「Mask Case」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

In the case boron doping to P channel transistors is not desired the ion is implanted with the additional mask.例文帳に追加

また、Ｐチャネルトランジスタにボロンを入れたくない場合には、マスクを追加した状態でイオン注入する。 - 特許庁

In such a case, the germanium thin film 2 is formed on the substrate 1 as the etching mask.例文帳に追加

この時前記基板１上にエッチングマスクとして、ゲルマニウム薄膜２を形成することを特徴とする。 - 特許庁

In this case, the collation is conducted for one digit each or pluralities of number of digits by using a mask pattern generated by a mask pattern generating means 12 and a sub net mask possessed by each routing entry read by a sub-net mask read section 13 independently of the hierarchy of a communication network.例文帳に追加

その際、上記の照合はマスクパタン生成手段１２で生成されたマスクパタンとサブネットマスク読取り部１３が読取った各ルーティングエントリが持つサブネットマスクとを用いて通信ネットワークの階層とは無関係に１桁、もしくは複数桁毎に行う。 - 特許庁

To stably print cream solder on a workpiece at a predetermined position even in the case of a mask large in the shape ratio of aperture parts, a mask minute in the diameter (aperture area) of aperture parts and a mask large in printing area.例文帳に追加

開口部の形状比が大きいマスク、開口部の径（開口面積）が微少なマスク、更に印刷面積が大きなマスクの場合でもクリームはんだを安定してワークピースの所定位置に印刷できるようにすること。 - 特許庁

To provide a screen printing equipment, which can realize a good quality screen printing by a simple operation under a low cost construction even under the case that the existing printing mask is changed for a printing mask, the size of a printing pattern of which is different from that of the existing printing mask.例文帳に追加

既設の印刷マスクを印刷パターンのサイズが異なる印刷マスクに付け換えた場合でも、簡単な操作及び低コストの構成で良質なスクリーン印刷を実現できるスクリーン印刷装置を提供する。 - 特許庁

In the case of being in the prescribed range, a mask domain is furthermore set in each unit domain in a peripheral domain of the obstacle candidate domain including the mask domain, and in the case of not being in the prescribed range, the operation processing is finished.例文帳に追加

所定の範囲内である場合、マスク領域を含む障害物候補領域の周囲領域に、さらにマスク領域を単位領域ごとに設定し、所定の範囲内でない場合は演算処理を終了する。 - 特許庁

In the mask blank conveyance case 1, a substrate holding jig 4 with casters wherein a mask blank 8 is held in a tightly sealed housing box 2 can be carried in/out from the front side thereof.例文帳に追加

マスクブランク搬送ケース１は、密閉型の収納箱２に、マスクブランク８が保持されているキャスタ付きの基板保持具４が前側から出し入れ可能である。 - 特許庁

(6) In the case of an application for the registration of a design for an integrated circuit topography, a mask work or a series of mask works, drawings not in A4 size shall be folded in A4 size.例文帳に追加

(6) 集積回路の回路配置，マスクワーク又は連続マスクワークに係る意匠の登録出願の場合は，A4判より大きい図面は，A4判の大きさに折らなければならない。 - 特許庁

To provide a stencil mask with which an appropriate pattern can be formed through one time of exposure in a case where fine patterns and rough patterns coexist, and to provide a method of manufacturing the mask.例文帳に追加

微細なパターンと粗大なパターンとが混在する場合において、１回の露光で適正なパターンが形成できるステンシルマスク及びその製法を提供する。 - 特許庁

Besides, when the shutter opened and closed is used also as the light shielding mask, unlike the case where the light shielding mask is provided separately, putting in and out of the liquid crystal panel to the chamber is not impeded.例文帳に追加

また、開閉するシャッタが遮光マスクを兼用することにより、別途遮光マスクを設ける場合と異なり、チャンバへの液晶パネルの出し入れを阻害することがない。 - 特許庁

By the guide member 122 of the selector case 111, the front mask part 12 is guided so as to suppress the generation of the gap between the front mask part 12 and the token feeding port 43.例文帳に追加

また、セレクターケース１１１のガイド部材１２２により、フロントマスク部１２とメダル投入口４３との隙間の発生を抑制するようにフロントマスク部１２を案内する。 - 特許庁

To provide an exposure device that can supply masks to mask stockers of a plurality of exposure units while keeping a right insertion direction by using one kind of mask case.例文帳に追加

１種類のマスクケースを用いて、複数の露光ユニットのマスクストッカに挿入方向を間違うことなくマスクを供給することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

In the case phosphorus is to be doped to the pixel part, initially phosphorus is ion implanted into all regions without any mask and subsequently boron is ion implanted into all parts except the pixel part by arranging the mask.例文帳に追加

また、画素部にリンをドープする場合には、最初マスクなしで全面にリンをイオン注入後、マスクを配置して画素部以外にボロンをイオン注入後する。 - 特許庁

In this case, 8 deflectors 7 are arranged at the mask side of an aperture 5, and 4 deflectors 7 are arranged at the wafer side of the aperture 5.例文帳に追加

偏向器７は、アパーチャー５よりマスク側に８個が、アパーチャー５よりウェハ側に４個が設けられている。 - 特許庁

In this case, silicon under a wider part of the first mask 102 is used as a wall part for partitioning the hole 106.例文帳に追加

このとき、第一のマスク１０２の幅の太い部分の下のシリコンは、孔１０６を仕切る壁部分となる。 - 特許庁

In this case, the layer 4 contains a reflection film 5 which increases the reflectivity of the mask layer in a layer which is set lower than the nitride film 6.例文帳に追加

マスク層４は、好適に、マスク層の反射率を上げる反射膜５を窒化膜６より下層に含む。 - 特許庁

In this case, the depth of a screen is denoted by (m) and the number of pixels described by the bit map mask 102 is denoted by (n).例文帳に追加

ここで、ｍは、スクリーンの深度であり、ｎは元のピクセル・ビットマップ・マスク１０２が記述するピクセルの数である。 - 特許庁

A mask 11 covering the opened part of the case body is provided with a number of holes 12 which are uniformly arranged almost all over the surface.例文帳に追加

ケース本体の開口遮蔽するマスク１１にはそのほぼ全面に多数の孔１２を均等に配列する。 - 特許庁

To obtain a resist mask which has a sufficient resolution in the case of using the exposure light of which wavelength is 200 nm or more.例文帳に追加

波長２００ｎｍ以上の露光光を用いる場合でも充分な解像性を持つレジストマスクを得る。 - 特許庁

(5) In the case of an application for the registration of a design for an integrated circuit topography, a mask work or a series of mask works, the representations may exceed A4 size, and shall be of such dimensions that the features of the integrated circuit topography, mask work or series of mask works are clearly visible to the naked eye.例文帳に追加

(5) 集積回路の回路配置，マスクワーク又は連続マスクワークに係る意匠の登録出願の場合は，表示は，A4判より大きくてもよいが，集積回路の回路配置，マスクワーク又は連続マスクワークの特徴が肉眼で明瞭に見える寸法でなければならない。 - 特許庁

In the flare value calculation method, an average light intensity in the case of performing exposure processing to a substrate using a mask pattern group in which mask patterns created with two or more kinds of sizes are arranged is calculated for every above-mentioned mask pattern.例文帳に追加

前記フレア値算出方法、では、複数種類の寸法で作成されたマスクパターンが配置されたマスクパターン群を用いて基板への露光処理を行った場合の平均光強度を前記マスクパターン毎に算出する。 - 特許庁

To provide a photomask case preventing top and back surfaces of a photomask from coming into contact with a support body of the photomask case, because particles derived from a support body of a photomask case and depositing on a mask are apt to remain even after a cleaning process, and because scratches on a mask can not be eliminated by cleaning.例文帳に追加

フォトマスクケースの支持体によって付着するパーティクルは洗浄後も残留しやすい傾向があり、傷については洗浄しても除去することは不可能であるため、フォトマスクの表裏面とフォトマスクケースの支持体が接触しないようなフォトマスクケースを提供すること。 - 特許庁

To provide a mask which prevents gaps from being generated on both of the sides of the nasal muscle in the case of wearing it.例文帳に追加

着用時に鼻筋の両側に隙間が生じることを防止できるマスクを提供することを目的とする。 - 特許庁

In this case, the diameter of via hole in an adhesive layer is made smaller than that in the film that is formed using the wirings 4 and 6 as a mask.例文帳に追加

前記配線４，６のマスクにより形成するフィルムのビア径より接着剤層のビア径を小さくしたもの。 - 特許庁

A gasket 21 engaging with a lower-surface peripheral part of the mask 10 is fitted to an upper-surface peripheral part of the inner case lower part 2.例文帳に追加

内ケース下部２の上面周辺部には、マスク１０の下面周辺部と係合するパッキン２１を取り付ける。 - 特許庁

In the case of a DC-PBH structure, the mask may be formed on an appropriate location on a terrace of a carrier recombination layer.例文帳に追加

またＤＣ−ＰＢＨ構造の場合は、キャリア再結合層のテラス上の適当な位置にマスクを形成すればよい。 - 特許庁

To accurately perform mask processing even in the case of holding segment data by a one-to-many system in four-dimensional segmentation.例文帳に追加

４次元セグメンテーションにおいて１対多方式でセグメントデータを保持する場合にも正確にマスク処理を行うこと。 - 特許庁

In this case, the pad oxide film 2 and the hard mask 3 are sequentially formed on the top surface of each of the silicon columnar bodies 1F.例文帳に追加

その際に、各シリコン柱体１Ｆの上面には、パッド酸化膜２及びハードマスク３が順次に形成される。 - 特許庁

In this case, the opening 102 corresponding to the outer periphery section of the semiconductor substrate 4 is provided in the mask 101 for heating.例文帳に追加

ここで、加熱用マスク１０１には、半導体基板４の外周部に対応する開口部１０２が設けてある。 - 特許庁

In this case, the code quantity assigned to the mask area is set to a value not reaching a value required for reversible compression.例文帳に追加

この際、マスク領域に対して割り当てる符号量を、可逆圧縮に必要な値に満たない値に設定する。 - 特許庁

To provide a dither mask generating method capable of preventing a pseudo contour from being generated in the case of using a dither mask to convert N-value image data into M-value (2<M<N) image data.例文帳に追加

ディザマスクを使用して，Ｎ値の画像データをＭ値（２＜Ｍ＜Ｎ）の画像データに変換する際に，擬似輪郭の発生を防止することが可能なディザマスク作成方法を提供すること。 - 特許庁

In the case a small quantity of boron is to be doped also to the pixel part, initially boron is ion implanted into all regions without any mask and subsequently it is ion implanted into all parts except the pixel part by arranging the mask.例文帳に追加

また、画素部にも少しボロンをドープする場合には、最初にマスクなしで全面にボロンをイオン注入後した後、マスクを配置して画素部以外にボロンをイオン注入する。 - 特許庁

According to this method, a pattern can be formed with higher accuracy because diffusion into the shadow of mask from the edge of the holes of mask will not be generated, unlike the case of existing evaporation method.例文帳に追加

この方法によれば、従来の蒸着法のようにマスクの孔のエッジの部分からマスクの影へ回り込みが生じることがないため、パターンを精度よく形成することができる。 - 特許庁

To provide a mirror tunnel unit on which external light is not made incident from an interstice between a negative mask upper surface and the mirror tunnel unit even in the case that the thickness of a negative mask is changed according to the kind of it.例文帳に追加

ネガマスクの種類によってその厚さが変わった場合であっても、ネガマスク上面とミラートンネルユニットとの間から外光が入射しないミラートンネルユニットを提供する。 - 特許庁

The mask fixture is composed of a case (1) composed of a metal or an alloy having high corrosion resistance, and the case (1) is composed of: a cope (10) provided with opening parts (11, 12, 13); and a drag (20).例文帳に追加

耐食性の高い金属または合金からなるケース（１）により構成され、ケース（１）は、開口部（１１、１２、１３）を備える上型（１０）と、下型（２０）とからなる。 - 特許庁

A lifting phenomenon occurring in the case that amorphous carbon and an SiON hard mask are used as a self-aligned contact mask can be prevented, because the oxide hard mask is used on the amorphous carbon film 37 in place of a conventionally used SiON film.例文帳に追加

非晶質カーボン膜３７上に、従来のＳｉＯＮ膜に代えて、酸化物ハードマスクを用いるので、非晶質カーボンとＳｉＯＮハードマスクとを自己整合コンタクトマスクとして使用する場合に生じるリフティング現象を防止することができる。 - 特許庁

To provide a mask for vapor deposition where, even in the case a plurality of long hole-shaped mask opening parts are arranged in parallel with beam parts interposed, sticking between the side faces in the beam parts can be prevented, and to provide a method for producing the mask for vapor deposition.例文帳に追加

長穴形状のマスク開口部を複数、梁部を間に挟んで並列させた場合でも、梁部の側面同士の貼りつきを防止することのできる蒸着用マスクおよび該蒸着用マスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a carry container wherein a deterioration in a quality of a product to be carried or a chemical change does not occur or is difficult to occur when a case with a photo mask, a mask blank and a glass substrate received or a case for receiving them is to be carried outside a clean room.例文帳に追加

クリーンルーム外で、フォトマスク、マスクブランクス、ガラス基板を収納したケースないし収納するためのケースを搬送する際に、搬送される製品の品質劣化や化学変化が起こらない、あるいは起こりずらい搬送コンテナを提供する。 - 特許庁

In the alarm mask cancellation designation, it is possible to designate at least one of the case where a predetermined message indicating the alarm mask cancellation is received after a fixed timer time has elapsed after the path setting, and the case where the predetermined message is received the predetermined number of times.例文帳に追加

上記の警報マスク解除指定は、パス設定後の一定タイマ時間経過後、警報マスク解除を示す所定のメッセージ、及び該所定のメッセージを所定回数受信したこと、の内の少なくともいずれか一つを指定することができる。 - 特許庁

To provide a mask case which eliminates the need to use a pellicle film to be stuck on a surface of a mask and prevents the generation of dust, dirt, static electricity and gas in the transportation and storage of the mask, the mask being used for a process of manufacturing a semiconductor circuit of a new generation which is formed using a short wavelength of a soft X-ray range etc. and has high integration.例文帳に追加

軟Ｘ線領域等の短波長を使用して形成される、より集積度の高い新世代の半導体回路の製造工程で使用されるマスクの運搬時及び保管時において、マスク表面に貼り付けるペリクル膜の使用を不要にすると共に、塵、埃、静電気、及びガスの発生を防止すること。 - 特許庁

In the process, an evaluation index for evaluating the dither mask in the case that the thresholds store the attentional thresholds in any of mask pixels yet to be stored that are not stored is calculated about each of the mask pixels yet to be stored, and the attentional thresholds are stored for the mask pixels yet to be stored to which the evaluation index becomes satisfactory.例文帳に追加

この工程において、前記閾値が未格納の未格納マスク画素のいずれかに前記着目閾値を格納した場合の前記ディザマスクを評価する評価指数を前記未格納マスク画素のそれぞれについて算出し、該評価指数が良好となる前記未格納マスク画素に対して前記着目閾値を格納する。 - 特許庁

In this case, the used mask has a two-step structure, and a lot of etching seeds are involved in etching in comparison with a single-step structure.例文帳に追加

ここで用いるマスクは２段構造を有しており、１段構造に比べてより多くのエッチング種をエッチングに関与させる。 - 特許庁

To provide a three-dimensional input camera with a rational configuration where a mask for pattern projection is retreated in the case of usual photographing.例文帳に追加

通常撮影時にパターン投影用のマスクを退避させる合理的な構成の３次元情報入力カメラを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate case with which a large sized substrate represented by mask blanks for a liquid crystal is conveyed without getting damaged.例文帳に追加

液晶用マスクブランクスなどで代表される大型基板を損傷しないように搬送できる基板ケースを提供すること。 - 特許庁

To inhibit the generation of a void during soldering in the case of the mounting of an electronic loaded article by changing the pattern of a solder mask.例文帳に追加

半田マスクのパターンを変えることで電子搭載品の実装時における半田付けの際のボイド発生を抑制する。 - 特許庁