「RINSING PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

This cleaning method includes a process 10 for oxidizing the semiconductor substrate, a process 11 for performing the oxidation-reduction of the oxidized semiconductor substrate, a process 12 for oxidizing the semiconductor substrate which is subjected to oxidation-reduction, a process 13 for reducing the oxidized semiconductor substrate, a process 14 for rinsing the reduced semiconductor substrate, and a process 15 for oxidizing the rinsed semiconductor substrate again.例文帳に追加

半導体基板を酸化する工程１０と、酸化した半導体基板を酸化還元する工程１１と、酸化還元した半導体基板を酸化する工程１２と、酸化した半導体基板を還元する工程１３と、還元した半導体基板をリンスする工程１４と、リンスした半導体基板を再度酸化する工程１５とを含む。 - 特許庁

In the clean shower rinsing process, a spinning tub 13 is slowly rotated while a water feed electromagnetic valve 27 is opened and water is fed from a city water feed passage 26.例文帳に追加

清潔シャワーすすぎでは、給水電磁弁２７を開き水道給水路２６から給水を行ないながら、洗濯槽１３をゆっくり回転させる。 - 特許庁

The automatic charge is performed in a final rinsing process, and the putting in of the metal ions and the finishing agent are respectively arbitrary selection matters.例文帳に追加

自動投入が実行されるのは最終すすぎ工程であり、また金属イオンの投入と仕上剤の投入はいずれも任意選択事項である。 - 特許庁

To provide a developing method for suppressing the occurrence of a precipitation-induced defect in a developing process, changes in a CD or dissolution of a resist pattern caused by a rinsing liquid.例文帳に追加

現像処理における析出系欠陥の発生、ＣＤ変動、リンス液によるレジストパターンの溶解を抑制する現像処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a drum type washing machine reducing starting failure due to bubbles in an intermediate spin-drying of a rinsing process by preventing a problem that a cleaning ratio is reduced by the bubbles in a washing process.例文帳に追加

洗濯工程において、泡により洗浄率が低下するという問題を防ぎ、すすぎ工程の中間脱水時の泡による起動不良状態を少なくするドラム式洗濯機を提供する。 - 特許庁

A control device sets times of washing, rinsing, and dewatering processes according to the designated time, a waiting process temporarily stopping the operation is provided, and the control device sets the time of the waiting process.例文帳に追加

指定された時間に応じて、制御装置では、洗い、すすぎ、脱水工程の時間を設定するとともに、運転を一時停止させる待機工程を設け、この待機工程の時間も設定する。 - 特許庁

If the concentration is 1 ppb or higher, the ultrapure water is filtered with an ion filter 62 comprising an ion exchange group that adsorbs cation, and the filtered ultrapure water is fed to the water rinsing process as an ultrapure water to be used for water rinsing.例文帳に追加

一方、濃度の値が１ｐｐｂ以上の場合には、カチオンを吸着するイオン交換基を有するイオンフィルタ６２で超純水がろ過され、ろ過後の超純水が、水洗リンスに用いる超純水として水洗リンス工程に送られる。 - 特許庁

The washing and rinsing method includes a washing process which makes goods adhered with a soiled material contact with a hydrocarbon-based solvent containing an aromatic hydrocarbon, and a rinsing process which makes it contact with a fluorine containing ether, wherein a compound of a fluorine containing ether is represented by Formula 1: R^1-O-R^2.例文帳に追加

汚染物質が付着した物品を、芳香族炭化水素を含有する炭化水素系溶剤に接触させる洗浄工程と、含フッ素エーテルに接触させるすすぎ工程を有する物品の洗浄すすぎ方法であって、含フッ素エーテルが式１で表される化合物であることを特徴とする物品の洗浄すすぎ方法。 - 特許庁

The washing system for this washing machine is constitute of a first rinsing process (step S103) in which dehydrating motion (steps S104) and water feeding motion (step S105) are alternately executed and a second rinsing process (step S108) in which water feeding motion (step S111) and other motions are executed when the revolution of a spinning tub 12 reaches a prescribed number of revolution.例文帳に追加

脱水動作（ステップＳ１０４）と給水動作（ステップＳ１０５）とを交互に行うような第１の濯ぎ行程（ステップＳ１０３）、洗濯兼脱水槽１２が所定回転数に達した時点で給水動作（ステップＳ１１１）実行したり、その他の動作を実行する第２の濯ぎ行程（ステップＳ１０８）からシステム構成する。 - 特許庁

To provide an organic developing process method and an organic developing process device capable of stabilizing a fine line width in a circuit pattern and improving throughput without using a rinsing liquid and without being influenced by a time difference in an organic developing process.例文帳に追加

リンス液を用いずに、かつ有機現像処理の時間差の影響を受けずに回路パターンの微細線幅の安定化及びスループットの向上を図れるようにした有機現像処理方法及び有機現像処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a dishwasher/dryer capable of safely and efficiently washing and drying dishes by generating cations and anions in a drying process and generating ozone in a washing process or a rinsing process.例文帳に追加

乾燥工程では正イオン及び負イオンを発生させ、洗浄工程又はすすぎ工程ではオゾンを発生させることにより、安全かつ効率的に食器類を洗浄して乾燥させることができる食器洗い乾燥機を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a drying method capable of continuously performing a cleaning/rinsing process and a drying process, greatly reducing the amount of usage of fluid for drying, and drying both the surfaces of an object to be dried by one drying process.例文帳に追加

洗浄・リンス工程及び乾燥工程を連続して行うことができ、また、乾燥用流体の使用量を大幅に低減することができ、さらに、１回の乾燥工程で被処理物の両面を乾燥させることのできる乾燥方法を提供する。 - 特許庁

In a washing or rinsing process, the output of a water gauge at the time of starting these processes is stored in advance and after then, the output is compared with the level of the water gauge at each time of the progress of the process to obtain a water level difference.例文帳に追加

洗浄又はすすぎ工程中では、これらの工程を開始した時点での水位計の出力を記憶しておき、その後、工程の進行の各時点での水位計のレベルと比較して水位差を求める。 - 特許庁

A rinsing process with a chelate aqueous solution is prepared after an HPM treating process is carried out, so that the speed of removing heavy metal particles from the surface of the substrate is accelerated by the metal sealing mechanism of a chelating agent contained in the chelate aqueous solution.例文帳に追加

ＨＰＭ処理工程の後に、キレート水によるリンス工程を設けることにより、キレート水に含まれるキレート剤の金属封鎖機構によって基板表面からの重金属の除去速度を速める。 - 特許庁

At the end of the washing process or a part or all of one rinsing process, the water is discharged to a level lower than the first water level, then the water is supplied supplementarily for the supplementary water supply time and then the water is discharged.例文帳に追加

洗浄工程又は一のすすぎ工程の一部又は全部の工程の終了時に、第１の水位より低い水位まで排水した後、補足給水時間だけ補足給水を行った後に排水する。 - 特許庁

Furthermore, a step for rinsing treatment of the sorbic acid obtained by solid-liquid separation with an aqueous solution containing the sorbic acid and produced in a purifying process of the sorbic acid after the solid-liquid separation.例文帳に追加

さらに、固液分離して得られたソルビン酸を該固液分離後のソルビン酸精製プロセスで生じるソルビン酸含有水溶液でリンス処理する工程を含んでもよい。 - 特許庁

By this setup, the rinsing process performed after an HPM and APM treating processes can be carried out in a shorter time than a usual cleaning method, so that the consumption of the DIW can be restrained.例文帳に追加

これにより、ＨＰＭおよびＡＰＭ処理後のリンス工程を従来の洗浄方法より早めることができて、ＤＩＷの消費を押えることができる。 - 特許庁

In the rinsing process, washing water is returned into the washing tub 1 through the washing water return channel 50, and foam is guided to a prescribed position other than the washing tub 1 through the foam channel 60.例文帳に追加

一方、すすぎ工程では、洗浄水還元流路５０は、洗浄水を洗濯槽１へ戻し、泡流路６０は泡を洗濯槽１ではない所定の位置へ導く。 - 特許庁

The rinsing composition contains respective constituents of (a), (b), (c) and (d), and is constituted so as to be used for rinse applied on the surface of the silicon wafer after the grinding process.例文帳に追加

リンス用組成物には、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）の各成分が含有され、前記研磨工程後のシリコンウエハ表面に施されるリンスに用いられるように構成されている。 - 特許庁

To reduce the amount of water to be used in a washing and rinsing processes in a washing/drying machine which has the process for drying washing by blowing hot air into an inner tub.例文帳に追加

内槽内に温風を送風して洗濯物を乾燥させる行程を有する洗濯乾燥機において、洗濯行程やすすぎ行程で使用する水量を低減する。 - 特許庁

Rinse liquid adhered on the substrate surface Wf is substituted by the liquid mixture by supplying a liquid mixture (IPA+DIW) to the substrate surface Wf after a rinsing process.例文帳に追加

リンス処理後に基板表面Ｗｆに混合液（ＩＰＡ＋ＤＩＷ）を供給して基板表面Ｗｆに付着しているリンス液を混合液に置換する。 - 特許庁

After this process, a cleaning liquid supply nozzle 41 travels above the main surface, and supplies a rinsing liquid which is the cleaning liquid to the main surface of the substrate W.例文帳に追加

その後、洗浄液供給ノズル４１が基板Ｗの主面上方を通過移動しつつ、基板Ｗの主面に洗浄液としてリンス液を供給する。 - 特許庁

To provide a wafer cleaning system and a wafer cleaning method which is low in contamination on a wafer surface, and produces an oxidizer in pure water in a process of rinsing therewith.例文帳に追加

ウェハ表面に対して低汚染で、水洗い工程で使用する純水中に酸化剤を生成するウェハ洗浄システムおよびウェハ洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To rinse by water at a temperature equal to or higher than one suited for rising throughout a rinsing process and prevent an increase in power consumption and the size of equipment.例文帳に追加

すすぎ工程全体に渡ってすすぎに適した温度以上のすすぎ水ですすぎを実行することができ、しかも、電力の浪費や装置の大型化などを防止する。 - 特許庁

To provide a detergent composition excellent in detergency to fine particles sticking on the surface of a material to be washed and in rinsability in a water-rinsing process after washing.例文帳に追加

被洗浄物表面に付着している微粒子に対する洗浄性、かつ、洗浄後の水リンス工程におけるリンス性に優れた洗浄剤組成物を提供する。 - 特許庁

When at least one individual process constituting the laundry washing processes is performed, the control part 690 makes the metal ions be eluted from the ion elution unit 100 and added to water in a final individual process (rinsing process or drying process) requiring the water among the individual processes.例文帳に追加

制御部６９０は、洗濯物の洗濯工程を構成する少なくとも１個の個別工程が実行されるときに、その個別工程のうち、水を必要とする最終の個別工程（すすぎ工程または乾燥工程）にて、イオン溶出ユニット１００から金属イオンを溶出させて水に添加させる。 - 特許庁

To provide a clean-up device contrived to achieve desired cleaning without the occurrence of recontamination in a cleaning process step and a rinsing process step even if ordinary detergents are not substantially used for devices, such as washing machines and dish washing machines for performing rinsing after cleaning of objects to be cleaned.例文帳に追加

被洗浄物を洗浄した後、すすぎを行うための洗濯機や食器類洗浄機などの装置において、通常の洗剤を実質的に用いないにもかかわらず、洗浄工程およびすすぎ工程において再汚染を生ずることなく、所期の洗浄が達成されるように工夫した清浄化装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

This washing apparatus is provided with a first washing tank 1S for washing using a detergent containing an anionic or non-ionic surfactant, a second washing tank 2S for removing the surfactant using alkaline electrolytic water, and rinsing tanks 3S, 4S, 5S for performing rinsing process using pure water.例文帳に追加

アニオン系又は非イオン系の界面活性剤を含む洗浄剤を用いて洗浄を行う第一の洗浄槽１Ｓと、アルカリ性電解水を用いて界面活性剤を除去することができる第二の洗浄槽２Ｓと、純水を用いてリンス工程を行うリンス槽３Ｓ，４Ｓ，５Ｓを設ける。 - 特許庁

When a soft washing course is set in the drum type washing machine, washing and rinsing are executed in the washing and rinsing processes with the axis of rotation of the rotary drum in the inclined state, and centrifugal dewatering is executed in the dewatering process with the axis of rotation of the rotary drum in the horizontal state.例文帳に追加

ドラム式洗濯機において、ソフト洗いコースが設定されたときには、洗いおよび濯ぎ工程においては回転ドラムの回転軸心が傾斜状態で実行し、脱水工程においては、回転ドラムの回転軸心が水平状態で遠心脱水を実行する。 - 特許庁

Based on the above fact, a dicarboxylic acid obtained by a production method comprising a fermentation process is subjected to a refining process comprising rinsing with water and/or a crystallization step to bring the ammonia content of the dicarboxylic acid to 4,000 ppm or less.例文帳に追加

したがって、発酵法の工程を含む製造方法により得られたジカルボン酸を、水でのリンス及び／又は晶析工程を含む精製をすることにより、該ジカルボン酸中のアンモニア含有量を４０００ｐｐｍ以下にする。 - 特許庁

A rinsing process with a weak alkaline solution is provided after an APM treating process is carried out, so that an electrostatic force acting between the surface of a substrate and particles can be made minus by controlling, and the particles are prevented from sticking again to the surface of the substrate.例文帳に追加

ＡＰＭ処理工程の後に、弱アルカリ性溶液によるリンス工程を設けることにより、基板表面とパーティクル間に働く静電気力をマイナス側に制御して、基板表面へのパーティクルの再付着を防止する。 - 特許庁

The rinsing process with a weak alkaline solution is provided after an APM treating process, whereby an electrostatic force acting between the surface of a substrate and particles can be made minus by controlling, and the particles are prevented from sticking again to the surface of the substrate.例文帳に追加

また、ＡＰＭ処理工程の後に、弱アルカリ性溶液によるリンス工程を設けることにより、基板表面とパーティクル間に働く静電気力をマイナス側に制御して、基板表面へのパーティクルの再付着を防止する。 - 特許庁

According to an operation start instruction by the operation of an operation start instructing means provided in an operating means 12 by a user, washing process, rinsing process and drying process are successively executed while controlling the temperature by the heater 15 on the basis of the temperature information obtained through the temperature sensor 17.例文帳に追加

操作手段12に設けてある運転開始指令手段を使用者が操作することによる運転開始指令に伴い、温度センサ17を介して得られる温度情報に基づきヒータ15による温度制御を行ないながら、洗浄行程、すすぎ行程、乾燥行程を順次実行する。 - 特許庁

The manufacturing method of the light-emitting layer for the inorganic electroluminescence includes a process of film-forming ZnS:Cu, obtained by adding Cu of 1.0 atom% or more to ZnS on a substrate, a process of making the Cu component as chloride not contained in ZnS crystal grain, and a process of removing the chloride through rinsing.例文帳に追加

基体上にＺｎＳへ１．０ａｔｏｍｉｃ％以上のＣｕが添加されたＺｎＳ：Ｃｕを成膜する工程、該ＺｎＳ結晶粒に含有されないＣｕ成分を塩化物とする工程、該塩化物を水洗にて除去する工程、を有することを特徴とする無機エレクトロルミネッセンス用発光層の製造方法。 - 特許庁

The processing apparatus performing at least a development process and a rinsing process in this order to process a planographic printing plate, is equipped with a pair of rollers to introduce a planographic printing original plate into a developing process tank while immersing the plate in a developing process solution, wherein the developing solution surface is kept at ≤1 cm above the nip point with respect to the pair of rollers.例文帳に追加

少なくとも現像プロセス、水洗プロセスを順に有し、平版印刷原版を処理する処理装置において、現像処理液に浸漬させながら平版印刷原板を現像処理槽に導入する一対のローラを設けた平版印刷版処理装置において、前記一対のローラに対する現像液面をニップ点上方１ｃｍ以下の範囲に維持するようにした。 - 特許庁

According to the method, the washing process is simplified, moreover, the length of the device can be shortened and the amount of pure water used for final rinsing with pure water can be reduced.例文帳に追加

この方法によれば、洗浄工程が簡略化され、装置長さも短くでき、かつ、最終的な純水による水洗に用いられる純水の量も低減することができる。 - 特許庁

In a rinsing process b, the hydrocarbon-based solvent remaining on the washing object A is washed and removed by a detergent C having the fluorine-based solvent as a principal component stored in a washing tank 3.例文帳に追加

すすぎ工程ｂにおいて、被洗浄物Ａに残着する炭化水素系溶剤を、洗浄槽３に貯液したフッ素系溶剤を基本とする洗浄剤Ｃで洗浄除去する。 - 特許庁

To obtain a detergent composition for a laundry, exhibiting a sufficient bleaching performance and having a good rinsing property in a cleaning process in a continuous washing machine using hydrogen peroxide.例文帳に追加

過酸化水素を用いる連続洗濯機における洗浄工程において、充分な漂白性能を発現し且つ、すすぎ性も良好なランドリー用洗浄剤組成物の提供。 - 特許庁

(2) The developing method of (1) further includes the process wherein the wastewater which has undergone the adsorbing treatment in the activated carbon treatment tank is charged again to the developing section and rinsing section of the automatic developing device.例文帳に追加

（２）活性炭処理槽で吸着処理した排水を自動現像装置の現像部および水洗部に再投入することを特徴とする上記（１）に記載の現像方法。 - 特許庁

To cause no water leakage when supplying water in a rinsing process even if an escape hole part for allowing air in an outer tub to escape is blocked with foam in a drum type washing machine.例文帳に追加

ドラム式洗濯機において、外槽内の空気を逃がすための逃がし孔部が泡によって塞がれても、すすぎ行程での給水時に水漏れが生じないようにすること。 - 特許庁

After ion implantation by forming a resist mask 14, the resist mask 14 is removed and the surface of a semiconductor wafer 2 is subjected to a cleaning process including at least pure water rinsing.例文帳に追加

レジストマスク１４を形成してイオン注入を行なった後、レジストマスク１４を除去して半導体ウェハ２表面に対して少なくとも純水リンスを含む洗浄処理を行なう。 - 特許庁

To provide a drum type washing machine capable of shortening the operation time of a rinsing process and preventing a sudden increase in a voltage of a driving device rotatingly driving a rotary drum.例文帳に追加

すすぎ工程の運転時間を短くすることができ、かつ、回転ドラムを回転駆動する駆動装置の電圧の跳ね上がりを防ぐことができるドラム式洗濯機を提供する。 - 特許庁

To provide a submerged particle counting technique for precisely counting particulates contained in pure water, which is used in the manufacturing process of the rinsing, or the like, of a semiconductor or a magnetic disc.例文帳に追加

半導体や磁気ディスクの洗浄等の製造工程において使用される純水中に含まれる微粒子を高精度に計数する液中パーティクルカウント技術を提供する。 - 特許庁

To provided a washing machine without damaging a wash and capable of reducing time required for a washing process or a rinsing process and obtaining an appropriate washing effect by promptly supplying water at a proper water level according to an amount of the wash.例文帳に追加

洗濯物を傷めることなく、洗濯物の量に応じた適正水位に速やかに給水して洗い工程若しくはすすぎ工程における所要時間を短縮するとともに、適度な洗濯効果を得ることのできる洗濯機を提供する。 - 特許庁

To provide an easy maintainable washing and drying machine capable of submerging a blower fan in washing water in the washing process or in the rinsing process, and automatically and actively washing the blower fan and each part of a circulation channel.例文帳に追加

送風ファンを洗い工程またはすすぎ工程の洗濯水中に水没させるとともに、送風ファン及び前記循環経路の各部を自動的かつ積極的に洗浄することが可能である、メンテナンスの容易な乾燥洗濯機を提供すること。 - 特許庁