「Wet process」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

PROCESS FOR REDUCTION OF RESIDUAL MONOMER CONTENT AND ENHANCEMENT OF WET STRENGTH OF ARTICLE FORMED FROM WATER-ABSORBENT CROSS-LINKED POLYMER FOAM AND USE OF THE ARTICLE例文帳に追加

残留モノマー含分を低下させ、かつ、吸水性架橋ポリマーフォームから形成された物品の湿潤強度を高めるための方法、及び該物品の使用 - 特許庁

The manufacturing method of phosphor paste for the plasma display panel has a process of putting inorganic phosphor synthesized by a liquid phase method under a wet decentralized processing.例文帳に追加

液相法で合成した無機蛍光体を湿式分散処理する工程を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストの製造方法。 - 特許庁

An electrode 7 is formed by electroless plating wet process on the surface in a groove 5 formed on a laminated substrate 4 comprising piezoelectric members 2, 3 attached with each other.例文帳に追加

圧電部材２，３を張り合わせた積層基板４に形成されている溝５内の表面には電極７をウエットプロセスの無貫解メッキ法により形成する。 - 特許庁

By such a method, the Schottky barrier transistor can be manufactured without passing a selective wet etching process which removes a non-reacted metal after the silicide reaction.例文帳に追加

このような方法によれば、シリサイド反応後に未反応金属を除去する選択的ウェットエッチング工程を経ずにショットキー障壁トランジスタが製造できる。 - 特許庁

A process for lowering pH of the hydrothermal reaction liquid is preferably included for performing wet oxidation reaction using the pH-lowered treated liquid.例文帳に追加

前記水熱反応液のｐＨを低下させる工程をさらに含み、当該ｐＨ低下後の処理液を用いて湿式酸化反応を行うことが好ましい。 - 特許庁

Thus, a field-plated device can be realized without the need of a material which is less-damaged during a dry/wet etching process.例文帳に追加

このため、乾式または湿式のエッチングプロセスで受けるダメージの少ない材料を用いることなく、フィールドプレートされたデバイスを、実現することができる。 - 特許庁

To provide a method for extracting and separating copper and/or gold from chalcocite in an extraction rate of 99% or higher by a wet process, without generating sulfur dioxide.例文帳に追加

湿式法により硫化銅鉱から銅及び／又は金を９９％以上抽出分離する亜硫酸ガスを発生させない抽出法を提供する。 - 特許庁

The chromium film 12 improves the adhesion between the photoresist 13 and the aluminum vapor deposition film 11, and as to undercut caused by wet etching for the aluminum vapor deposition film 11 in the process (h), it can be controlled to about 0.3 μm, thus remarkable improvement is made possible.例文帳に追加

一方、ホトレジストとアルミニウム蒸着膜の間にクロム蒸着膜を挾みホトレジストとアルミニウム蒸着膜の密着が改善できる。 - 特許庁

To provide a laminated nonwoven fabric containing wet heat gelled fibers excellent in processability during a nonwoven manufacturing process and at the time of fixing of a filler and having a good surface state.例文帳に追加

不織布製造中およびフィラーを固着させる際の加工性に優れた、表面状態の良好な湿熱ゲル化繊維を含む不織布を提供する。 - 特許庁

To provide a technique for easily forming a super thin film from various hardly soluble molecules by a wet process without applying vacuum deposition method.例文帳に追加

真空蒸着法を用いずウェット・プロセスにより難溶性の各種の分子から簡便にその超薄膜を作成することができる技術を提供する。 - 特許庁

The waste water generated in the wet process is supplied to the slurrying tank 11 through a waste water feed pipe 15 as a part of the service water for slurrying.例文帳に追加

湿式処理で発生した排水は、排水供給管１５を介してスラリー化タンク１１にスラリー化のための用水の一部として供給される。 - 特許庁

First electrode particles 11 and first catalyst ink containing a first solvent are applied onto an electrolyte membrane 2 by a wet process to form a compact layer 3a.例文帳に追加

第一電極粒子１１と第一溶媒とを含有する第一触媒インクを電解質膜２上に湿式塗布し、緻密層３ａを形成する。 - 特許庁

And it is manufactured from the process which wet crushes the crystalline cerium oxide (IV) particles obtained by baking cerium carbonate at 300-1,100°C.例文帳に追加

また、炭酸セリウムを３００〜１１００℃で焼成することにより得られた結晶性酸化セリウム粒子を湿式粉砕する工程から製造する。 - 特許庁

The functional group selective hydrogenation method comprises a process of causing the organic sulfur compound to be brought into contact with hydrogen gas in a wet state in the presence of the catalyst.例文帳に追加

また、該官能基選択的水素化方法は該触媒の存在下で有機硫黄化合物を水素ガスと湿式で接触させることからなる。 - 特許庁

To provide nickel powder having a low residual chlorine concentration at a low cost using a method for producing nickel powder where nickel hydroxide obtained by a wet process is reduced.例文帳に追加

湿式法で得た水酸化ニッケルを還元するニッケル粉の製造方法を用いて、残留塩素濃度が低いニッケル粉を低コストで提供する。 - 特許庁

Also the method for manufacturing the toner for image formation includes the process to make the inorganic fine particles A adhere to the toner mother particle via wet processing.例文帳に追加

また、当該無機微粒子Ａを湿式処理によりトナー母体粒子に付着させる工程を含む画像形成用トナーの製造方法である。 - 特許庁

To reduce the residual quantity of water in water-repellent powder to a satisfactory low value in a short time in a process of drying wet water-repellent powder.例文帳に追加

湿った撥水性粉末を乾燥させる過程において、撥水性粉末における水分の残留量を短時間で充分に低い値にまで低下させる。 - 特許庁

This laminated separator for a battery is made of a non-woven fabric containing at least polyolefin-fibers and characterized by being formed by laminating plural layers by a wet paper-making process.例文帳に追加

少なくとも、ポリオレフィン系繊維を含む不織布であり、湿式抄紙法にて複数の層が積層されてなることを特徴とする電池用積層セパレータ。 - 特許庁

Herein, since this carbide slag is produced in a wet manufacturing process for manufacturing acetylene in a slurry form, it is unnecessary to add water newly.例文帳に追加

ここで、カーバイド滓は、アセチレンを湿式で製造する製造プロセスで生成されたものであってスラリー状であるため、あらためて水を添加する必要はない。 - 特許庁

To provide a compound capable of forming an electron-accepting organic semiconductor film by forming a film by a wet process and chemical or physical treatment.例文帳に追加

塗布などの湿式法で製膜した後，化学的または物理的処理により電子受容性の有機半導体膜を形成できる化合物を提供する。 - 特許庁

An object of the invention is to provide a lamination liquid useful in a process for performing wet lamination of the photopolymerization film on a circuit board panel or on another substrate.例文帳に追加

本発明は、回路基板パネルまたは他の基板上に光重合性フィルムをウェットラミネートするためのプロセスに有用なラミネーション液を対象とする。 - 特許庁

Zirconia powder obtained in a wet process synthesis method such as a neutralizing method and a hydrolysis procedure collects primary minute particles to form a secondary agglomerate.例文帳に追加

中和法、加水分解法等の湿式合成法で得られるジルコニア粉末は、微細な一次粒子が集合して二次凝集粒子を形成している。 - 特許庁

The production method of a slurry aims to obtain a pigment for coating by wet pulverizing light calcium carbonate produced in a causticizing step in a pulp manufacturing process.例文帳に追加

パルプ製造工程の苛性化工程で製造された軽質炭酸カルシウムを湿式粉砕して塗工用顔料を得るためのスラリーの製造方法。 - 特許庁

This treatment process comprises subjecting a cement formed product waste material containing amorphous silica and/or crystalline silica, to wet pulverization in a specific aqueous medium into a superfine powder.例文帳に追加

非晶質シリカ及び／又は結晶質シリカを含むセメント成形品廃材を特定の水媒体中で湿式粉砕し、超微粉化することとした。 - 特許庁

In addition, the method includes the process of a second recessed part 20b is formed by laser processing on a face to be etched of the silicon substrate etched by the first wet etching.例文帳に追加

さらに、第１のウエットエッチングによってエッチングされたシリコン基板の被エッチング面に、レーザー加工によって第２の凹部２０ｂを形成する工程を有する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shield film which can easily be manufactured without containing a wet process and is excellent in visibility without causing an interference pattern (rainbow).例文帳に追加

湿式工程を含まずに容易に製造することができ、かつ、干渉斑（レインボウ）が発生せず視認性に優れる電磁波シールドフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a process for preparing porous products with a low density and a large specific surface area by controlling the shrinkage of a wet gel to dry the gel.例文帳に追加

湿潤ゲルの収縮を抑制して乾燥することによって低密度で比表面積の大きな多孔体を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To easily peel a thin semiconductor wafer from an adhesive tape by suppressing sticking of a glue when performing a wet process under the condition where the adhesive tape which can be peeled by thermal foaming is pasted over the entire main surface of the semiconductor wafer, and foaming the adhesive tape by heating after the wet process.例文帳に追加

半導体ウエハーの主面全体に加熱発泡により剥離可能な接着テープを貼り付けた状態でウエット処理を行った際の糊の貼りつきを抑制し、ウエット処理後に、接着テープを加熱して発泡させることにより、接着テープから薄型の半導体ウエハーを容易に剥離させること。 - 特許庁

This method for producing SS-EDDS anhydride crystal has a heating process for heating wet crystal of SS-EDDS containing ≥11 mass% water at 50-120°C and hold the wet crystal in ≥70% humidity for at least 10 minutes in the heating process.例文帳に追加

また、本発明のＳＳ−ＥＤＤＳ無水物結晶の製造方法は、含水率が１１質量％以上のＳＳ−ＥＤＤＳ湿結晶を、５０〜１２０℃で加熱する加熱工程を有すると共に、前記加熱工程において、前記湿結晶を、少なくとも１０分間、７０％以上の湿度下に置くことを特徴とする。 - 特許庁

The method for producing a liquid developer includes a coarse grinding process of coarsely grinding a resin material comprising a polyester resin and a rosin based resin to provide a coarsely ground material and a wet grinding process of performing wet grinding in an insulating liquid comprising polyalkylene imine and a dispersant.例文帳に追加

本発明の液体現像剤の製造方法は、ポリエステル樹脂とロジン系樹脂とを含む樹脂材料を粗粉砕し、粗粉砕物を得る粗粉砕工程と、前記粗粉砕物を、ポリアルキレンイミンと分散剤とを含む絶縁性液体中で湿式粉砕する湿式粉砕工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

This drying method has a high-frequency-wave heating process of heating, with high-frequency waves, a wet fiber mat 1 in which fiber is impregnated with a resin as a binder, and a heater heating process of heating the mat with a heater after the high-frequency-wave heating process.例文帳に追加

繊維にバインダーとしての樹脂を含浸した湿潤状態の繊維マット１を、高周波によって加熱する高周波加熱工程と、該高周波加熱工程に次いでヒーターによって加熱するヒーター加熱工程とで乾燥することを特徴とする。 - 特許庁

The unsaturated polyester resin composition of this invention is produced by blending 1-30 pts.wt. of a powdery polyethylene obtained by a wet process such as a chemical crushing process, an aqueous medium process or the like and having 5-100 μm for its middle particle size to 100 pts.wt. of the unsaturated polyester resin.例文帳に追加

本発明の不飽和ポリエステル樹脂組成物は、不飽和ポリエステル樹脂１００重量部に対して、化学粉砕法あるいは水媒法等の湿式法により得られた、中位粒子径が５〜１００μｍのポリエチレン粉末１〜３０重量部を配合してなる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a powder sintered compact by maintaining homogeneousness of a molded form in a wet pressing process for powder using a solvent, preventing problems in the process, giving good plasticity and/or strength to the molded form and improving its sintering property when the pressing process is followed by a sintering process.例文帳に追加

溶媒を用いた粉体の湿式成形方法において、成形体の均質性を保ち、工程中に不具合が生じないようにしながら、成形体に優れた可塑性及び／または強度を付与し、また成形工程に続いて焼結工程があるものについては、その焼結特性を向上させる。 - 特許庁

The manufacturing method of semiconductor device comprises a process (a) for forming the organic reflection preventing film 10 on the surface of a semiconductor substrate 1, a process (b) for applying organic solvent 11 on the surface of semiconductor substrate 1 to effect washing by wet etching the surface of the organic reflection preventing film 10, and a process (c) for forming a resist film 12 after the process (b).例文帳に追加

半導体基板１の表面に有機反射防止膜１０を形成する工程（ａ）と、半導体基板１の表面に有機溶剤１１を塗布し有機反射防止膜１０の表面をウエットエッチング洗浄する工程（ｂ）と、工程（ｂ）の後、レジスト膜１２を形成する工程（ｃ）とを含む。 - 特許庁

To provide a titanium group element based fluorine adsorbing-desorbing agent for fluorine-containing process liquid treatment for wet zinc smelting which does not increase equipment cost, running cost or the like, and with which process control is facilitated, and to provide a method for removing fluorine.例文帳に追加

設備費やランニングコストなどの増加をきたさず、工程管理も容易なフッ素を含む湿式亜鉛製錬用工程液処理用チタン族元素系フッ素吸脱剤、及び、フッ素除去方法を提供する。 - 特許庁

Next, only the largely damaged region of the HfSiON film 15 is selectively removed with the wet-etching process by conducting the cleaning process for about 90 seconds using the aqueous solution of hydrofluoric acid in the concentration of about 5%.例文帳に追加

次に、濃度が５％程度のフッ酸水溶液で９０秒程度の洗浄を行うことにより、ＨｆＳｉＯＮ膜１５のうちダメージが大きく与えられた領域のみが選択的にウェットエッチング除去される。 - 特許庁

To reduce the inventory of U_3O_8 and the cost necessary in a wet recovery process by increasing the addition ratio when adding U_3O_8 powder to raw material powder in a manufacturing process of UO_2 pellets.例文帳に追加

ＵＯ_２ペレットの製造工程に於いて、Ｕ_３Ｏ_８粉末を原料粉末に添加する場合の添加比率を大きくすることにより、Ｕ_３Ｏ_８粉末の在庫量や湿式回収処理に必要となるコストを低減すること。 - 特許庁

To perform patterning by wet etching with a high aspect ratio even on a thick metal plate in a process for producing a circuit board, a process for producing a power module substrate, the circuit board, and the power module substrate.例文帳に追加

回路基板の製造方法及びパワーモジュール用基板の製造方法並びに回路基板及びパワーモジュール用基板において、厚い金属板でも高アスペクト比でウェットエッチングによりパターン形成を行うこと。 - 特許庁

Next, in a process shown in Figure 1 (b), liquid 16 (pure water) soluble in etchant in a wet etching process which is stated later and forms a small contact angle with the resist mask 13 is applied on the surface of the wafer W.例文帳に追加

次に、図１（ｂ）に示す工程で、基板表面上に、後に述べるウェットエッチング工程で用いるエッチング液に可溶であり、且つ、レジストマスク１３に対して接触角の小さい液体１６（純水）を塗布する。 - 特許庁

The wet etching device 1 is capable of housing a substrate inside, and comprises a process bath 2 for holding a chemical liquid for etching and transportation arms 3a and 3b for transporting a semiconductor substrate 6 into the process bath 2.例文帳に追加

ウェットエッチング装置１は、内部に基板を収容可能であり、エッチングのための薬液を貯留する処理槽２と、処理槽２内に対して半導体基板６を搬送する搬送アーム３ａ・３ｂとを備えている。 - 特許庁

In a first etching process, the surface of a crystal material is wet-etched using a first etching composite containing a buffered hydrofluoric acid as a main component to perform an etching process over a wide area by a required etching quantity.例文帳に追加

第１エッチング工程において、バッファード弗酸を主成分として含有する第１エッチング組成物を用いて水晶材料の表面をウエットエッチングし、広い範囲で必要なエッチング量だけエッチング加工する。 - 特許庁

To provide a method for recovering copper, which reduces the amount of the sulfuric acid used in the process and a neutralizer, and jointly simplifies stages, in a wet type copper refining process of leaching a copper-containing sulfide using sulfuric acid.例文帳に追加

含銅硫化物を硫酸を用いて浸出する湿式銅製錬プロセスにおいて、プロセスで使用する硫酸量、中和剤を削減し、併せて工程を簡略化する銅の回収方法を提供する。 - 特許庁

To provide etching liquid capable of reducing variation in etching rate in the (211) face orientation of a silicon substrate at the time of wet etching the silicon substrate, and to provide its production process and a manufacturing process of a liquid ejection head.例文帳に追加

シリコン基板をウェットエッチングする際に、シリコン基板の（２１１）面方位のエッチングレートのばらつきを低減することができるエッチング液及びその製造方法、並びに液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide etching liquid capable of reducing variation in etching rate in the (100) face orientation of a silicon substrate at the time of wet etching the silicon substrate, and to provide its production process and a manufacturing process of a liquid ejection head.例文帳に追加

シリコン基板をウェットエッチングする際に、シリコン基板の（１００）面方位のエッチングレートのばらつきを低減することができるエッチング液及びその製造方法、並びに液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

This method comprises a film formation process for forming at least one of the organic light-emitting medium layers in a wet film formation process, by using an embrocation prepared by solving or scattering a prescribed formation material in a solvent.例文帳に追加

所定の形成材料を溶媒に溶解または分散させてなる塗布液を用いて前記有機発光媒体層のうち少なくとも一層を湿式成膜法により形成する成膜工程を有する。 - 特許庁