「PATTERN TRANSFER」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To manufacture a transfer film for printing a pattern by using a colored hologram.例文帳に追加

着色されたホログラムで図柄を印刷することのできる転写フィルムの提供を課題とする。 - 特許庁

To provide a lighting control system capable of reducing the amount of data transfer of pattern data.例文帳に追加

パターンデータのデータ転送量を低減することができる点灯制御システムを提供する。 - 特許庁

To transfer a precise pattern with an enhanced throughput on a photosensitive substrate.例文帳に追加

スループットを向上し、感光基板上に高精度なパターンを転写形成することである。 - 特許庁

In this transfer apparatus, a pattern forming plate 47 is provided on the upper surface of a lower heating plate 25.例文帳に追加

図１（ａ）に示すように、下部加熱板２５の上面にパターン成形板４７を載置する。 - 特許庁

ORIGINAL PLATE FOR TRANSFER, ITS MANUFACTURING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加

転写用原版、転写用原版の製造方法、パターン基板の製造方法 - 特許庁

To restrain a line width generated in a splice part of each transfer pattern spliced on a photosensitive substrate.例文帳に追加

感光基板上で継ぎ合わせる各転写パターンの継ぎ部に生じる線幅差を抑制する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR TRANSFERRING MASK PATTERN, MANUFACTURE OF DEVICE, AND TRANSFER MASK例文帳に追加

マスクパタ—ン転写方法、マスクパタ—ン転写装置、デバイス製造方法及び転写マスク - 特許庁

The transfer pattern 12 having thermal expansion rate different from the substrate 11 is formed on the substrate 11.例文帳に追加

基板１１上に基板１１とは異なる熱膨張率をもつ転写パターン１２を形成する。 - 特許庁

A parameter having influences on characteristics of an element is obtained by using the transfer pattern.例文帳に追加

前記転写パターンを用いて、素子特性に影響を及ぼすパラメータを求める。 - 特許庁

PHOTOSETTING RESIN COMPOSITION, SHEET, TRANSFER FOIL, METHOD OF FORMING FINE RUGGED PATTERN AND OPTICAL ARTICLE例文帳に追加

光硬化性樹脂組成物、シート、転写箔、微細凹凸パターン形成方法、及び光学用物品 - 特許庁

To provide a method of forming a transfer layer on which a wanted pattern is formed.例文帳に追加

所望のパターンが形成された転写層を形成する方法を提供する。 - 特許庁

Information of the transfer error quantity is supplied to a compensation magnetic pattern generating apparatus 97.例文帳に追加

転写誤差量の情報は補正磁気パターン生成装置９７に供給される。 - 特許庁

The master 10 for magnetic transfer partially magnetizes the magnetic recording medium 2 to form the magnetization pattern.例文帳に追加

磁気転写用マスタ１０は、磁気記憶媒体２を部分的に磁化して磁化パターンを形成する。 - 特許庁

To shorten pattern data edition time by making it unnecessary to transfer a pattern file between a CPU and a pattern memory in the case of adding or deleting pattern data when pattern data for testing an integrated circuit are stored in plural pattern memories in the integrated circuit testing device in each word.例文帳に追加

集積回路試験装置で、集積回路試験用パターンデータが複数のパターンメモリに対してワード毎に格納されているとき、そのパターンデータを追加又は削除するとき、ＣＰＵとパターンメモリ間のパターンファイルの転送を不用とし、パターンデータの編集時間を短くする。 - 特許庁

The exposure method includes projecting a pattern including a first partial pattern and a second partial pattern onto a plurality of pattern transfer regions of a strip-like substrate along the longitudinal direction of the substrate.例文帳に追加

帯状の基板の長手方向に沿って該基板の複数のパターン転写領域に、第１部分パターン及び第２部分パターンを含むパターンを露光する露光方法である。 - 特許庁

The recessed and projecting pattern for a die may be stamped by performing transfer of the pattern by cold driving type machining by use of the first pattern body without using the second pattern body and an electrical discharge machining method together.例文帳に追加

第二原型体を用いずに、第一原型体を用いた冷間打ち込み型加工による模様転写と、放電加工法とを併用してダイに対する凹凸模様の刻設を行なってもよい。 - 特許庁

The first mask pattern 21 is a pattern having a light condensing function and such a property that the amount of exposing radiation on a transfer body changes depending on focus variation, wherein the first mask pattern is a two-dimensional Fresnel zone pattern.例文帳に追加

第１のマスクパターン２１は、集光作用を有し、被転写体に対する露光照射量が焦点変動に依存して変化する性質を有するパターンであり、ここでは２次元のフレネル輪帯パターンとされている。 - 特許庁

To provide a fine pattern sheet manufacturing apparatus which efficiently performs the transfer of the pattern of a mold and hardly collapses the transferred pattern even if the aspect ratio of the pattern transferred from the mold is large.例文帳に追加

型のパターンの転写を効率良く行なうことが出来ると共に、型から転写されたパターンのアスペクト比が大きくても、前記転写されたパターンが崩れにくい、微細シートパターン作成装置を提供する。 - 特許庁

In addition, after transferring the resist pattern onto a protective film by etching, a resist film is reapplied and a pattern is formed, thereby transferring only the objective fine pattern onto a substrate, while preventing the transfer of the auxiliary pattern.例文帳に追加

更に、このレジストパターンを保護膜にエッチングで転写した後、再度レジスト膜を塗布し、パターンを形成することで、補助パターンが基材に転写されることを防ぎ、目的とする微細パターンのみを基材に転写する。 - 特許庁

The pattern forming method includes a process for cleaning an original plate 3 having a transfer pattern, and a process for transferring the transfer pattern to a pattern forming material 2 formed on a transferring substrate 1 before the allowable leaving time of the original plate 3 after cleaning passes.例文帳に追加

転写パターンを有する原板３を洗浄する工程と、原板３を洗浄した後の原板３の許容放置時間が経過する前に、転写パターンを被転写基板１に形成されたパターン形成材料２に転写する工程と、を備える． - 特許庁

To provide a method of producing a mask blank and a method of producing a transfer mask, for obtaining desired flatness of the mask blank even when a thin film has a film stress, and preventing reduction in positional accuracy of a mask pattern as well as pattern shift and pattern defect during pattern transfer.例文帳に追加

薄膜自体に膜応力がある場合においても、マスクブランクの平坦度が所望の平坦度となり、マスクのパターン位置精度や、パターン転写の際、パターン位置ずれやパターン欠陥が発生することがないマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetic pattern transfer apparatus that brings a master medium with a magnetic pattern recorded thereon close to a slave medium, applies an external magnetic field to the slave medium to transfer the magnetic pattern to the slave medium and minimizes a decentering amount of the center of rotation between the slave medium and the magnetic pattern to be transferred.例文帳に追加

磁気パターンが記録されたマスタ媒体をスレーブ媒体に近接させて外部磁界を印加しスレーブ媒体に磁気パターンを転写する磁気転写装置において、スレーブ媒体の回転中心と転写される磁気パターンの回転中心との偏心量を最小化する装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a mask blank and a method of producing a transfer mask, for achieving a desired flatness of the mask blank even when a thin film itself has a film stress, and avoiding degradation in positional accuracy of a mask pattern or occurrence of a pattern displacement error and a pattern defect during pattern transfer.例文帳に追加

薄膜自体に膜応力がある場合においても、マスクブランクの平坦度が所望の平坦度となり、マスクのパターン位置精度や、パターン転写の際、パターン位置ずれやパターン欠陥が発生することがないマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet for pattern transfer that, during pattern formation of electrodes, thin films, and the like in a manufacturing procedure for an electronic component and the like, enables formation of a pattern that is thinner and/or has higher definition, and facilitates transfer of the pattern to an optional subject with high definition.例文帳に追加

電子部品等の製造工程における電極、薄膜等のパターン形成において、より薄層化及び／又は高精細化が可能なパターンを形成して、任意の被写体に簡易に、高精細に転写することができるパターン転写用粘着シートを提供する。 - 特許庁

A test transfer pattern is formed on a wafer by using a test exposure mask having a mask pattern with varied pattern area rates in the peripheral region so as to obtain the proximity correction data for each pattern area rate based on the transfer patterns (ST5, ST6).例文帳に追加

周辺領域におけるパターン面積率を変化させたマスクパターンを有するテスト用の露光マスクを用いてウェハ上にテスト用の転写パターンを形成し、当該転写パターンに基づいて前記パターン面積率毎の近接効果補正用データを得る（ＳＴ５，ＳＴ６）。 - 特許庁

The first wafer 4 has a mask pattern 44 formed on a top side, and an opening 45 of the mask pattern 44 is opposed to an opening 15 of the mask pattern 14 for transfer and has a size larger than the size of the opening 15 of the mask pattern 14 for transfer.例文帳に追加

第１のウエハ４は、表側にマスクパターン４４が形成され、当該マスクパターン４４の開口部４５が前記転写用マスクパターン１４の開口部１５と対向され、かつ、当該マスクパターン４４の開口部４５の寸法が前記転写用マスクパターン１４の開口部１５の寸法より大きい。 - 特許庁

The CMOS image sensor relating is provided with a photodiode, a gate pattern of a transfer transistor in contact with one side surface of the photodiode, a gate pattern of a drive transistor disposed a predetermined distance spaced apart from the gate pattern of the transfer transistor, and a floating node disposed between the gate pattern of the transfer transistor and the gate pattern of the drive transistor.例文帳に追加

本発明に係るＣＭＯＳイメージセンサは、フォトダイオードと、該フォトダイオードの一側面に接する伝達トランジスタのゲートパターンと、該伝達トランジスタのゲートパターンと所定間隔離れて配置された駆動トランジスタのゲートパターンと、前記伝達トランジスタのゲートパターンと前記駆動トランジスタのゲートパターンとの間に配置されたフローティングノードとを備える。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transfer paper, by which a transfer paper with a printed or copied transfer pattern or the like of the liking of a fuser easily obtained with the help of a color copying machine or a color printer can be manufactured and also a transfer paper enabling the transfer pattern or the like to be easily transferred to a material of whatever kind, can be manufactured and a transfer paper.例文帳に追加

本発明は誰でもが気軽にカラーコピー機やカラープリンターを用いて自分の好みの転写模様等がコピーやプリントされた転写紙を製造することができるとともに、どんな材質のものにでも容易に転写することができる転写紙の製造方法および転写紙を得るにある。 - 特許庁

To provide a transfer mask and a transfer mask blank capable of reducing a compressive stress and a crucial defect of a BOX layer generated in the transfer mask and having an excellent transfer accuracy, and a pattern exposure method of a charged particle beam using the transfer mask.例文帳に追加

転写マスクで発生するＢＯＸ層の圧縮応力及び致命的欠陥を低減し、優れた転写精度を有する転写マスク及び転写マスクブランク並びに転写マスクを用いた荷電粒子線のパターン露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The photomask is formed in a pattern after such shape correction, so that a transfer shape equal to the transfer shape obtained using a photomask formed in the pattern after OPC can be obtained.例文帳に追加

このような形状補正後のパターンでフォトマスクを形成し、ＯＰＣ後のパターンで形成したフォトマスクを用いたときに得られる転写形状と同等の転写形状を得るようにする。 - 特許庁

In the image forming apparatus, when the toner pattern passes on the transfer roller 13, a voltage having the same polarity as electrostatically charged toner forming the toner pattern is applied to the transfer roller 13.例文帳に追加

トナーパターンが転写ローラ１３を通過するとき、転写ローラ１３に対して、トナーパターンを形成するトナーの帯電極性と同極性の電圧を印加する。 - 特許庁

Writing position of a toner pattern 2 being formed on the transfer belt is adjusted and the toner pattern 2 is formed on the transfer belt at the adjusted writing position.例文帳に追加

転写ベルト上に形成するトナーパターン２の書き込み位置を調節し、該調節された書き込み位置で転写ベルト上にトナーパターン２を形成する。 - 特許庁

A toner image pattern, stipulated beforehand, is formed on an intermediate transfer drum 18 and this toner image pattern is detected by a density detection sensor 21 and outputted as an intermediate transfer body linear velocity detection value.例文帳に追加

中間転写ドラム１８上に予め規定されたトナー像パターンが形成され、濃度検知センサー２１ではこのトナー像パターンを検出して中間転写体線速検出値として出力する。 - 特許庁

Afterward, micro peeling is partially made between the substrate 11 and the transfer pattern 12 by heating or cooling in accordance with the difference of the thermal expansion rate between the substrate 11 and the transfer pattern 12.例文帳に追加

その後、加熱又は冷却を行うことで、基板１１と転写パターン１２との熱膨張率の相違により、基板１１及び転写パターン１２間にミクロ的な剥離を部分的に発生させる。 - 特許庁

To prevent deterioration in pattern transfer precision by vibrating beams 1 and 3 for composing the mask pattern of a stencil mask with the acceleration motion of the mask in an electron beam transfer exposure (EPL).例文帳に追加

電子ビーム転写露光（ＥＰＬ）において、ステンシルマスクのマスクパターンを構成する梁１、３が、マスクの加速運動に伴い振動することによって、パターン転写精度が悪化することを防止する。 - 特許庁

Thereafter, the width of a transfer line, corresponding to each dot arrangement pattern of the pattern transferred on the photosensitive agent, is measured to calculate the aberrations from the difference between the width of each transfer line.例文帳に追加

その後、感光剤に転写されたパターンの、各ドット配列パターンに対応する転写ラインの幅を測定し、各転写ラインの幅の差から、収差を算出する。 - 特許庁

A barrier layer is formed by oxidizing a antireflection film which is stacked before a resist application for preventing a constriction on a transfer pattern formed at the time of optical pattern transfer of a photoresist.例文帳に追加

上記課題を解決するために、本発明は、フォトレジストの光学的パターン転写の際に生じる転写パターンのくびれを防止するためのレジスト塗布前に堆積する反射防止膜を酸化することによりバリア層を形成する。 - 特許庁

PATTERN TRANSFER METHOD AND DEVICE, FLEXIBLE DISPLAY PANEL, FLEXIBLE SOLAR CELL, E-BOOK, THIN FILM TRANSISTOR, ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING SHEET, FLEXIBLE PRINTED CIRCUIT BOARD TO WHICH PATTERN TRANSFER METHOD OR DEVICE IS APPLIED例文帳に追加

パターン転写方法及びパターン転写装置、これを適用したフレキシブルディスプレイパネル、フレキシブル太陽電池、電子本、薄膜トランジスター、電磁波遮蔽シート、フレキシブル印刷回路基板 - 特許庁

In the non-transfer pattern forming region 5, a non-transfer pattern 12 not to be transferred onto the semiconductor substrate 41 is formed by selectively depositing a light-shielding material.例文帳に追加

非転写パターン形成領域５には、遮光性材料が選択的に付着することにより、半導体基板４１上に転写されない非転写パターン１２が形成されている。 - 特許庁

In this repair method, irradiation of charged particle beam is selectively performed at least two times to a black defect part 13 generated on the transfer pattern, and correction of the transfer pattern is performed.例文帳に追加

このリペア方法は、該転写パターンに生じた黒欠陥部１３に少なくとも２回の荷電粒子線の照射を選択的に行うことにより該転写パターンの修正を行うものである。 - 特許庁

METHOD FOR ESTIMATING PATTERN SHAPE IN CHARGED-PARTICLE RAY EXPOSURE TRANSFER, METHOD FOR DETERMINING RETICLE PATTERN USED FOR CHARGED-PARTICLE RAY EXPOSURE TRANSFER AND METHOD FOR ESTIMATING PARAMETER OF PROXIMITY EFFECT例文帳に追加

荷電粒子線露光転写におけるパターン形状の推定方法、荷電粒子線露光転写に使用するレチクルパターンの決定方法、及び近接効果のパラメータの推定方法 - 特許庁

By removing extruded unnecessary transfer liquid 63a, after pattern transfer, liquid flow caused between the original plate 1 and the transferred medium 61 can be restrained when they are peeled and separated, and thus a pattern can be stabilized.例文帳に追加

押し出された余剰の転写液６３ａを除去することで、パターン転写後、原版１と被転写媒体６１を剥離する際に、両者の間に生じる液流を抑制でき、パターンを安定させることができる。 - 特許庁

To effectively prevent a fine rugged pattern transferred to a resist layer of the transfer substrate from being damaged when separating a mold of the side of transferring the fine rugged pattern and the transfer substrate on the side of being transferred.例文帳に追加

微細凹凸パターンを転写する側のモールドと、転写される側の転写用基板とを剥離する際に、転写用基板のレジスト層に転写された微細凹凸パターンが損傷を受けることを効果的に防止できる。 - 特許庁

A basic pattern resetting unit 24 sets the basic pattern again in accordance with a channel usage method of a bit transfer order in the high-speed serial transfer device.例文帳に追加

基本パターン再設定部２４は高速シリアル転送デバイスにおけるビット転送順序のチャネル使用方法に合わせて基本パターンを再設定する。 - 特許庁

A transfer pattern 201 of a flexographic printing plate 2 fitted on a plate cylinder is formed so as to be a rotated arrangement by a specified angle Θ to the center O of the arrangement of this transfer pattern 201 of the flexographic printing plate 2.例文帳に追加

版胴に取り付けるフレキソ版２の転写パターン２０１は、フレキソ版２でのこれら転写パターン２０１の配列中心０に関して、所定の角度Θだけ回転した配列となるように、成形されている。 - 特許庁