「Polishing machines」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a game bank system capable of winding a polishing belt 56 without causing shortage trouble of game balls used in respective game machines.例文帳に追加

各遊技機で用いる遊技球が不足する事故を起させることなく研磨ベルト５６の巻き取りを行うことができる遊技島システムを提供する。 - 特許庁

This aqueous dispersion for chemically polishing machines, especially for chemically polishing copper machines, comprises (A) a compound selected from the group consisting heterogeneous ring-having compounds, preferably quinaldinic acid, benzotriazole, and benzoimidazole, (B) a surfactant, preferably a nonionic surfactant, having a triple bond, and (C) an oxidizing agent.例文帳に追加

（Ａ）複素環を有する化合物、好ましくは、キナルジン酸、ベンゾトリアゾール、およびベンゾイミダゾールの群から選択された化合物、（Ｂ）三重結合を有する界面活性剤、好ましくは非イオン系界面活性剤、および（Ｃ）酸化剤を含有する化学機械研磨用、特に銅の化学機械研磨用水系分散体。 - 特許庁

For producing Japanese liquor ginjoshu (high-quality sake brewed at low temperatures from rice grains milled to 60 % weight or less) which requires rice polishing at such high accuracy as shin seimai buai (true rice-polishing ratio), computer-controlled rice-milling machines are sometimes used nowadays. 例文帳に追加

真精米歩合など高い精度の精米が必要とされる日本酒吟醸酒の誕生の醸造などのためには、今日ではコンピュータ制御の精米機が使われることもある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a suction pad which sucks and holds an article to be polished to prevent shifting of the article out of a polisher surface plate during polishing, when polishing substrates, lenses, liquid crystal glasses or the like used in precision machines.例文帳に追加

精密機器に用いられる基盤やレンズ、液晶ガラス等における研磨加工を行う際に、被研磨物を吸着保持し、研磨加工中の研磨機定盤からのズレが発生しにくい吸着パッドを提供すること。 - 特許庁

To dispense with manual carrying work of tokens from an installation island to a token polishing device by dispensing with a dedicated token polishing device separately from the installation island where a plurality of token game machines are installed.例文帳に追加

複数台のメダル遊技機を設置した設置島とは別個に専用のメダル研磨装置を設ける必要をなくし、設置島からメダル研磨装置への人手によるメダルの運搬作業をなくすこと。 - 特許庁

The tandem type rice polishing apparatus 10 is a three machine- tandem type one comprising a first machine 12 to a third machine 16, which are respectively rice-polishing machines and each is provided with an operation board 42.例文帳に追加

連座式精米装置１０は各々精米機である一号機１２〜三号機１６までの三台連座式とされており、各精米機は操作盤４２を備えている。 - 特許庁

To provide an aqueous dispersion that can attain a sufficient polishing speed and is useful for polishing chemical machines to be used in the production of semi-conductor devices without scratch and provide a method for producing semi-conductor devices by polishing the membranes to be processed with this aqueous dispersion.例文帳に追加

十分な研磨速度が得られ、且つ被研磨面に傷が付くことがない半導体装置の製造に用いる化学機械研磨用水系分散体、及びこの水系分散体によって被加工膜を研磨し、半導体装置を製造する方法を提供する。 - 特許庁

The game machine island has a plurality of game machines arranged in parallel, a horizontal transfer device provided with a failure prevention detector and installed on the game machines, a game medium storage/transfer device arranged in the lower portion of the game machines and a polishing and transfer device to circulate the game mediums between the horizontal transfer device and the game medium storage/transfer device.例文帳に追加

並列に配設された複数の遊技機と、故障予防検出装置を設け、前記遊技機上に架設された水平搬送装置と、前記遊技機の下部に配設された遊技媒体貯溜・搬送装置と、前記水平搬送装置と遊技媒体貯溜・搬送装置との間で遊技媒体を循環させる研磨搬送装置とを備えたものである。 - 特許庁

A ball-polishing device and a lifting and transferring device 14 are intensively arranged at location lower than a base plate 10, and a supply tank 2 is disposed above pachinko game machines 1.例文帳に追加

玉研磨装置１３および揚送装置１４を台板１０よりも下方位置に集約的に設け、前記補給タンク２はパチンコ遊技機１よりも上方に設ける。 - 特許庁

In a Pachinko parlor, a game medium lifting device 1 is installed for lifting game medium ejected from a plurality of Pachinko machines while holding these balls between the conveyer belt and a polishing belt.例文帳に追加

パチンコ遊技場では、複数のパチンコ機から排出された遊技球を搬送ベルトと研磨ベルトとの間に挟持して揚送する遊技球揚送装置１が設置されている。 - 特許庁

The balls within the second island tank 123 to which the balls are gathered from the first island tank 115 and the shot balls are lifted onto the upper part of a polishing lift while being polished and then, supplied to the individual pachinko game machines.例文帳に追加

第１島タンク１１５からの玉と打込み玉とが合流された第２島タンク１２３内の玉は研摩リフト上方にリフトされ、かつ研摩された後、各弾球遊技機に供給される。 - 特許庁

To provide a coated carrier exposed to especially low wear in the case of use in lapping, grinding and polishing machines and for which the coating is excellently stuck in the coated carrier.例文帳に追加

被覆されたキャリアにおいて、ラッピング装置、ポリシング装置及び研削装置において使用する場合に特に低い摩耗にさらされ、かつ前記被覆は良好に付着される、被覆されたキャリアを提供すること - 特許庁

The reason why it is difficult to find the accurate numbers is that the rice-polishing ratio can be infinitely subdivided under the current circumstance where simple rice-milling machines are installed in some homes and some people eat brown rice without polishing and others eat rice after thirty percent threshing, half threshing or seventy percent threshing, and that after all the boundary of 'polished rice' depends on the sense of the consumer. 例文帳に追加

正確な数値を出すのが難しい理由は、いまや簡単な精米機が家庭でも所有され、玄米のままで食べる人、三分搗き（づき/つき）、五分搗き、七分搗きで食べる人など精米歩合は無限に細かくすることができ、なおかつ、どこから先を「白米」と考えて食べているかは結局、消費者本人の感覚によっているからである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The game bank system winds the polishing belt (S52) only when a circulation amount of game balls circulated by a game ball circulating device is sufficient enough to cause no shortage trouble of game balls in the respective game machines even if the polishing belt is wound (S50: YES).例文帳に追加

この遊技島システムでは、揚送装置で揚送した遊技球の揚送量が、研磨ベルトの巻き取りを行っても、遊技機で遊技球の不足が起きないだけの量があるとき（Ｓ５０：ＹＥＳ）にのみ研磨ベルトの巻き取りを行っているので（Ｓ５２）、研磨ベルトの巻き取りによって、遊技機での遊技に支障をきたすことがない。 - 特許庁

This lapping method comprises a step of preparing a lapping device consisting of two giving elliptic vibration thereto, a step of arranging the object to be polished on the two lapping machines via abrasive grains, and a step of polishing the object to be polished on both lapping machines while rotating it at least by operating the ultrasonic vibration imparting devices for giving the elliptic vibration to the lapping machines.例文帳に追加

それぞれ楕円振動を与えることのできる超音波振動付与装置を備えた二つの互いに平行に配置した長尺状ラップ盤からなるラップ装置を用意する工程、研磨対象物を二つのラップ盤の上に砥粒を介して配置する工程、そして上記の超音波振動付与装置を作動させてラップ盤に楕円振動を付与することにより、上記の研磨対象物を、少なくとも自転をさせながら両ラップ盤上で研磨する工程からなるラップ方法。 - 特許庁

Although the technique of ginjoshu seemed to be able to develop rapidly by the invention of vertical-type rice-milling machines in 1930, it could not be fully developed for almost 30 years, damaged by the regulation of the rice-polishing ratio which was under 65 percent in the Showa 13 brewing year (1938 to 1939). 例文帳に追加

昭和5年（1930年）の縦型精米機の登場によって、一時は飛躍的な発展の可能性がかいまみえた日本酒吟醸酒の技術に関しても、昭和13酒造年度（1938年-1939年）から精米歩合が65%以下に規制されて出鼻をくじかれ、本格的な発展にはなお三十年近い歳月を待つことになった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The collimator lens 4 is adhered to and fixed on the V-grooved substrate 5, then collective processing is performed into a proper length by grinding and polishing machines such as a grinder and rapping machine in regard to the processing of the collimator lens 4 and the V-grooved substrate 5.例文帳に追加

このコリメータレンズ４とＶ溝基板５の加工は、コリメータレンズ４をＶ溝基板５に接着固定した後、グラインダとラッピングマシンなどの研削、研磨加工機等を用いて適切な長さに一括加工することにより行う。 - 特許庁

A facility for a bank of gaming machines has the polisher for polishing an out-balls discharged from the gaming machine, a ball flow passage for dropping out-balls from the upstream of the gaming machine to the downstream of the polisher, and a plurality of shaft portions entering the ball flow passage and stopping the out-balls.例文帳に追加

遊技機島設備は、遊技機から排出されるアウト球を研磨する研磨装置と、遊技機側の上流から研磨装置側の下流にアウト球を流下させる球流下路と、球流下路内に進入することでアウト球を停留させる複数の軸状部とを有する。 - 特許庁

With continuity of the polishing, the relative angle between the lens W1 and the tool 2 is changed so that the turning angle of the horizontal turning member 9 and the position of the pin are measured by an angle measuring device 22 and length measuring machines 20 and 21, and the relative angle is calculated from the outputs by an CPU(central processing unit) 25 and displayed on a relative angle display 26.例文帳に追加

研磨を継続するとレンズＷ_1 と工具２の間の相対角度が変化するため、横旋回部材９の旋回角度およびカンザシ位置を角度測定器２２、測長器２０、２１によって計測し、その出力からＣＰＵ２５で上記相対角度を演算し、相対角度表示器２６で表示する。 - 特許庁

In the carrier suitable for receiving one or more semiconductor wafers for the machining thereof in lapping, grinding or polishing machines, comprising a core composed of a first material, which has a high stiffness, the core being completely or partly coated with a second material, and also at least one cutout for receiving a semiconductor wafer, the second material is a thermoset polyurethane elastomer having a hardness of 20-90 according to Shore A.例文帳に追加

ラッピング装置、研削装置又はポリシング装置中で半導体ウェハの加工のために１つ又は複数の半導体ウェハを収容するのに適した、高い剛性を有する第１の材料からなるコアを有し、前記コアは完全に又は部分的に第２の材料で被覆され、かつ半導体を収容するための少なくとも１つのカットアウト部を有するキャリアにおいて、前記第２の材料がショアＡによる２０〜９０の硬度を有する熱硬化性ポリウレタン−エラストマーである、キャリア。 - 特許庁