「PATTERN TRANSFER」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

This transfer material is structured of at least the release layer 3, a pattern layer 4 and an adhesive layer 6, laminated in that order on a base sheet 1.例文帳に追加

基体シート１上に剥離層３、図柄層４、接着層６が少なくとも順次積層され、剥離層３が、平均分子量１５０，０００〜５００，０００であるアクリル系樹脂、アクリル−スチレン共重合体系樹脂またはアクリル−ウレタン共重合体系樹脂を主成分とし、紫外線吸収剤が共重合または混合される。 - 特許庁

This particulate-adsorbed pattern-formed material is formed by the method comprising a step to imagewisely form the region having polymerization initiating ability on the surface of the substrate , a step to produce a graft polymer having a nonionic polar group in the region by atom transfer radical polymerization and a step to make particulate adsorbed on the produced graft polymer.例文帳に追加

基板表面に重合開始能を有する領域を画像様に形成する工程と、該領域に原子移動ラジカル重合を用いて非イオン性極性基を有するグラフトポリマーを生成させる工程と、該グラフトポリマーに微粒子を吸着させる工程と、を含むことを特徴とする微粒子吸着パターン形成方法、及びそれを用いて作製された微粒子吸着パターン材料。 - 特許庁

In the diffracting structural body transfer foil, in which the patterns (14) made of a diffracting structure and the patterns comprising portions (13) having reflecting layers and portions (12) having no reflecting layer are provided under the state being registered, transferring sensor marks (11) made of a pattern formed at least through the absence and presence of the reflecting layers are provided.例文帳に追加

回折構造により形成した絵柄（１４）と、反射層の有る部分（１３）と反射層の無い部分（１２）により形成した絵柄とが、見当を合わせて設けられた回折構造体転写箔において、少なくとも反射層の有無によるパターンで形成された転写用センサーマーク（１１）を有することを特徴とする回折構造体転写箔。 - 特許庁

The radiation sensitive composition contains (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer and (D) a photopolymerization initiator, and the erosion rate of the section shape of a pattern formed from the radiation sensitive composition is ≤ 30% or the radiation sensitive composition contains the components (A)-(D) and (E) a chain transfer agent.例文帳に追加

カラー液晶表示装置用感放射線性組成物は、（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体および（Ｄ）光重合開始剤を含有する感放射線性組成物であって、該感放射線性組成物から形成されたパターンの断面形状の浸食率が３０％以下であることを特徴とするか、または前記（Ａ）〜（Ｄ）および（Ｅ）連鎖移動剤を含有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a reflective mask with a light blocking region capable of minimizing overexposure in the exposure field boundary on a wafer by enhancing the light blocking properties of the light blocking region on a reflective mask while eliminating the risk of damaging a transfer pattern, and to provide a reflective mask blank and a method of manufacturing a reflective mask.例文帳に追加

本発明は、転写パターンに損傷を及ぼす危険性を解消しつつ、反射型マスク上の遮光領域の遮光性を高めてウェハ上の露光フィールド境界部のオーバー露光を抑制できる遮光領域を有する反射型マスク、反射型マスクブランクス、および反射型マスクの製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

A metal substrate in which ruggedness in accordance with a transfer pattern in accordance with information to be transferred to the magnetic recording medium is formed on a surface is formed, a master substrate having the prescribed shape is formed by separating from the metal substrate by etching, and a magnetic layer is formed so that at least ruggedness out of the surface of the master substrate is covered with the magnetic layer.例文帳に追加

磁気記録媒体に転写すべき情報に応じた転写パターンに応じた凹凸が表面に形成された金属基板を成形し、金属基板からエッチングによって分離することで所定の形状を有するマスター基板を成形し、マスター基板の表面のうち少なくとも凹凸を覆うように磁性層を形成する。 - 特許庁

Further, the method for manufacturing the mask comprises a step of forming the transfer pattern on an upper single-crystal silicon wafer of the substrate for the mask, a step of forming an opening at a lower single- crystal silicon wafer, and a step of removing a silicon oxide film of the opening, at least after both the previous steps.例文帳に追加

更に、上記転写マスク用基板の上部単結晶シリコンウェハに転写パターンを形成する工程と、下部単結晶シリコンウェハに開口部を形成する工程とを有し、少なくともこの両工程の後に、開口部の該シリコン酸化膜を除去する工程を含むこととした転写マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

If, on the other hand, the date and time of activation of the software-functionality update is earlier than the first exposure of the substrate or lot, then, for the lot or substrate, an updated, new software-functionality may be used to control the pattern transfer of all of the substrate layers without being affected by the old software-functionality.例文帳に追加

一方、ソフトウェア機能アップデートのアクティベーションの日付および時刻が基板またはロットの第１の露光より前である場合、そのロットまたは基板は古いソフトウェア機能の影響を受けず、すべての基板層のパターン転写の制御に、アップデートされた新しいソフトウェア機能を使用することができる。 - 特許庁

By using a sputtering target 14, containing silicon and having a hardness of 900 HV or more in Vickers' hardness, a thin film for forming the mask pattern on a substrate 1 is formed by sputtering, and the high-quality mask blank that suppresses generating of defects is manufactured; and further, the transfer mask is manufactured by patterning the thin film.例文帳に追加

シリコンを含有するスパッタリングターゲット１４であって、ターゲットの硬度が、ビッカース硬さで９００ＨＶ以上であるスパッタリングターゲットを用いて、基板１上にマスクパターンを形成するための薄膜をスパッタリング法で形成し、欠陥発生を抑えた高品位のマスクブランクを製造し、さらに、薄膜をパターニングすることで転写マスクを製造した。 - 特許庁

A main pattern of a photomask having a focus monitor mark capable of controlling a focus position can be subjected to a transfer simulation giving a just-focus and accurate contrast of transmitted light intensity, only by setting a focus controlling system 80 on a measurement stage of a lithographic simulation microscope, the system capable of giving a just-focus and accurate contrast of transmitted light intensity.例文帳に追加

リソグラフィシュミレーション顕微鏡の測定ステージに、ジャストフォーカスで正確な透過光強度のコントラストが得られるフォーカス制御システム８０をセットするだけで、フォーカス位置が制御可能なフォーカスモニターマークが配置されたフォトマスクのメインパターンをジャストフォーカスで正確な透過光強度のコントラストが得られる転写シュミレーションを行うことができる。 - 特許庁

This transfer material is manufactured by forming sequentially at least a releasing layer 2 comprising an organic/inorganic composite containing an organic polymer comprising a vinylic resin as a main material and a metal-based compound, a pattern layer 4 comprising an acrylic resin and/or a vinylic resin as a main material, and an adhesive layer 5 on a substrate sheet 1 having releasability.例文帳に追加

離型性を有する基体シート１の上に、主材質がビニル系樹脂からなる有機高分子と金属系化合物を含有する有機無機複合体からなる剥離層２と、主材質がアクリル系樹脂および／またはビニル系樹脂からなる図柄層４と接着層５とが少なくとも順次形成される。 - 特許庁

A photomask includes a substrate, a film part provided on the principal plane of the substrate and having light transmissivity lower than light transmissivity of the substrate, a pattern provided on the film part and transferred to a transferred body, and a detection mark which is provided on the film part and suppresses the intensity of transmitted light so as to suppress a transfer to the transferred body.例文帳に追加

実施形態に係るフォトマスクは、基板と、前記基板の主面に設けられ、前記基板の光の透過率よりも低い光の透過率を有する膜部と、前記膜部に設けられ、被転写体に転写されるパターンと、前記膜部に設けられ、前記被転写体への転写が抑制されるように透過光の強度が抑制された検出マークと、を備えている。 - 特許庁

A hydraulic transfer film is formed having a printing pattern printed on a water-soluble film using an ink including a highly bright ink including a golden highly bright pigment, the golden highly bright pigment in the highly bright ink is made by covering a mica piece 10 with titan oxide 20, iron oxide in series further covering with the protecting film 40 on the iron oxide.例文帳に追加

金色高輝性顔料を含有する高輝性インキを含むインキを用いて水溶性フィルム上に印刷された印刷パターンを有する水圧転写フィルムを形成するが、高輝性インキ中の金色高輝性顔料は、マイカ片１０に酸化チタン２０、酸化鉄３０が順次被覆され、更にその上部に保護膜４０が被覆されて形成されている。 - 特許庁

To provide a metal transfer plate usable for producing a multi-layered printed wiring board which solves problems wherein large damage is given to a copper wiring pattern in a final soft etching process and inter-line insulation reliability is low since unwanted base copper layer between the copper wiring patterns can not be completely removed.例文帳に追加

最後のソフトエッチング工程では銅配線パターンに強いダメージを与え、しかも銅配線パターン間の不要となった下地銅層を完全に除去できず、線間絶縁信頼性が低かったという問題を解決できる多層プリント配線板の製造に用いることのできる金属転写板を提供する。 - 特許庁

This device is provided with a transfer belt joint recognition pattern and a joint recognition sensor.例文帳に追加

本発明によれば、転写ベルトのつなぎ目認識パターン及びつなぎ目認識センサの設置により、転写ベルトのつなぎ目を、スケール上に付着したごみ等と誤認することなく、確実に認識し、その結果に基き、フィードバック制御手段が、つなぎ目区間に対して、ダミー信号を用いることで、転写ベルトの移動速度を自己補正制御し、高精度に転写ベルトを等速駆動する。 - 特許庁

To provide manufacturing methods for a glass substrate for an electronic device and a mask blank with which no fine uneven surface defect occurs on a substrate surface or a failure rate is low, and a manufacturing method for a transfer mask free from a phase defect or a pattern defect caused by the fine uneven surface defect on the substrate surface.例文帳に追加

基板表面に微小な凸状、凹状の表面欠陥が発生しないか又は発生率の低い電子デバイス用ガラス基板及びマスクブランクスの製造方法、並びに基板表面に微小な凸状、凹状の表面欠陥が起因する位相欠陥やパターン欠陥のない転写マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a short circuit and disconnection due to large deformation of bonding wires for connecting electrodes of semiconductor chips and the conductor pattern of a printed wiring board in a semiconductor device manufacturing method, wherein the semiconductor chips are mounted face up on the printed wiring board formed with a protective insulation film by using a film-like resist, and then the plurality of semiconductor chips are collectively sealed by transfer molding.例文帳に追加

フィルム状レジストを用いて保護絶縁膜を形成したプリント配線板に半導体チップをフェースアップ実装し、トランスファモールドで前記複数の半導体チップを一括して封止する半導体装置の製造方法において、前記半導体チップの電極とプリント配線板の導体パターンを接続するボンディングワイヤの大きな変形による短絡、断線を防ぐ。 - 特許庁

To provide a transfer sheet, especially with which an overcoating layer excellent in resistance can be precisely transferred and, in addition, the desired adhesion with a pattern layer or the like formed on a peel ply can be ensured without providing an anchoring layer under the condition that at least the peel ply is provided on one side of a base material sheet.例文帳に追加

基材シートの一方の面に少なくとも剥離層が設けられている転写シートであって、特に耐性に優れるオーバーコート層が的確に転写でき、しかも剥離層上に形成される絵柄層などとの所期の密着性がアンカー層を設けることなく確保できるようにした転写シートの提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a halftone-type EUV mask produced by selecting the material of a halftone film that has no only wide selectivity (flexibility) of reflectivity and high cleaning liquid-resistance, but also high processing accuracy of etching, a halftone-type EUV mask blank, a production method of the halftone-type EUV mask and a pattern transfer method.例文帳に追加

反射率の選択性の広さ（自由度）と洗浄液耐性の高さを持つと同時に、エッチングの加工精度が高くなるハーフトーン膜の材料を選定したハーフトーン型ＥＵＶマスク、ハーフトーン型ＥＵＶマスクブランク、ハーフトーン型ＥＵＶマスクの製造方法及びパターン転写方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a positive type photoresist composition having high sensitivity and high resolving power of ≤0.2 μm in the production of a semiconductor device, giving a photoresist of a rectangular shape and less liable to cause a dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step when the composition is used as the upper layer resist of a two- layer resist system.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高感度で0.2μｍ以下の高解像力を有し、かつ矩形形状のフォトレジストを与え、また二層レジストシステムの上層レジストとして使用した場合、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが少ないポジ型フォトレジスト組成物を得る。 - 特許庁

The positive electrode member 27 and the negative electrode member 28 are electrically connected with the circuit patterns 35a and 35b of the power source adjustment substrate 31 and the copper pattern 24 of the insulation metal substrate 22, and come in surface contact with the heat sink 11 via the insulation metal substrate 22 to be coupled to the heat sink 11 in a manner capable of heat transfer.例文帳に追加

正極用電極部材２７及び負極用電極部材２８は、電源調整用基板３１の回路パターン３５ａ，３５ｂ、及び絶縁金属基板２２の銅パターン２４と電気的に接続されるとともに絶縁金属基板２２を介してヒートシンク１１に面接触して、このヒートシンク１１に熱伝達可能に結合されている。 - 特許庁

A release sheet, an adhesive layer, and a barrier layer are stacked, and a connection layer 20 comprising adhesives or the like, a deposit layer 31, and an under coat layer 32 are successively stacked on the barrier layer to form a metal layer m in a desired pattern, and an application layer is stacked on the metal layer through an adhesive layer to obtain a transfer sheet.例文帳に追加

離けいシート、粘着層、及びバリア層を積層し、その上に、粘着剤等による接続層２０、蒸着層３１、及びアンダーコート層３２を順に積層した金属層ｍを所望のパターンで形成し、その上に粘着層７０を介してアプリケーションシートを積層して転写シート。 - 特許庁

A center hole buffer area Bi is formed outside a center hole sagging forming area Ai where the sagging DA of the center hole 11G of a master substrate 11 is formed, a recessed/projected pattern P is formed outside the center hole buffer area Bi, and only a stable area is used without using an area where magnetic transfer near the sagging part of the center hole 11G becomes unstable.例文帳に追加

マスター基板１１の中心孔１１ＧのダレＤＡが形成される中心孔ダレ形成領域Ａｉの外側に中心孔バッファー領域Ｂｉを設け、中心孔バッファー領域Ｂｉの外側に凹凸パターンＰを形成するようにし、中心孔１１Ｇのダレ部近傍の磁気転写が不安定になる領域を使用せず、安定領域のみを使用するようにした。 - 特許庁

To provide a method for producing an embossed endless belt which can be produced simply and promptly at a low cost, can transfer a precise pattern surely, and has a good mold release property during the processing of an embossed sheet, the embossed endless belt produced by using the method, an embossed sheet producing apparatus having the embossed endless belt, and the embossed sheet produced by using the apparatus.例文帳に追加

簡便に、迅速に、かつ低コストで製造できるとともに、精密な模様を確実に転写でき、しかもエンボスシート加工時の離型性がよいエンボスエンドレスベルトの製造方法、この製造方法を用いて製造されたエンボスエンドレスベルト、このエンボスエンドレスベルトを備えたエンボスシート製造装置、およびこの装置を用いて製造されたエンボスシートを提供することにある。 - 特許庁

To provide a liquid droplet discharge apparatus capable of preventing an unnecessary pattern from being formed (plotted) on a work while preventing a work transfer table from being deflected, an electro-optical apparatus manufactured by using the liquid droplet discharge apparatus, a manufacturing method of the electro-optical apparatus using the liquid droplet discharge apparatus, and an electronic apparatus provided with the electro-optical apparatus.例文帳に追加

ワーク搬送テーブルの撓み変形を防止しつつ、ワーク上に不必要なパターンを形成（描画）するのを回避することができる液滴吐出装置、かかる液滴吐出装置を用いて製造される電気光学装置、かかる液滴吐出装置を用いる電気光学装置の製造方法、および、かかる電気光学装置を備える電子機器を提供すること。 - 特許庁

An electrophotographic color laser printer 2 connected to a host computer 1 is provided with a scanner unit 25 common to first and second stations, a scanner unit 26 common to third and fourth stations, a resist position detection means 30 which reads an image pattern formed on an intermediate transfer belt 29 to detect the resist position of the image of a laser beam.例文帳に追加

ホストコンピュータ１と接続された電子写真方式のカラーレーザプリンタ２において、第１及び第２のステーションに共通のスキャナユニット２５と、第３及び第４のステーションに共通のスキャナユニット２６と、中間転写ベルト２９に形成された画像パターンを読み取ってレーザビームの画像のレジスト位置を検知するレジスト位置検知手段３０を備える。 - 特許庁

To provide an inorganic toner which does not produce an irregular baking state or a white void due to bumping in a picture pattern baked on the surface of a heat-resistant solid after the toner baked, in particular, to provide an inorganic toner which has color after being baked on a decoration transfer sheet to decorate the surface of a heat-resistant solid, and to provide a method for manufacturing the toner.例文帳に追加

突沸現象による、トナー焼成後に耐熱性固体表面に焼き付けられた絵柄に焼きムラそして白ヌケを発生させることのない無機トナー、特に耐熱性固体表面に絵付けするための絵付け用転写シート上に焼成後に有色である無機トナー、及び該トナーの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the sheet 1 for transfer consisting of a water permeable mounting sheet 2, a water soluble polymeric layer 3 applied onto the mounting sheet 2 and a water insoluble polymeric layer 4 applied onto the water soluble polymeric layer 3, slits 5 for cutting off the water insoluble polymeric layer 4 into a plurality of pattern printing regions are provided from the surface of the water insoluble polymeric layer 4.例文帳に追加

透水性の台紙２と、該台紙２上に塗布された水溶性ポリマー層３と、該水溶性ポリマー３上に塗布された非水溶性ポリマー層４とからなる転写用シート１において、該非水溶性ポリマー層４の表面から前記水溶性ポリマー層４を複数の絵柄印刷用領域に区分けするように分断する切れ込み５を設けた。 - 特許庁

A printing technique wherein pixel locations that are requested to be marked with only black are identified, black is applied to the identified pixel locations, and non-black color is applied to a subset of the identified pixel locations that correspond to on-pixels of a reference pattern of non-black color pixels having an on-pixel population of at least 20% and a toner transfer efficiency of less than about 20%.例文帳に追加

黒色のみでマークされるように要求されるピクセル位置を識別し、識別されたピクセル位置に黒色を適用し、識別されたピクセル位置のうち、少なくとも２０パーセントのオン・ピクセル母集団と少なくとも約２０パーセントより少ないトナー転写効率とをもつ非黒色カラーピクセルの基準パターンのオン・ピクセルに対応するサブセットに非黒色カラーを適用する印刷技術である。 - 特許庁

The method of manufacturing the mask blank comprises the steps of causing a resist agent coming from a liquid tank storing a liquid resist agent to the opening at the end of a nozzle 22 through the nozzle 22 to touch the coated surface of a substrate having a thin film on which a transfer pattern is formed, moving the substrate and the nozzle relatively, and thus forming a resist film on the coated surface.例文帳に追加

転写パターンを形成するための薄膜を有する基板の被塗布面に、液状のレジスト剤を収容した液槽からノズル２２を通過してノズル先端開口部に到達したレジスト剤を接液させ、基板とノズルとを相対的に移動させることによって、被塗布面にレジスト剤を塗布してレジスト膜を形成する工程を含むマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

The image processor is realized by combining respective functions for scan data generation, generates scan data at a high speed by the band memory of small capacity regardless of color/monochrome by transfer using chain DMA (direct memory access) with no interposition of a CPU halfway and can constitute hardware flexible to a specification change, such as a change in the number of nozzles of a print head and in a print pattern.例文帳に追加

この画像処理装置は、スキャンデータ生成の為の各機能を組み合わせて実現し、途中ＣＰＵの介在の無いチェーンＤＭＡを用いた転送でカラー・モノクロを問わず小容量のバンドメモリでスキャンデータを高速生成すると共に、印字ヘッドのノズル数や、印字パターンの変更など仕様変更に対して柔軟なハードウェアを構成することができる。 - 特許庁

A plurality of nozzles are provided to the nozzle headers in the inlet side of the rolling roll and the descaling water is injected so that respective injecting patterns of the descaling water to the steel slab from the nozzle are parallel and the proportion of the overlapping region of the injecting pattern is the same, viewing from the transfer direction of the steel slab.例文帳に追加

圧延ロール入側のノズルヘッダーにノズルを複数個配設し、ノズルから鋼スラブに噴射されるデスケーリング水のそれぞれの噴射パターンが平行で、かつ鋼スラブの搬送方向から見て噴射パターンの重複する領域の割合が同一となるようにデスケーリング水を噴射する。 - 特許庁

In this state, the substrate 2 and resist 3 are etched together by using an etching system capable of etching the substrate 2 and resist 3 at the same time to transfer the resist pattern in (b) to the substrate 2 as shown in (c), and the substrate 2 has unevenness corresponding to the patterns of the mask 1 and is usable as a diffusion plate.例文帳に追加

この状態で、基板２とレジスト３を同時にエッチング可能なエッチング方式を使用し、基板２とレジスト３を同時にエッチングすると、（ｃ）に示すように、（ｂ）のレジストパターンが基板２に転写され、マスク１のパターンに対応した凹凸を有する基板２が得られ、これが拡散板として使用できる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL element capable of forming an organic layer having the excellent linearity of the end of a pattern on a substrate without causing a transfer defect that a part of an ink layer to be transferred and removed is left on a blanket, in a manufacturing method of an organic EL element using letterpress reversing offset printing.例文帳に追加

凸版反転オフセット印刷法を用いた有機ＥＬ素子の製造方法において、基板上のパターンの端部の直線性に優れ、また、転写除去されるべきインク層の部分がブランケット上に残留してしまうといった転写欠陥のない有機層を形成することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photomask that can decrease changes in a polarization state of exposure light induced by the mask itself and transfer a preferable fine image onto a wafer in photolithography with a 45 nm half pitch node or further advanced techniques, and to provide a method for easily manufacturing the mask and a pattern forming method using the photomask.例文帳に追加

ハーフピッチ４５ｎｍノード以降のフォトリソグラフィにおいて、マスク自身により誘引される露光光の偏光状態の変化を緩和し、良好な微細画像をウェハ上に形成するためのフォトマスク、および簡易なその製造方法、さらに、そのフォトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process by which thick platings such as bumps and wirings are produced with high precision while a resist shows high swelling resistance to a plating solution and the plating solution is prevented from leaking in between the pattern and substrate, a radiation-sensitive negative resin composition which shows sensitivity suitable for the production process and possesses excellent resolution and heat resistance, and a transfer film including the composition.例文帳に追加

レジストのメッキ液に対する膨潤が少なく、パターンと基板との界面へのメッキ液のしみ出しが抑制され、バンプあるいは配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法、この製造方法に好適な感度を示し、解像度、耐熱性などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いた転写フィルムを提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the mask blank comprises the steps of causing a resist agent coming from a liquid tank 20 storing a liquid resist agent 21 to the opening at the end of a nozzle 22 through the nozzle 22 to touch the coated surface of a substrate having a thin film on which a transfer pattern is formed, moving the substrate and the nozzle relatively, and thus forming a resist film on the coated surface.例文帳に追加

転写パターンを形成するための薄膜を有する基板の被塗布面に、液状のレジスト剤２１を収容した液槽２０からノズル２２を通過してノズル先端開口部に到達したレジスト剤を接液させ、基板とノズルとを相対的に移動させることによって、被塗布面にレジスト剤を塗布してレジスト膜を形成する工程を含むマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

Assuming that N is an integer ≥1, a pattern toner image is formed on the image carrier 2Y at the interval of 1/N of the peripheral length of the image carrier 2Y, transferred over the entire length of the transfer belt 3, and also detected by a positional deviation detection sensor 25 so as to obtain positional deviation data, then the moving average of N positional deviation data is calculated.例文帳に追加

Ｎを１以上の整数としたとき、像担持体２Ｙの周長の１／Ｎの間隔で、像担持体２Ｙ上にパターントナー像を形成し、該パターントナー像を転写ベルト３の全長に亘って転写すると共に、その各パターントナー像を位置ずれ検知センサ２５により検知して位置ずれデータを得、その位置ずれデータのＮ個の移動平均を算出する。 - 特許庁

The device production system SYS has an exposure body portion EX which exposes a substrate P to light to transfer a pattern to the substrate P; conveying units H1 and H2 for conveying the substrate P from the exposure body portion EX to a stage portion ST; and a conveying unit H3 for conveying the substrate P from the stage portion ST to a substrate housing apparatus F.例文帳に追加

デバイス製造システムＳＹＳは、パターンを基板Ｐに露光する露光本体部ＥＸと、露光本体部ＥＸからステージ部ＳＴまで基板Ｐを搬送する搬送装置Ｈ１，Ｈ２と、ステージ部ＳＴから基板収納装置Ｆまで基板Ｐを搬送する搬送装置Ｈ３とを有している。 - 特許庁

The method for manufacturing the forming die includes steps of: making the forming die (51) of a single crystal material and forming a transfer pattern (29) by etching on the surface (20A) of the forming die (51); and converting the proximity (22A) of the surface including the surface (20A) into a hardened layer (22) comprising a compound of the element constituting the single material.例文帳に追加

また、成形型（５１）を単結晶材で形成し、成形型（５１）の表面（２０Ａ）にエッチングで転写形状（２９）を形成する工程と、表面（２０Ａ）を含むその近傍（２２Ａ）を単結晶材を構成する元素の化合物からなる硬化層部（２２）にする工程とを有する成形型の製造方法とした。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing an embossed sheet which is free from adhesion of a sheet to a back-up roll in embossing for a calendering of an olefin resin, excellent in an appearance of the sheet to be obtained, further excellent in transfer of an embossed pattern and suitably used for a usage and the like from which a surface design property is required.例文帳に追加

オレフィン系樹脂のカレンダー成形法におけるエンボス加工時にバックアップロールへのシートの粘着がなく、得られるシートが外観良好で、さらにエンボス模様の転写が良好であり、表面意匠性が求められる用途等にも好適に用いられるエンボスシートの製造方法及びその製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a transfer sheet capable of beautifully transferring a toner image such as a design, a pattern, a photograph, a character or the like fixed to a releasable flocked sheet in which a short fiber layer is temporarily adhered onto a base sheet to a material to be transferred such as a cloth, a wooden panel or the like together the fiber layer by an electrophotographic copier using a toner.例文帳に追加

トナーを使用する電子写真複写機によってベースシート上に短繊維層を仮接着させた離型植毛シートに定着させた図柄、模様、写真、文字等のトナー画像を短繊維層と共に布地や木製パネル等の被転写体に美しく転写できる転写シートを提供する。 - 特許庁

To provide a repairing method for repairing flaw or damage caused to the coating film of the external wall after completion of a dwelling house, by transferring a solvent active type transfer mark previously printed in the same pattern as that of the external wall onto the external wall on which the flaw or damage is caused.例文帳に追加

住宅の建築完了後において、外壁の塗装膜に傷や損傷が発生した際に、この傷や損傷を補修する方法であって、予め外壁模様と同一の模様に印刷された溶剤活性型転写マークを、傷や損傷が発生した外壁面に転写することにより補修する方法を提供する。 - 特許庁

In this laser marking device where laser beam emitted from a laser beam source is guided onto a mask through an optical system accommodated in a shielding structure to transfer a pattern provided on the mask to a subject to be transferred, a holder 31 capable of holding a screen 35 for copying a shape of laser beam can be inserted into a correct position in the shielding structure.例文帳に追加

レーザ光源から射出されたレーザ光を所定の遮蔽構造１２内に収容された光学系を介してマスク上に導き、そのマスクに設けられたパターンを転写対象物に転写するレーザマーキング装置において、レーザ光のビーム形状を写し取るためのスクリーン３５を保持可能なホルダ３１を、前記遮蔽構造内の定位置に挿入可能とする。 - 特許庁

Specifically, the heat transfer pattern 22a is formed directed radially toward the temperature detection element 23 from a part on the printed circuit board 22, where the metal screw, nearest the temperature detection element 23, is in contact with the printed circuit board 22, and is formed to enclose toroidally the outer periphery of the temperature detecting element 23 near the temperature detection element 23.例文帳に追加

具体的に、伝熱パターン２２ａを、プリント基板２２上における、温度検出素子２３に最も近い金属ネジがプリント基板２２に接する部分から、温度検出素子２３に向かって放射状に形成し、更に、温度検出素子２３の近傍において、温度検出素子２３の外周を円環状にとり囲む形状とした。 - 特許庁