| 意味 | 例文 |
Wet processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1012件
To provide an organic thin film transistor element capable of employing a wet process in fabrication and exhibiting a high carrier mobility and low deterioration in the air.例文帳に追加
作製にウェットプロセスを採用でき、高いキャリア移動度を示し、空気中での劣化の少ない有機薄膜トランジスタ素子を提供する。 - 特許庁
The antiglare film may be manufactured by inducing a cellular revolving convection in a wet coating film in a drying process.例文帳に追加
この防眩性フィルムは、乾燥工程で、湿潤塗膜において細胞状回転対流を発生させることにより製造してもよい。 - 特許庁
To carry out a so-called pre-wet process before applying an overlay film agent so as to prevent a resist film from dissolving, and to save a liquid of the overlay film agent.例文帳に追加
レジスト膜が溶解しないように上層膜剤の塗布前のいわゆるプリウェットを実現し、上層膜剤の省液化を図る。 - 特許庁
Thereby, it is possible to easily produce in the wet process, and to obtain the polymer PTC element emerging the required characteristics.例文帳に追加
これによって、湿式工程で容易に製造可能で、しかも所要の特性を発現する高分子PTC素子を得ることができる。 - 特許庁
A retreated base oxide film 12 in a wet etching process affects a shape change in an upper edge 141 of a trench 14.例文帳に追加
ウェットエッチング工程による下地酸化膜12の後退は、トレンチ14における上部エッジ141の形状変化に影響を与える。 - 特許庁
To provide a wet grinding process which enables production of such a stable slurry that lesser change in slurry viscosity is caused even when a small amount of a dispersant is used.例文帳に追加
少量の分散剤を用いた場合でも、粘度の変化が少なく安定なスラリーを得る湿式微粉砕方法を提供する。 - 特許庁
The wafer 21 is peeled off the adhesive tape 31 by heating the adhesive tape 31 for foaming after the wet process.例文帳に追加
ウエット処理を行った後、接着テープ31を加熱して発泡させることにより、接着テープ31からウエハー21を剥離させる。 - 特許庁
This channel-constituting part and the reflection-preventing structure are formed by one process using a wet etching method by simultaneous processing of both surfaces.例文帳に追加
この流路構成部および反射防止構造は、ウエットエッチング法を用いた一つの工程で両面の同時加工により形成される。 - 特許庁
To provide an organic field fluorescence element having a luminous layer containing a blue fluorescence compound capable of preparing a film in a wet film preparing process.例文帳に追加
湿式製膜法で製膜が可能な青蛍光化合物を含む発光層を有する有機電界蛍光発光素子を提供する。 - 特許庁
To provide a tantalum metal powder through recovering a tantalum metal powder produced in each step in a process of manufacturing a tantalum capacitor by a wet method.例文帳に追加
湿式法によるタンタルコンデンサ製造法における各工程からのタンタル金属粉末の回収によるタンタル金属粉末の提供。 - 特許庁
To provide a method for recovering a powder coating material which can suit a reuse application while keeping high catching efficiency by a wet process.例文帳に追加
湿式法による高い捕集効率を維持しつつ、再利用用途に適合し得る粉体塗料を回収する方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing of the cleaner material is also provided including a process in which the wet-heat adhesive fibers are adhered using high temperature water vapor.例文帳に追加
また高温水蒸気によって湿熱接着性繊維を接着する工程を含むクリーナ材の製造方法を提供する。 - 特許庁
Accordingly, the organic EL layer is uniformly formed through a wet process, and the practical display is manufactured.例文帳に追加
本発明を用いることにより、ウェットプロセスにより有機EL層を均一に形成し、実用的な表示装置を作製することができる。 - 特許庁
To prevent a cut surface from being wet by water flowing in a water pipe, in an anticorrosive process of the cut surface of the water pipe.例文帳に追加
水道管の切断面の防食処理において、その切断面を上記水道管を流通する水で濡らさないようにする。 - 特許庁
To provide adhesive for a wet type friction plate showing strong adhesive strength without surface treatment process of metal base material.例文帳に追加
金属基材の表面処理工程を行わなくても高い接着強度を有する、湿式摩擦板用接着剤を提供すること。 - 特許庁
The method for detoxifying asbestos has a crushing treatment process of crushing the asbestos in a wet state before immersing the asbestos in the mixed liquid.例文帳に追加
アスベストの無害化方法は、アスベストを混合液に浸漬する前に、アスベストを湿潤状態で粉砕する粉砕処理工程を有する。 - 特許庁
As the inorganic particles (A-1), for example, dry silica, wet silica, sol-gel process silica, colloidal silica and alumina sol and the like can be used.例文帳に追加
前記無機微粒子(A−1)としては、例えば、乾式シリカ、湿式シリカ、ゾルゲル法シリカ、コロイダルシリカ、及びアルミナゾルなどが使用できる。 - 特許庁
The cooling water 17 can substantially wet the whole cooling mat 1 by repeating such a process composed of dropping and diffusion.例文帳に追加
冷却水17は、こうした落下と拡散とからなる過程を繰り返すことで、クーリングマット1の実質的に全体を濡らすことができる。 - 特許庁
LUMINESCENT ORGANIC POLYMER METAL COMPLEX AND ITS COMPOSITION FEASIBLE TO MAKE MEMBRANE BY WET PROCESS AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
発光性有機高分子金属錯体及び湿式製膜可能な発光性有機高分子金属錯体組成物並びにその製造方法 - 特許庁
To provide a waste cleaning method in wet type zinc refinement wherein copper arsenide-containing residue produced in a treatment process for Zn residue can be effectively utilized.例文帳に追加
Zn残渣の処理プロセスで発生する砒化銅含有残渣が有効利用可能な湿式亜鉛製錬の浄液方法を提供する。 - 特許庁
Afterwards, the wafer is passed through a primary wet process for removing a non-reacting metal in a solvent which contains hydrochloric acid + hydrogen peroxide water (step 4).例文帳に追加
その後、ウェハは塩酸+過酸化水素水を含む溶液により未反応の金属を除去する第1次ウェット工程を経る(ステップ4)。 - 特許庁
A wet cake of titanium hydroxide precipitate recovered in a cleaning process is dispersed in distilled water in a reaction vessel 301.例文帳に追加
洗浄工程で回収された水酸化チタン沈殿の湿潤ケーキは、反応容器301の中で蒸留水に分散させられる。 - 特許庁
To produce a semiconductor device having a nano structure by producing a atom-level Schottky barrier on the surface of a semiconductor wafer using wet process.例文帳に追加
半導体ウエーハ表面に原子レベルのショットキー障壁を湿式法により作製し、ナノ構造の半導体素子を作製すること。 - 特許庁
Consequently, a channel portion, having a fixed width is formed, even when the source and drain electrodes are to be overetched in the wet etching process.例文帳に追加
従って、湿式エッチングの過程でソース電極及びドレイン電極がオーバーエッチングされる場合でも、一定幅のチャンネル部を形成できる。 - 特許庁
The inventors evaluate glass polishing capacity of the wet process synthesis zirconia powder to analyze primary and secondary particle forms of the powder.例文帳に追加
本発明者等は湿式合成ジルコニア粉末のガラス研磨能力を評価し、その粉末の一次・二次粒子形態を解析した。 - 特許庁
To provide a processing system for a wafer or the like which performs process steps from a wet process to a supercritical drying process, and is highly versatile, stable, and highly productive, satisfying economical requirements in production of semiconductor wafers, liquid crystal substrates, or the like.例文帳に追加
半導体ウェハ、液晶基板等の生産において、湿式処理から超臨界乾燥の工程を、汎用性が高く、安定で生産性が高く、経済的要望を満足しうる、ウェハ等の処理システムを提供することにある。 - 特許庁
The main carrier robot 30 forwards the developed substrate W upon completion of the development process, regardless of whether it is developed at the development process unit 10A or 10B, as wet to the supercritical drying process unit 20.例文帳に追加
そして、現像処理が完了すると、いずれの現像処理ユニット10A、10Bで現像処理されたのかを問わず、主搬送ロボット30は現像処理を受けた基板Wを超臨界乾燥処理ユニット20にウェット搬送する。 - 特許庁
To provide a method for forming multilayer coating film, comprising applying aqueous base coating and clear coating by a wet-on-wet process and curing in a two-coat one-bake coating method so as to achieve a coating film having excellent in flip-flop properties (FF) and no unevenness.例文帳に追加
水性ベース塗料とクリヤー塗料をウェット・オン・ウェットで塗装してツーコート・ワンベーク硬化する複層塗膜形成方法で、フリップフロップ性(FF性)が高くてムラのない複層塗膜形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming multilayer coating film applying aqueous base coating and clear coating by a wet-on-wet process and curing in a two-coat one-bake coating method so as to achieve a coating film having excellent in flip-flop properties (FF) even when the coating contains high solid content.例文帳に追加
水性ベース塗料とクリヤー塗料をウェット・オン・ウェットで塗装してツーコート・ワンベーク硬化する複層塗膜形成方法で、高固形分でもフリップフロップ性(FF性)がよい方法を提供する。 - 特許庁
In a first expansion-contraction drying process 18, while the wet film 25 is fixed at its both side ends with a fixing member and conveyed, tension of the desired direction and desired magnitude is applied to the wet film 25 and drying is sufficiently accelerated.例文帳に追加
第1伸縮乾燥工程18において、湿潤フィルム25の両側端部を固定部材で固定し搬送する間に、所望の向き及び大きさの張力を付与し、かつ乾燥を促進させる。 - 特許庁
The second well 109 is formed after a process for effecting wet etching of the surface of the semiconductor substrate 101 including the first well 104 or divided into before and after the etching process whereby a condition that the first well 104 is electrically conducted with the semiconductor substrate 101 upon the wet etching is obtained.例文帳に追加
第1ウェル104を含む半導体基板101の表面をウェットエッチングする工程の後に、または、その前後に分けて、第2ウェル109を形成することにより、ウェットエッチング時において、第1ウェル104と半導体基板101が電気的に導通している状態にする。 - 特許庁
A chemical oxide film 100 formed on a semiconductor substrate 1 by wet cleaning, using a strong oxidizing solution to reduce the attachment of impurities to the chemical oxide film 100 between the wet cleaning process and an insulating film forming process.例文帳に追加
半導体基板上1に形成されるケミカル酸化膜100を、強酸化性溶液を用いたウエット洗浄により形成するようにして、ウエット洗浄工程から絶縁膜形成工程間における、ケミカル酸化膜100への不純物の付着を低減できるようにする。 - 特許庁
A flue 1 for introducing the flue gas of a boiler, etc., to a chimney 9 is provided with a wet process electrostatic precipitator(EP) 7 for capturing the sulfuric acid mist in the flue gas and the flue on the upstream side of the wet process EP 7 is provided with a sodium carbonate supplying system 10 for injecting sodium hydrogencarbonate powder.例文帳に追加
ボイラー等の排煙を煙突9に導く煙道1に、排煙中の硫酸ミストを捕集する湿式EP7を設けるとともに、湿式EPの上流側の煙道に炭酸水素ナトリウム粉末を注入する炭酸ナトリウム供給装置10を設ける。 - 特許庁
Further, by performing a simple wet etching process using a single wet station without another dry etching process for removing the oxide film in the cell region and a photosensitive film pattern, no bridging phenomenon between cells are induced, so that yield of a device is improved.例文帳に追加
さらに、セル領域の酸化膜及び感光膜パターンを除去するため別の乾式エッチング工程なく単一ウェットステーションを用いた簡単な湿式エッチング工程を行うことにより、セル間のブリッジング現象が誘発されないのでディバイスの収率向上に寄与することができる。 - 特許庁
To provide a compound useful for an organic layer of an organic electroluminescent element, formed into a film by a wet process, having excellent solubility in a solvent and heat resistance, and providing the organic electroluminescent element driven by a low drive voltage and having sufficient life even being formed by the wet film-forming process.例文帳に追加
有機電界発光素子の湿式成膜される有機層に有用な化合物であって、溶剤に対する溶解性や耐熱性に優れ、湿式成膜法で形成しても、駆動電圧が低く、十分な寿命を有する有機電界発光素子を得ることができる化合物を提供すること。 - 特許庁
This method comprises a coating process for coating a coating object 1 with a water-based coating material to form a wet coating film 3 on the coating object 1 and a microwave irradiation process for irradiating the wet coating film 3 with microwaves while controlling the microwave output so as to be within a range of 100 to 500 W.例文帳に追加
被塗物1に水性塗料を塗布して被塗物1上にウェット塗膜3を形成する塗布工程と、マイクロ波出力を100〜500Wの範囲内に制御しつつ、ウェット塗膜3にマイクロ波を照射するマイクロ波照射工程とを備えている。 - 特許庁
To safely and stably obtain an excellent preventing, effect on the elution of heavy metals with a smaller amount of a heavy metal fixing agent to be added to uniformly adding and mixing the heavy metal fixing agent to the wet process shredder dust obtd. by a wet process sorting method without separately providing a chemical mixing device.例文帳に追加
別途薬剤混合装置を設けることなく、湿式選別方法で得られる湿式シュレッダーダストに重金属固定剤を均一に添加混合して、少ない重金属固定剤添加量で優れた重金属の溶出防止効果を安定かつ確実に得る。 - 特許庁
The method of growing an oxynitride film on a substrate includes a step 100 of providing a substrate in a process chamber, a step 102 of heating the process chamber, and a step 104 of flowing a wet process gas containing water vapor and a nitriding gas containing nitrous oxide (NO) into the process chamber.例文帳に追加
基板上に酸窒化膜を成長する方法は、処理チャンバ内に基板を設ける工程100、処理チャンバを加熱する工程102、並びに、水蒸気を含む湿式処理ガス及び亜酸化窒素(NO)を含む窒化ガスを処理チャンバへ流し込む工程104を有する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method which prevents the corrosion of a metal wiring during an ITO (indium tin oxide) wet etching process and conducts in-plane uniform patterning of ITO.例文帳に追加
ITOウエットエッチング処理時の金属配線腐食を防止し、かつ面内均一なITOパターニングを行う製造方法を提供する。 - 特許庁
In the silicon carbide semiconductor device, during temperature drop in a gate oxide film forming process, the temperature is dropped to termination or elimination temperature not above 650-850°C while maintaining a wet atmosphere.例文帳に追加
ゲート酸化膜形成工程の降温時に、ウェット雰囲気を維持したまま、終端・脱離温度(650〜850℃)以下まで降温させる。 - 特許庁
In the silicon carbide semiconductor device, during temperature drop in a gate oxide film forming process, the temperature is dropped to termination or elimination temperature not above 800-900°C while maintaining a wet atmosphere.例文帳に追加
ゲート酸化膜形成工程の降温時に、ウェット雰囲気を維持したまま、終端・脱離温度(800〜900℃)以下まで降温させる。 - 特許庁
To provide a method for forming silicide wherein silicide can be formed at lower temperatures without increasing the wet cleaning process.例文帳に追加
ウェット洗浄工程を増加させることなく、かつ、より低温でシリサイドを形成することが可能なシリサイドの形成方法を提供すること。 - 特許庁
In a surface treatment process, wet abrasive machining is performed to the side faces 106 of the capacitor body 104 in which the recesses 107 are formed.例文帳に追加
表面処理工程において、凹部107が形成されたコンデンサ本体104の側面106に対して湿式砥粒加工を行う。 - 特許庁
To provide tin oxide prepared in a porous state from a tin oxide precipitate produced by a wet process, without pulverizing the precipitate, and to provide a method for producing the tin oxide.例文帳に追加
湿式製法によって製造した酸化錫沈澱を粉末化せずに多孔質にした酸化錫とその製造方法を提供する。 - 特許庁
In the lowering of a temperature of a gate oxide film formation process, the temperature is lowered to not higher than a termination/desorption temperature (650 to 850°C) while maintaining a wet atmosphere.例文帳に追加
ゲート酸化膜形成工程の降温時に、ウェット雰囲気を維持したまま、終端・脱離温度(650〜850℃)以下まで降温させる。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of electronic components capable of preventing conductive particles from being removed from a bump surface by a wet process.例文帳に追加
ウエットプロセスによりバンプ表面から導電性粒子が離脱するのを防止することが可能な、電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method and apparatus for manufacturing spun lace non-woven fabric in wet process, capable of manufacturing in a short production line, without imparing a bulky and soft feeling of the non-woven fabric.例文帳に追加
湿式スパンレース不織布を製造するに当たり、短い設備で製造でき、不織布の嵩高感とソフト感を損なわないようにする。 - 特許庁
To improve work efficiency by setting in the same process, works from extrusion of a wet cosmetic to quantitative filling thereof into a cosmetic plate.例文帳に追加
湿式化粧料の押し出しから化粧皿内の定量充填に至るまでの作業を同一工程化して、作業効率の向上を図る。 - 特許庁
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