セル中の試料に対して該測定セル中の液体を介して等方的に圧力Pを加え、その圧力Pに対する体積変化から試料の体積弾性率を求めることを特徴とする体積弾性率の測定方法および測定装置。 - 特許庁
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