「RINSING PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a washing method of glass, rubber or resin, providing finishing having little affect on washing quality or a next process, even if an amount of pure water used is reduced, with reduced number of rinsing tanks used for rinsing at relatively low cost, and a washing apparatus.例文帳に追加

純水の使用量を削減しても、洗浄品質或いは次工程への影響が少ない仕上がりを可能にすると共に、リンス工程で用いるリンス槽の数を少なくして、比較的安いコストにてガラスやゴム或いは樹脂を洗浄できるように工夫した洗浄方法と洗浄装置を提供する。 - 特許庁

(1) The developing method includes the process wherein a planographic printing plate having a silicone layer is developed in the automatic developing device having a pretreatment section, developing section, posttreatment section, and rinsing section, and also wherein the wastewater from the developing section and rinsing section undergoes an adsorbing treatment in an activated carbon treatment tank containing only activated carbon.例文帳に追加

（１）シリコーン層を有する平版を前処理部、現像部、後処理部、水洗部を有する自動現像装置で現像する工程において、現像部および水洗部から排出された排水を活性炭のみを有する活性炭処理槽で吸着処理することを特徴とする現像方法。 - 特許庁

To prevent laundry from entering a gap between washing-dehydrating basket and an cabinet cover, from the vicinity of a rectifying member while suppressing the obstruction to the discharge of a washing liquid from the rectifying member which affects the washing performance and the rinsing performance or the like in a washing machine which automatically performs a series of process of washing, rinsing and dehydration.例文帳に追加

洗濯、すすぎ、脱水の一連の行程を自動的に行う洗濯機において、洗濯性能、すすぎ性能などに影響する整流部材からの洗濯液の吐出の妨害を最小限に押さえながら、整流部材近傍からの洗濯兼脱水槽と外槽カバーとの隙間への洗濯物の入り込みを防止する。 - 特許庁

In this case, the automatic vending machine is constituted so that the food storage container stores many noodles and ingredients so that the number of storages in the machine is limited to several, a hot water rinsing process of the noodles is omitted and cooking is performed in the heating cabinet.例文帳に追加

この際、食品収納容器は機内収納数が数個ですむよう多数個の麺と具を収納し、麺の湯洗工程を省略し、保温庫内で調理するよう構成した。 - 特許庁

When a cleaning process is initiated (S6 and S7), with the temperature of the rinsing water having reached a set temperature (S8: Y), forced heating to forcibly turn on a hot water tank heater is started, getting out of temperature control (S9).例文帳に追加

洗浄工程が開始されると（Ｓ６，Ｓ７）、すすぎ水が設定温度に達した状態で（Ｓ８；Ｙ）、温度コントロールを外れて貯湯タンクヒータを強制的にオンする強制加熱を開始する（Ｓ９）。 - 特許庁

In the electrolytic rinsing process, by making hypochlorous acid and hypochlorous ions act on the stains-free washing, the sterilization of mainly the washing is executed.例文帳に追加

電解すすぎ行程では、電解洗い行程によって汚れが落とされた洗濯物に電気分解で発生した次亜塩素酸や次亜塩素酸イオンを作用させることにより、主に洗濯物の除菌が行われる。 - 特許庁

By using the process solution as a rinsing solution during or after developing a patterned photoresist layer, post-development defects such as pattern collapse and line width roughness can be reduced.例文帳に追加

この処理溶液は、パターニングされたフォトレジスト層の現像の際又はその後にリンス溶液として用いられた場合に、パターンの倒壊又はライン幅の凹凸のような現像後の欠陥を低減することができる。 - 特許庁

Then, HFE used as rinse liquid is supplied onto both the surfaces Wa and Wb of the wafer W from the upper and lower nozzles 64 and 14, and the fluoric acid on the surface of the wafer W is cleaned away (a rinsing process).例文帳に追加

次に、上ノズル６４および下ノズル１４よりリンス液としてのＨＦＥのウエハＷの両面Ｗａ，Ｗｂに供給されて、ウエハＷ表面のふっ酸が洗い流される（リンス工程）。 - 特許庁

This substrate processing apparatus 1 is provided with a processing chamber 10 and is structured so as to apply a cleaning process to a substrate S by supplying a rinsing liquid thereto, while transporting the substrate S in the processing chamber 10.例文帳に追加

基板処理装置１は、処理室１０を備え、この処理室１０内で基板Ｓを搬送しながら当該基板Ｓにリンス液を供給して洗浄処理を施すように構成される。 - 特許庁

The washing water is supplied to a tank (a steam generating device) with a heater during the washing or rinsing process and is heated by the heater to vaporize the water into steam, and the steam is jetted in the washing chamber.例文帳に追加

前記洗濯又は濯ぎ中にヒータの取り付けられたタンク（蒸気発生装置）に洗濯水が供給され、前記ヒータにより加熱され蒸気に気化され、洗濯槽内に噴射される。 - 特許庁

A washing and dehydrating tub holding laundry is housed inside a receiving vessel freely rotationally and rotationally driven by a motor 9, and a series of process of washing, rinsing, and dehydrating processes are controlled by a control means 14.例文帳に追加

洗濯物を収容する洗濯兼脱水槽を受け槽に回転自在に内包してモータ９により回転駆動し、制御手段１４により、洗い、すすぎ、脱水などの一連の行程を制御する。 - 特許庁

(3) The developing method of (1) or (2) further includes the process wherein the wastewater from the developing section and rinsing section is delivered to the activated carbon treatment tank only when the wastewater stored beforehand in a wastewater storing tank reaches a specified volume.例文帳に追加

（３）現像部および水洗部から排出された排水を排水貯蔵タンクに一定量貯めてから活性炭処理槽へ送ることを特徴とする上記（１）または（２）に記載の現像方法。 - 特許庁

To detect the amount of objects to be washed when the detected temperature of temperature detecting means is lower than a reference temperature TO afterwards, even if the detected temperature is higher than the standard temperature TO at the start of a heating-rinsing process.例文帳に追加

加熱すすぎ行程開始時に温度検知手段の検知温度が基準温度Ｔ０より高くても、その後に検知温度がＴ０より低くなる場合に、被洗浄物の量を検知すること。 - 特許庁

On the subsequent process, the coarse particles screened from the vibration apparatus is transferred to a rinsing apparatus 5 (for example, a spiral classifier), clean water is supplied and the oil is floated up from the surface of the coarse particles.例文帳に追加

次の工程において、振動装置から篩い分けた粗粒分を濯ぎ装置（例えば、スパイラル分級機）５に移し、清浄水を供給して粗粒分表面から油分を浮き上がらせる。 - 特許庁

To provide a washing machine and a method of controlling the same, capable of reducing the noise to the maximum by performing a spin-drying process after the whole washing and rinsing processes under a low-noise state of a prescribed rpm value or lower.例文帳に追加

全ての洗濯及び濯ぎ行程後の脱水行程を所定ｒｐｍ以下の低騷音状態で行うことで、騷音を最大限に減少できる洗濯機及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and device for washing a substrate capable of performing high-quality washing treatment by performing an etching process and a rinsing process respectively in the state of covering the whole area of the surface of the substrate with etching reagent or pure water.例文帳に追加

基板表面の全域をエッチング液または純水で覆った状態でエッチング工程およびリンス工程をそれぞれ行うことができ、これにより高品質な洗浄処理を行えるようにした基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供する。 - 特許庁

With the rotation of the washing/spin-drying tub 3 by the motor 6, the centrifugal force is applied to the washing solution within the water receiving tub 1 to execute the process of stirring up the washing solution between the washing/spin-drying tub 3 and the water receiving tub 1 at the end of the rinsing process.例文帳に追加

モータ６による洗濯兼脱水槽３の回転によって、水受け槽１内の洗濯液に遠心力を作用させ、洗濯兼脱水槽３と水受け槽１の間の洗濯液を撹乱する行程を、すすぎ行程の終わりに実行するように構成する。 - 特許庁

In the drying process 33, the blowing fan 10 is operated, also the operation of the hot air heater 11 is stopped for prescribed time after the start of the drying process immediately after a heating rinsing mode at the prescribed temperature or higher, and the hot air heater 11 is operated after the lapse of the prescribed time.例文帳に追加

乾燥工程３３では、送風ファン１０を作動させるとともに、所定温度以上の加熱すすぎモード直後である乾燥工程の開始から所定時間の間、温風ヒータ１１の作動を停止させ、所定時間の経過後に温風ヒータ１１を作動させる。 - 特許庁

To improve failure such as degradation in yield of electrostatic discharge resistance of a gate oxide film and degradation in reliability of it, with no emission of an ion implantation process for adjusting a threshold voltage or a pure water rinsing process for removing foreign substance sticking on a semiconductor wafer surface.例文帳に追加

しきい値電圧調整のためのイオン注入工程や半導体ウェハ表面に付着した異物を除去するための純水リンス処理を省略することなく、ゲート酸化膜の絶縁破壊耐圧の歩溜りの低下やゲート酸化膜の信頼性の低下といった不具合を改善する。 - 特許庁

In the beginning when the substrate W has been carried in a processing chamber 12 of a washing process part 10, the rinsing liquid is supplied from an entrance nozzle 20 and an upper spray nozzle 22 to the substrate, and after that, the rinsing liquid is supplied from the upper spray nozzle 22 and a lower spray nozzle 24 to the substrate until the substrate is carried out of the processing chamber 10.例文帳に追加

基板Ｗが水洗処理部１０の処理チャンバ１２内へ搬入されてきた当初においては入口ノズル２０と上部スプレイノズル２２とからリンス液を基板へ供給し、それ以後、基板が処理チャンバ１０内から搬出されるまでは上部スプレイノズル２２と下部スプレイノズル２４とからリンス液を基板へ供給する。 - 特許庁

A recycling system of the waste water for supplying suitably pH adjusted water for each tank, using the clarified water as a base, which is separated in sedimentation equipment from waste water generated in the surface treatment process, comprises supplying pH adjusted water in about 8.5-10.5 for rinsing after alkaline degreasing, and pH adjusted water in about 4-7 for rinsing after acid treatment.例文帳に追加

表面処理で発生した廃水を、沈降装置で分離処理した清澄水をPH調整し、PH調整水を各槽に対応する数値に変換して供給する廃水の再利用管理システムで、PH調整水を、アルカリ脱脂槽後の水洗用としてPH8.5〜10.5程度で供給し、酸処理槽後の水洗用としてPH4〜7程度で供給する。 - 特許庁

A control device, in a shower rinsing, relatively gently lowering the rotating speed of the drum from a rotating speed in an intermediate spin-drying process using an inverter and then relatively rapidly lowering the rotating speed of the drum using the inverter.例文帳に追加

制御装置は、シャワーすすぎにおいて、インバータを用いて、ドラムの回転速度を中間脱水過程時の回転速度から比較的緩やかに下げた後に、インバータを用いて、ドラムの回転速度を比較的急に下げる。 - 特許庁

To provide a cleaning agent composition used in a silicon wafer manufacturing process using semi-aqueous system, which is free from liquid separation (oil-water separation) even if it is diluted with water in use and is excellent in cleaning performance and rinsing performance.例文帳に追加

使用時に水で希釈しても液分離（油水分離）せず、しかも、洗浄性及びすすぎ性に優れた準水系のシリコンウエハ製造工程で使用するための洗浄剤組成物を提供すること。 - 特許庁

Before a washing process, the amount of the laundry is detected when the laundry is in a state of dry cloth, while in rinsing, dehydrating, and drying processes, the amount of the laundry is detected when the laundry is in a state of wet cloth.例文帳に追加

ここで、洗濯物が洗い行程前であれば、洗濯物量は洗濯物が乾布である状態で行い、洗濯物がすすぎ行程、脱水行程、乾燥行程では、洗濯物量は湿布の状態で行う。 - 特許庁

An etching protection film 17 comprising a silicon nitride film is formed on the side wall of the silicon oxide film 15, thus the side wall of the silicon oxide film 15 is prevented from being etched in a fluoric acid rinsing process after a gate electrode is worked.例文帳に追加

また、酸化シリコン膜１５の側壁に窒化シリコン膜からなるエッチング防止膜１７を形成し、ゲート電極加工後のフッ酸洗浄工程で酸化シリコン膜１５の側壁がエッチングされるのを防止する。 - 特許庁

When the fluorine remains therein, the fluorine is so dissolved in a water by the rinsing of a cleaning process performed thereafter, etc., and is so changed into a hydrofluoric acid as to generate voids in after-processes by etching the porous low dielectric-constant film 3a.例文帳に追加

フッ素が残留すると、その後の洗浄工程の水洗などによりフッ素が水に溶解してフッ酸となり、多孔質低誘電率膜３ａをエッチングし、その後の工程でボイドが発生してしまう。 - 特許庁

The sizing agent containing the cyclodextrin incorporating the smell is removed by cleaning its rinsing process on re-cleaning the fibrous products in each time, and is substituted by a new sizing agent in its final sizing treatment.例文帳に追加

さらに、臭気が取り込まれたシクロデキストリンを含むサイジング剤は、その繊維製品を再クリーニングする度に、その水洗工程で洗浄除去され、仕上げのサイジング処理により新しいサイジング剤に入れ替わる。 - 特許庁

A control means 18 sequentially controls respective processes of washing, rinsing, and dehydrating processes and actuates the clutch mechanism part 7 before supplying water in a water supplying process for allowing the washing and dehydrating tube 1 to rotate freely.例文帳に追加

制御手段１８は、洗い、すすぎ、脱水の各行程を逐次制御するとともに、給水行程にて、給水を行う前にクラッチ機構部７を動作させ、洗濯兼脱水槽１を回転自在にするように構成する。 - 特許庁

The dishwasher includes a water level detection means capable of detecting a plurality of levels of water supplied into the washing tub, and by repeating water supply and discharge, one or more rinsing processes are executed after a washing process using a detergent.例文帳に追加

洗浄槽内に給水された水の水位を複数検知することが可能な水位検知手段を備え、給排水を繰り返すことにより、洗剤を用いる洗浄工程の後、一又は複数のすすぎ工程を行う。 - 特許庁

This washing machine is provided with a hot air feeder feeding a hot air in the interior of a washing tub and feeds the hot air to the interior of the washing tub by the hot air feeder in a laundry washing or rinsing process (S6 and S11).例文帳に追加

洗濯槽内に温風を供給する温風供給装置を具備し、洗濯物の洗い又はすすぎを行う行程で、前記温風供給装置による洗濯槽内への温風の供給を行うようにした（Ｓ６，Ｓ１１）。 - 特許庁

In a rinsing process, when the rotary drum 2 is rotated, water stored inside the water tub 3 splashes up, flows into the dehumidifying pipeline 16 from the discharge port 21 and washes away the lint or the like stuck to the heat exchanger 51 or the like.例文帳に追加

すすぎ工程において回転ドラム２を回転させると水槽３内に貯留された水が跳ね上がって排気口２１から除湿管路１６に流入して熱交換器５１等に付着した糸屑等を洗い流す。 - 特許庁

By providing an electrolytic cell 25 having a partition in the washing machine and using electrolytic water generated by the electrolytic cell 25 for a rinsing process, the deodorization matched with odorous components stuck to the clothes is performed.例文帳に追加

洗濯機に、隔膜を有する電解槽２５を設け、前記電解槽２５により生成した電解水をすすぎ工程時に用いることにより、衣類に付着した臭い成分に合わせた消臭を行うようにしたものである。 - 特許庁

To provide a treatment method to reduce the drying time in a developing process, and to provide a solid stabilizing composition or a solid rinsing composition having the molding properties and storage stability of the solid treating agent as well as reducing the drying time.例文帳に追加

現像処理工程における乾燥時間を短縮する処理方法、さらに固体処理剤の成形性、保存安定性と乾燥時間短縮を両立する固体安定処理組成物または固体リンス処理組成物を提供する。 - 特許庁

A process for dyeing keratin fibers previously undergone a permanent reshaping process comprises applying a composition to the fiber for a sufficient time to cause desired coloring and lightening, if required, rinsing the fibers, washing with shampoo and rinsing, and drying or leaving till being dried, wherein the composition is obtained by adding to a cosmetically acceptable medium at least one fluorescent dye soluble in the medium.例文帳に追加

前にパーマネント再成形工程が施されているケラチン繊維の染色方法において、化粧品的に許容可能な媒体に、該媒体に可溶性である少なくとも一の蛍光染料を含有せしめてなる組成物を所望の着色及び明色化を生じるのに十分な時間、前記繊維に適用し、場合によっては該繊維をすすぎ、シャンプーで洗浄してすすぎ、乾燥するか又は乾燥するまで放置する工程を実施することを特徴とする方法に関する。 - 特許庁

After completion of supply of water to a washing basket in a washing process and a rinsing process, first injection of water into a salt water container 31 is conducted by a salt water supplying solenoid valve 28, and salt roughly of a prescribed quantity is dissolved through a bottom surface mesh filter 32c in a salt container 32 provided in the salt water container 31 to generate high concentration salt water.例文帳に追加

洗い工程及びすすぎ工程の洗濯槽５への給水終了後に、塩給水電磁弁２８で塩水容器３１内に第１の注水を行い、塩水容器内に設けた塩容器３２の底面メッシュフィルタ３２ｃを通し略規定量の塩を溶解し、高濃度塩水を生成する。 - 特許庁

In the clarifying apparatus 3 of water or hot water, flash mode treatment for sterilizing only a water system circulation section by sequential control or process control, sterilization mode treatment or bacteriostasis mode treatment of the whole apparatus or cleaning mode treatment in which a rinsing process using no medicament is further added after sterilization and washing is provided.例文帳に追加

水又は湯の浄化装置３において、シーケンシャルコントロールやプロセスコントロールによって水系循環部のみを殺菌するフラッシュモード処理、装置全体の殺菌モード処理又は静菌モード処理、あるいは滅菌、洗浄後にさらに薬剤を含まないすすぎ工程を追加したクリーニングモードを設けたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a resin composition for laser engraving that can prevent residue from scattering during engraving, has excellent rinsing properties for engraving residue, and can form a relief-forming layer having excellent stability of flexibility over time, and to provide a relief printing plate precursor for laser engraving, a process for producing a relief printing plate precursor for laser engraving, and a process for making a relief printing plate.例文帳に追加

彫刻時のカス飛散が抑制され、彫刻カスのリンス性に優れ、かつ、柔軟性の経時安定性に優れたレリーフ形成層を形成できるレーザー彫刻用樹脂組成物、レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版原版の製造方法、レリーフ印刷版の製版方法を提供すること。 - 特許庁

The plating acceleration additive-containing film at the bottom face part is formed by performing aeration as an opening board for plating formation is dipped into a plating acceleration additive-containing solution, so as to remove bubbles in the opening part, and thereafter performing a spin rinsing process and drying treatment.例文帳に追加

この底面部のメッキ促進添加剤含有膜は、メッキ促進添加剤を含む溶液に、メッキ形成用の開口基板を浸漬しつつ脱気して開口部内の気泡を除去した後、スピン・リンス法と乾燥処理を行って形成する。 - 特許庁

To provide a new rinsing liquid for manufacturing high-quality products by modifying the surface of a resist pattern to have ≥70° contact angle and rapidly and effectively preventing pattern collapse in a process of forming a resist pattern by lithography techniques.例文帳に追加

リソグラフィー技術によりレジストパターンを形成させる際、レジストパターンの表面を接触角７０度以上に改質してパターン倒れを迅速かつ効果的に防止して、高品質の製品を製造するための新規なリンス液を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical agent which is used in an electronic material manufacturing process, has a low alkali metal content and a low content of unreacted active hydrogen atoms, and contains a polyalkylene glycol-added type nonionic surfactant excellent in rinsing property.例文帳に追加

アルカリ金属原子含量および未反応の活性水素原子含有化合物含量が少ない、リンス性に優れたポリアルキレングリコール付加型非イオン性界面活性剤を含有してなるエレクトロニクス材料製造工程用薬剤を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method capable of reducing development defect due to deposition of a resist film and re-adhesion of a semi-insoluble material in a developing and rinsing process with a normal hardware environment, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

通常のハード環境のままで、現像、リンス工程において、レジスト膜の析出及び半不溶化物の再付着による現像欠陥を低減させることができるレジストパターンの形成方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The device for developing a conductive material precursor after exposure having at least one layer of silver halide emulsion includes a washing unit comprising at least three washing tanks and a rinsing tank, and a drying unit to consecutively dry the photosensitive layer, wherein a process liquid draining means is provided at the entrance and exit of each washing tank and at the entrance of the rinsing tank.例文帳に追加

少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を含有する導電性材料前駆体を露光後、現像処理する装置において、水洗部が少なくとも３槽の水洗槽とリンス槽、続いて該感光層を乾燥する乾燥部から構成され、該各水洗槽の入口と出口、及び該リンス槽の入口に処理液切り手段を設けたことを特徴とする導電性材料前駆体の現像処理装置。 - 特許庁

The method has a process for forming a resist pattern on a film formed on a semiconductor substrate, performing the dry etching using the resist pattern as a mask to form the micro pattern, a process for supplying a resist removing liquid to the micro pattern formation plane of the semiconductor substrate to remove the resist pattern by single wafer processing, and a process for performing rinsing on the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板に設けられた膜上にレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクに用いてドライエッチングを行い、前記膜の微細パターンを形成する工程と、前記半導体基板の微細パターン形成面にレジスト除去液を供給し、枚葉式処理により前記レジストパターンを除去する工程と、前記半導体基板をリンス処理する工程と、を有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The method includes: a surfactant absorption processing process for absorbing the surfactant in the water to be processed, such as cleaning water or rinsing water containing the surfactant to be used in the washing machine W, with hydrotalcite as an anion exchanger or zeolite as a cation exchanger to perform removal processing; and a water reuse process for using in the washing machine W the processed water processed in the surfactant absorption processing process.例文帳に追加

洗濯機Ｗにおいて使用される界面活性剤を含んだ洗浄水やすすぎ水などの被処理水中の界面活性剤を、アニオン交換体としてのハイドロタルサイト、又は、カチオン交換体としてのゼオライトにより吸着して除去処理する界面活性剤吸着処理工程と、該界面活性剤吸着処理工程で処理された被処理水を、洗濯機Ｗにて使用する水再利用工程とを含む。 - 特許庁

The treatment method for wastewater containing the hydrophobic harmful organic matter and the suspended substance has a filtering process for filtering water to be treated containing the hydrophobic harmful organic matter and the suspended substance by a ceramic filter, an ozone treatment process for supplying ozone-containing water into the ceramic filter after the water in the ceramic filter is discharged, and a rinsing process for supplying washing water to the ceramic filter.例文帳に追加

疎水性有害有機物と懸濁物質を含有する被処理水をセラミックフィルターでろ過するろ過工程、セラミックフィルターの内部水を排出したのち、セラミックフィルター内にオゾン含有ガスを供給するオゾン処理工程、及び、セラミックフィルターに洗浄水を供給する水洗工程を有することを特徴とする疎水性有害有機物と懸濁物質を含有する排水の処理方法。 - 特許庁