「PHOTOENGRAVING」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To suppress resist position deviation in a photoengraving process.例文帳に追加

写真製版工程におけるレジスト位置ずれを抑制する。 - 特許庁

DEVICE FOR FORMING PLATE SURFACE OF OFFSET PRINTING PLATE OR THE LIKE BY PHOTOENGRAVING例文帳に追加

オフセット印刷版等の版面を写真製版によって形成するための装置 - 特許庁

a photoengraving technique for adding shading or texture or tone to a printed image 例文帳に追加

印刷された画像に陰影、質感、濃淡を加える写真製版の技術 - 日本語WordNet

To uniformize the quality of a semiconductor wafer in photoengraving treatment equipment.例文帳に追加

写真製版処理装置において半導体ウェハの品質の均一化を図る。 - 特許庁

In the step (d), an exposure quantity in the reflection areas 2 in the photoengraving process is smaller than that in the transmission display areas 1 in the photoengraving process.例文帳に追加

工程（ｄ）において、反射表示領域２における写真製版の露光量を、透過表示領域１における写真製版の露光量よりも小さくする。 - 特許庁

One of its applications is, for example, a test optical system used for a photoengraving exposure system.例文帳に追加

その応用は、例えば写真製版露光系に使用される試験光学系である。 - 特許庁

A layer insulating film 9 is formed and a contact hole 10 is formed by the third photoengraving process.例文帳に追加

層間絶縁膜９を成膜し第３の写真製版工程でコンタクトホール１０を形成する。 - 特許庁

a dark red resinous substance derived from various trees and used in photoengraving 例文帳に追加

さまざまな木から誘導される暗い赤色の樹脂のような物質で、写真製版に用いられる - 日本語WordNet

To reduce photoengraving processes when forming a display device such as an organic EL display device.例文帳に追加

有機ＥＬ表示装置形成の際の写真製版工程を削減した表示装置を提供すること。 - 特許庁

A pixel electrode film is formed and a pixel electrode 13 is formed by using the fourth photoengraving process.例文帳に追加

画素電極膜を成膜し、第４の写真製版工程を用いて画素電極１３を形成する。 - 特許庁

A first metal film is formed on an insulated substrate, and a gate electrode is formed by the first photoengraving process.例文帳に追加

絶縁基板上に第１の金属膜を成膜し、第１の写真製版工程でゲート電極を形成する。 - 特許庁

TREATMENT EQUIPMENT FOR SEMICONDUCTOR WAFER, AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING PHOTOENGRAVING PROCESS USING THE EQUIPMENT例文帳に追加

半導体ウェハの処理装置およびその処理装置を用いた写真製版工程を有する半導体装置の製造方法 - 特許庁

In the etching process 100, a resist film is exposed/etched in a photoengraving process (S101).例文帳に追加

本実施の形態におけるエッチング工程１００は、写真製版工程により、レジスト膜の露光・エッチングが行なわれる（Ｓ１０１）。 - 特許庁

To provide a thin film transistor for which a polysilicon layer and a wiring layer are connected stably with low resistance without increasing a photoengraving process.例文帳に追加

写真製版工程を増やすことなく、ポリシリコン層と配線層とを安定して低抵抗で接続した薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁

For measuring an expensive fabric such as brocade and gold foil, or for the fields of printing and photoengraving businesses, a unique tsubo unit called sun-tsubo is used, which is defined 1 sun-tsubo as an area in 1 sun square. 例文帳に追加

錦などの高価な織物や金箔、印刷、製版では1寸四方の面積を1坪としており、区別のためこれを寸坪という。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a semiconductor device having an alignment mark for realizing overlay excellent in accuracy in a photoengraving process or the like, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

写真製版工程等における精度の良好な重ね合わせを実現するアライメントマークを備えた半導体装置及びその製造方法を得ること。 - 特許庁

A gate insulating film 3, a semiconductor active film 4a, an ohmic contact film 4b and a second metal film are formed, and a resist pattern is formed by using the second photoengraving process.例文帳に追加

ゲート絶縁膜３、半導体能動膜４a、オーミックコンタクト膜４b、第２の金属膜を成膜し、第２の写真製版を用いレジストパターンを形成する。 - 特許庁

A resist pattern 5 is formed on the interlayer insulation film 2 by photoengraving, and a substrate is etched while the resist pattern 5 is used as a mask, so as to form a trench 6 connected with the via hole 3.例文帳に追加

層間絶縁膜２上に写真製版によりレジストパターン５を形成し、レジストパターン５をマスクとしたエッチングによりビアホール３に接続するトレンチ６を形成する。 - 特許庁

To form resin structures directly, simply, highly precisely, and with a short period of time for processing, without performing photoengraving process of a prior art.例文帳に追加

従来のような写真製版を行うことなく、樹脂構造物をダイレクトに、かつ簡単に、しかも高精度に形成することができ、その際のプロセスを短時間化する。 - 特許庁

To provide a means for forming a plurality of submicron holes altogether at the interval of submicrons on an N type silicon substrate by using a normal photoengraving technique.例文帳に追加

通常の写真製版技術を用いて、Ｎ型のシリコン基板に、複数のサブミクロンの孔を一括的にサブミクロンの間隔で形成することができる手段を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a thin film transistor array substrate using low resistance wiring, with which a high display quality can be provided, within a little photoengraving processes with high yield.例文帳に追加

高表示品質が得られる低抵抗配線を用いた薄膜トランジスタアレイ基板を少ない写真製版工程で、高歩留まりで製造する方法を実現する。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material having high maximum density (Dmax) and suitability to a sensor in a plate making machine as a material for a photoengraving process, particularly for a scanner and an image setter.例文帳に追加

最大濃度（Ｄｍａｘ）が高く、かつ、写真製版用、特にスキャナー、イメージセッター用として、製版機でのセンサー適性のある熱現像感光材料を提供する。 - 特許庁

To provide a heat-developable photosensitive material useful as a medical diagnostic film and a film for photoengraving, excellent in film strength and having suitability to rapid processing.例文帳に追加

医療診断用フィルムおよび写真製版用フィルムとして有用な膜強度に優れ、かつ迅速処理適性を有する熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

A data storing section 11 stores the measurement value of overlay accuracy after photoengraving processing which has been measured by an overlay inspecting device 4, and the measurement value of overlay accuracy after etching.例文帳に追加

データ保存部１１は、重ね合わせ検査装置４によって測定された写真製版処理後の重ね合わせ精度の測定値と、エッチング後の重ね合わせ精度の測定値とを保存する。 - 特許庁

To form a small hole exceeding the limit in a photoengraving on an antireflection film in a manufacturing method of a semiconductor device which has a microscopic hole penetrating an interlayer insulating film.例文帳に追加

本発明は層間絶縁膜を貫通する微細なホールを有する半導体装置の製造方法に関し、写真製版の限界を超える小さなホールを形成することを目的とする。 - 特許庁

In the method for photoengraving an IR sensitive planographic printing plate having an image forming layer containing a siloxane compound, development is carried out with a non-silicate alkali developing solution.例文帳に追加

非シリケート系アルカリ現像処理液で現像することを特徴とする、シロキサン化合物を含有する画像形成層を有する赤外線感光性平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

By a photoengraving method, a photoresist 30 having a pattern in which the end of a gate structure 15 and the formation scheduled region of the photodiode 18 adjacent to the end are opened is formed.例文帳に追加

写真製版法によって、ゲート構造１５の端部上、及び該端部に隣接するフォトダイオード１８の形成予定領域上が開口したパターンを有するフォトレジスト３０を形成する。 - 特許庁

To provide a personal radio terminal system for conference which can reduce the time required for copying or photoengraving the data on a conference, preliminary assembly, etc., on paper and can prevent the data from becoming difficult to be seen.例文帳に追加

紙による会議打合せ等の資料のコピーや製版を行うための時間を削減可能とし、資料が見にくくなるのを防ぐことが可能な会議用パーソナル無線ターミナルシステムを提供する。 - 特許庁

To obtain a method of manufacturing a semiconductor device in which dispersion in the protruding amounts of STI in a memory region and a logic region can be reduced and a focus margin of a gate photoengraving process can be improved.例文帳に追加

メモリ領域とロジック領域でのＳＴＩの突き出し量のバラツキを低減するのと共に、ゲート写真製版のフォーカスマージンを向上し得る半導体装置の製造方法を得ることを目的とする。 - 特許庁

Accordingly, if the basic structure changes due to the photoengraving processing, the device 4 can be controlled so that the working accuracy for the target value is improved.例文帳に追加

したがって、写真製版処理によって下地の変動などが発生した場合でも、目標値に対する加工精度が向上するように重ね合わせ検査装置４を制御することが可能となる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing liquid crystal display panels which makes the height of columnar spacers in a transmission area equal to the height of columnar spacers in a reflection display area with onetime photoengraving.例文帳に追加

１回の写真製版で、透過表示領域の柱状スペーサの高さと、反射表示領域の柱状スペーサの高さとを同じにすることが可能な液晶表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The polishing apparatus may comprises means for measuring the region to be polished of the wafer being fed with slurry for each shot of photoengraving process through field observation, and means for setting the polishing conditions of the polishing roller based on the measurements.例文帳に追加

写真製版の１ショット分の研磨毎にスラリーを供給するウエハの被研磨領域をその場観察で測定する手段と測定に基づいて研磨ローラの研磨条件を設定する手段を設けても良い。 - 特許庁

The transmissive hard protection layer 70 is formed by treating a transparent photosensitive hard coating material applied on the top surface of the photosensor chip 50 by a photoengraving process and covers the top of the sensing area 54.例文帳に追加

その透光性硬質保護層７０は、フォトセンサチップ５０の頂面に塗布された透明な感光性硬質塗布材を写真製版工程によって処理することから形成され、感知エリア５４上を被覆している。 - 特許庁

To provide a semiconductor device wherein connection between an air gap and a via hole of an upper layer interconnection layer can be prevented when there occurs an alignment deviation between photo masks in photoengraving, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

写真製版におけるフォトマスクの重ね合わせズレが生じた場合にもエアギャップと上層配線層のビアホールとが接続することを防止できる半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Thus, a photoengraving process required for forming a contact hole 8b on the guard resistor side of a gate terminal part or contact hole 9a of the guard resistor part is unnecessitated and the number of processes can be reduced.例文帳に追加

これにより、ゲート端子部のガード抵抗７側のコンタクトホール８ｂやガード抵抗部のコンタクトホール９を形成する際に必要であった写真製版工程が不要となり、従来に比べ工程数を削減できる。 - 特許庁

Then the same mask for photoengraving with the n-type impurity injection stage is used to selectively inject fluorine into the n-type well 13 to a concentration of 1×10^15/cm^2 to sufficiently lower a threshold.例文帳に追加

その後、ｎ型ウェル１３へ、ｎ型不純物注入工程と同一の写真製版用マスクを用いて、フッ素を、十分に閾値を下げるために１×１０^15／ｃｍ^2以上の濃度で選択的に注入する。 - 特許庁

To provide a heat-developable image-recording material for a scanner and an image setter, suitable particularly for photoengraving, which are free of surface swelling and crackling and superior in adhesiveness of an image to the base.例文帳に追加

特に写真製版に適したスキャナー、イメージセッター用の熱現像画像記録材料であって、画像記録材料表面に「膨れ」や「ひび割れ」がなく、画像と支持体の接着性に優れた熱現像画像記録材料を提供すること。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material having high image density (Dmax) and nearly free of the increase of line width in development at high temperature and high humidity as a heat developable photosensitive material particularly for a photoengraving and particularly for a scanner and an image setter.例文帳に追加

特に写真製版用、特にスキャナー、イメージセッター用熱現像感光材料において、高い画像濃度（Ｄｍａｘ）を有し、高温高湿下の現像時の線幅の太りが小さい熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

A calculator 12 subtracts the measurement value of the overlay accuracy after etching from the measurement value of the overlay accuracy after the photoengraving processing which has been stored by the section 11 to calculate the correcting amount of the device 4.例文帳に追加

演算部１２は、データ保存部１１によって保存された写真製版処理後の重ね合わせ精度の測定値から、エッチング後の重ね合わせ精度の測定値を減算して重ね合わせ検査装置４の補正量を算出する。 - 特許庁

Furthermore, the method includes (c) a step in which photosensitive resin films are formed on the level-difference resins 64, 68 and (d) a step in which the photosensitive resin film is subjected to a photoengraving process to form columnar spacers 67, 69 on the level-difference resin 64, 68.例文帳に追加

そして、（ｃ）段差樹脂６４，６８上に感光性樹脂膜を形成する工程と、（ｄ）感光性樹脂膜を写真製版して、段差樹脂６４，６８上に柱状スペーサ６７，６９を形成する工程とを備える。 - 特許庁

When creating a mask used for a photoengraving process (Fig(1)), a peripheral circuit area (1) effective for high-speed operation or low consumption is intensively formed so that a pattern becomes coarse (2A<B), distinguishably from a memory area (2) wherein the pattern is made fine (2A≥B).例文帳に追加

図１（イ）：写真製版に使用するマスクの作成時に、高速動作や低消費に効く周辺回路部領域（１）を意図的にパターンが疎（２Ａ＜Ｂ）となるように形成し、パターンを密（２Ａ≧Ｂ）にするメモリ部領域（２）と区別する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device allowing for preventing an unevenness of resist coating and improving a focus margin in a photoengraving process, in a process of manufacturing the semiconductor device having a field plate structure and a RESURF formation structure; and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、フィールドプレート構造とリサーフ形成構造とを有する半導体装置の製造プロセスにおいて、レジスト塗布ムラ発生を防止し、かつ写真製版時のフォーカスマージン向上を図ることができる半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent occurrence of variations of property of a Gate-Overlapped LDD (GOLD) structure caused by generation of asymmetry of left and right LDD regions resulting from overlapping accuracy, in a photoengraving process at the time of gate electrode formation, in the manufacturing method of the GOLD structure for improving reliability.例文帳に追加

信頼性向上のためのGate-Overlapped LDD(GOLD)構造の製造方法において、ゲート電極形成時の写真製版工程で、重ね合わせ精度に起因して左右のLDD領域に非対称性が発生することによって、特性のばらつきが発生することを抑制する。 - 特許庁

An ultraviolet ray or an electron beam or the like are used as the active energy beam and radiated onto the latent image carrier in the optional pattern by photoengraving technique or beam scanning or the like, so that the areas 1A and 1B having the different characteristics from those of the periphery are irreversibly formed.例文帳に追加

また、活性エネルギー線としては、紫外線や電子線等が用いられ、写真製版技術やビーム走査等により任意のパターンで潜像担持体上に照射され、上記の周囲と特性の異なる領域１Ａ，１Ｂが不可逆に形成される。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its manufacturing method capable of enlarging the margin of a photoengraving process markedly, restraining "poor openings" from occurring by reducing a micro loading effect, ensuring a "short" process tolerance easily, and reducing a contact resistance.例文帳に追加

写真製版プロセスのマージンを大幅に拡大でき、かつマイクロローディング効果を低減することによって「開口不良」を抑制できるとともに「ショート」のプロセス裕度を確保しやすくし、かつコンタクト抵抗を低減できる半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁