「Wet process」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The present invention relates to an abrasive cushion material and a process of a wet-chemical grinding of a substrate surface.例文帳に追加

本発明は、研磨緩衝材、および、基板表面を湿式化学研削するプロセスに関するものである。 - 特許庁

The copper powder has such an irregular shape as the flake or a tablet, which can be directly obtained by a wet process.例文帳に追加

本件発明は、湿式法で直接得られるフレーク状若しくはドロップ状をした異形銅粉を提供する。 - 特許庁

WET CLEANING METHOD OF MATERIAL SURFACE AND MANUFACTURING PROCESS OF ELECTRONIC, OPTICAL OR OPTOELECTRONIC DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

材料表面の湿式洗浄方法及びこれを用いた電子、光学、または光電子デバイスの作製プロセス - 特許庁

To provide a method for producing a thin film with high surface smoothness by wet process while avoiding dissolution of a lower layer.例文帳に追加

下層の溶解を回避しつつ、表面平滑性の高い薄膜を、ウェットプロセスで作製可能な方法の提供。 - 特許庁

ADJUSTING METHOD OF COPPER CONCENTRATION IN LEACHING LIQUID IN CLEANING PROCESS OF WET ZINC METALLURGY AND ADJUSTING EQUIPMENT THEREFOR例文帳に追加

湿式亜鉛製錬の清浄工程における浸出液中銅濃度の調整方法および調整設備 - 特許庁

To provide a polyamide staple fiber excellent in flowing through a fiber preparation process and in workability of a wet-type nonwoven fabric.例文帳に追加

繊維製造工程の通過性に優れ、かつ湿式不織布加工性に優れたポリアミド短繊維を提供する。 - 特許庁

To accurately provide a required concentration distribution to a metal component concentration in a wet gel manufactured by the sol-gel process.例文帳に追加

ゾルゲル法によって製造したウェットゲル中の金属成分濃度に所望の濃度分布を正確に付与する。 - 特許庁

The performance of the catalyst is not improved if a similar Te is applied onto the MMO1 in wet impregnation process.例文帳に追加

湿式含浸法で同様のＴｅをＭＭＯ１上に適用した場合は、触媒性能は改善されなかった。 - 特許庁

A hybrid porous tube body 100 is obtained by putting the base material 3 under an etching removal process by a wet etching method (d).例文帳に追加

基材３をウエットエッチング法によりエッチング除去して混成型多孔質管体１００を得る〔（ｄ）〕。 - 特許庁

To provide an organic semiconductor material having a high mobility and capable of producing a TFT element in a wet process.例文帳に追加

ウエットプロセスでのＴＦＴ素子の製造が可能で、移動度の高い有機半導体材料を提供する。 - 特許庁

The method remarkably improves etching homogeneity of the wet etching process which selectively eliminates the oxidized film.例文帳に追加

又、酸化膜を選択的に除去するウエットエッチング工程のエッチング均一性を大きく向上させることができる。 - 特許庁

A surface treatment process includes a wet polishing process 46 for polishing a peripheral surface of a drum with a first cloth containing liquid in which fine particles of metal oxides are dispersed, a dry polishing process 47 for polishing the peripheral surface with a dry second cloth after the wet polishing process 46, and a washing process 43 for removing the fine particles on the peripheral surface.例文帳に追加

表面処理工程は、金属酸化物の微粒子が分散した液を含む第１の布で、ドラムの周面を研磨する湿式研磨工程４６と、この湿式研磨工程４６の後に、乾いた第２の布で周面を研磨する乾式研磨工程４７と、周面上の微粒子を取り除く洗浄工程４３とを有する。 - 特許庁

Slurry is manufactured based on the kneaded matter (slurry making process S15), the slurry is subjected to wet formation (wet formation process S16), a first solvent is removed from the forming body (solvent removal process S17) before sintering (sintering process S18), and then aging treatment (aging treatment process S19) is performed further to obtain the metal sintered magnet.例文帳に追加

この混練物をもとにスラリーを作製し（スラリー化工程Ｓ１５）、それから、スラリーの湿式成形を行い（湿式成形工程Ｓ１６）、その成形体から第１の溶媒を除去（溶媒除去工程Ｓ１７）してから焼結を行い（焼結工程Ｓ１８）、その後、更に時効処理（時効処理工程Ｓ１９）を施して金属焼結磁石を得る。 - 特許庁

To provide a wet etching process which improves the anisotropic diffusion speed of an etchant existing on the surfaces of metallic electrodes in order to narrow the pitch of the terminals of the wet etching process and to manufacture lead frames of higher fineness and shadow masks of super-high fineness.例文帳に追加

ウエットエッチング法の端子ピッチの狭ピッチ化、微細化のリードフレームや、超高精細シヤドウマスク製造するため、金属極表面に存在するエッチング液の異方性拡散スピードの向上するエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coat drying method that secures the good appearance of the surface of a finished coat in wet-on-wet coating while performing the low temperature and shortening process of a preheating step.例文帳に追加

プレヒート工程の低温化及び短縮化を行いつつ、仕上がり塗装面の良好な外観性を確保し得るウェット・オン・ウェット塗装における塗装乾燥方法を提供する。 - 特許庁

A time managing means 1 is provided to make wet swelling of a fixed abrasive grain board so that it is held in a wet swollen condition in good workmanship prior to the start of the polishing process.例文帳に追加

固定砥粒盤１６を湿潤処理する時間管理手段１を設け、研磨加工を開始する前に予め固定砥粒盤１６を良好な湿潤状態に保持しておく。 - 特許庁

To provide a wet etching method of a gallium oxide single crystal, with which a technique of wet etching in a semiconductor manufacturing process is applicable to a gallium oxide single crystal.例文帳に追加

半導体製造工程におけるウェットエッチングに関する技術を酸化ガリウム単結晶に対して適用可能にする酸化ガリウム単結晶のウェットエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a wet nonwoven fabric excellent in resin impregnating ability even if produced by the wet process, and also good in working operability with easiness to tear off by hand.例文帳に追加

湿式法により製造した場合であっても、樹脂の含浸性に優れ、また、手でちぎりやすく、施工作業性に優れる湿式不織布の製造方法を提供すること。 - 特許庁

During the soldering process of a passive circuit element 3, the enlargement of the wet of the melting solder 5 is prevented by the solder flow suppression part 10, so that the wet cannot get across the boundary of the section 2a.例文帳に追加

回路部品３の半田付け工程中では、溶融半田５の濡れの拡大は、半田流出抑止部10により抑止され、被実装部２ａの境界を越えることはない。 - 特許庁

Then, a first conductor layer 5 is formed on the surface of the ceramic element by a wet plating method and the dielectric layer 6 is formed on the surface of the first conductor layer 5 in a wet process (c).例文帳に追加

そして、セラミック素体の表面に湿式めっき法で第１の導体層５を形成し（ｂ）、次いで、第１の導体層５の表面に湿式法で誘電体層６を形成する（ｃ）。 - 特許庁

To provide a method of forming high-performance polymer gate insulating film on glass or a flexible substrate by a simple wet process.例文帳に追加

簡便なウェットプロセスで、ガラスやフレキシブル基板上に、高性能の高分子ゲート絶縁膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment apparatus capable of accurately treating a substrate by a wet process and capable of washing even the back surface of the substrate.例文帳に追加

ウェットプロセスによる基板の処理を正確に行ない、基板裏面もむらなく洗浄できる処理装置を提供する。 - 特許庁

WET PROCESS IMAGE PRINTER UPGRADING SUPPORT SYSTEM USING NETWORK AND DATA UPGRADING METHOD FOR CALCULATING ITS DEVELOPER CONCENTRATION例文帳に追加

ネットワ—クを用いた湿式画像印刷装置アップグレ—ド支援システム及びその現像液濃度算出用デ—タアップグレ—ド方法 - 特許庁

The urethane sheet has been formed by a wet coagulation process and has a polishing surface for polishing a polishing object.例文帳に追加

ウレタンシートは、湿式凝固法により形成されており、被研磨物を研磨加工するための研磨面を有している。 - 特許庁

To provide a resist ink for wet etching having good etching resistance even if an etching process is carried out under severe working conditions.例文帳に追加

より過酷なエッチング条件でエッチング加工してもエッチング耐性が良好なウェットエッチング用レジストインクを提供する。 - 特許庁

When the subtracted result is larger than the wet wait time (S6), wait is carried out by the set wait time, and the process is returned to S4.例文帳に追加

減算結果が設定ウエイト時間より大きい場合には（Ｓ６）で設定ウエイト時間だけウエイトして（Ｓ４）に戻る。 - 特許庁

In a process of forming the micro passage 12A in Fig. 1(c), wet etching may be used instead of anisotropic dry etching.例文帳に追加

なお、図１（ｃ）のマイクロ流路１２Ａを形成する工程では、異方性ドライエッチングに代えて、ウェットエッチングを用いてもよい。 - 特許庁

To provide an organometallic complex composition having high solubility or dispersibility in a solvent and suitable for a wet film-deposition process.例文帳に追加

溶剤への溶解性や分散性が高く、湿式成膜に適した有機金属錯体組成物を提供すること。 - 特許庁

In a preferred embodiment, the amount of the plasticizer is 15-50 wt.% and the composite sheet is easily and simply produced by the wet process.例文帳に追加

可塑剤が１５〜５０重量％であることが望ましく、製法としては、湿式抄紙により簡便に得られる。 - 特許庁

A wet etching process using an etchant containing at least hydrochloric acid and acetic acid is applied to the grown InP layer.例文帳に追加

成長されたＩｎＰ層に、少なくとも塩酸と酢酸とを含むエッチャントを使ったウェットエッチング工程を適用する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a low resistance metal wiring, consisting of only wet-type film forming process with few etching processes.例文帳に追加

湿式成膜プロセスのみから成ってエッチングプロセスが少なく低抵抗な金属配線の製造方法を提供する。 - 特許庁

The nonwoven cloth is manufactured through the wet type process and undergoes a water flow confounding processing, which ensures establishment of still more excellent characteristics.例文帳に追加

また、不織布が湿式法で製造され、水流交絡処理を施されていることで、より優れた特性を発現する。 - 特許庁

The process is carried out through wet etching, so that batch processing can be performed, a processing time can be shortened, and throughput can be improved.例文帳に追加

また、ウエットエッチングであるので、バッチ処理が可能で、これにより処理時間の短縮が図れ、スループットも高められる。 - 特許庁

To provide a developer nozzle causing no wet problem in the form of a bubble or a drop on a wafer in a semiconductor wafer process.例文帳に追加

半導体ウエハプロセスウエハ上に泡及び滴の形のぬれ問題が発生しない現像液ノズルを提供する。 - 特許庁

TITANIUM GROUP ELEMENT BASED FLUORINE ADSORBING-DESORBING AGENT FOR FLUORINE-CONTAINING PROCESS LIQUID TREATMENT FOR WET ZINC SMELTING, AND METHOD FOR REMOVING FLUORINE例文帳に追加

フッ素を含む湿式亜鉛製錬用工程液処理用チタン族元素系フッ素吸脱剤、及びフッ素除去方法 - 特許庁

To provide a method for preserving a polycarbonate resin for wet molding without needing a drying process before dissolving in a solvent.例文帳に追加

溶媒に溶解する前に乾燥する必要のない湿式成形用ポリカーボネート樹脂の保存方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of wet process for recovering a high purity vanadium with a sulfur content of 0.1% or less from a petroleum-based incineration ash.例文帳に追加

石油系焼却灰から湿式法により硫黄含有量が０．１％以下の高純度バナジウムを回収する。 - 特許庁

The electronic device is manufactured by laminating an organic electronic material layer consisting of only an organic electronic material by a wet process.例文帳に追加

有機電子材料のみからなる有機電子材料層を湿式法により積層して、電子デバイスを製造した。 - 特許庁

For the process for patterning the crystal element, a wet etching method is used for solving problems.例文帳に追加

また、上述する水晶素子にパターンニングする工程にはウェットエッチング工法を用いることにより課題を解決する。 - 特許庁

An outer electrode is formed by applying and baking conductive paste to the ceramic element after the wet barrel polishing process.例文帳に追加

湿式バレル研磨工程の後に、セラミック素子に導電ペーストを塗布して焼き付けることにより外部電極を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing organic electroluminescence element which patterns a sealing film without using a wet process.例文帳に追加

ウェットプロセスを用いることなく、封止膜をパターニングすることができる有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The process 1; the process, in which the variable throat in the wet type dust collector is almost wholly opened and only water-spraying is performed to perform the dust collection in the blast furnace gas with the electrostatic dust collector.例文帳に追加

ここに、工程１：前記湿式集塵部の可変スロートをほぼ全開として散水のみを行い、高炉ガスの集塵を前記静電集塵部で実施する工程。 - 特許庁

A preliminary washing process 41 is performed for obtaining the cleanliness of a fixed level at the peripheral surface by removing foreign substances on the peripheral surface as much as possible before the wet polishing process 46.例文帳に追加

湿式研磨工程４６の前には、周面上の異物をできるだけ除去して周面を一定レベルの清浄度にする予備洗浄工程４１を実施する。 - 特許庁

To remove pure water and humidity existing on the surface of a wafer in the fluid treatment and wet process during the semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

ウェーハ乾燥機に関するものであり、半導体素子の製造工程中、流体処理や湿式工程でウェーハの表面に存在する純水や湿気を容易に除去する。 - 特許庁

In a process for manufacturing a recess-gate type FET, a recess etching process (S105) subjects it to an aqueous solution containing aqueous ammonia for selective etching with GaAs in wet-etching.例文帳に追加

リセスゲート型のＦＥＴ製造工程において、リセスエッチングプロセス（Ｓ１０５）はアンモニア水を含む水溶液でウエットエッチングでＧａＡｓの選択エッチング（リセスエッチング（Ｓ１０５））を行う。 - 特許庁