「bath-6」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The drive structure is used for rotating the roll 6 in the bath dipped in a hot dipping metal bath 2.例文帳に追加

溶融めっき用の金属浴２に浸漬される浴中ロール６を回転駆動するための構造である。 - 特許庁

A refrigerant bath 4 is constituted of a thin type container 6 and a cover part 7.例文帳に追加

冷媒槽４は、薄型容器６と蓋部品７から構成される。 - 特許庁

When the inside of a column a constant temperature bath 6 is to be inspected and maintained, a cover 24 is removed, and the constant temperature bath 6 is taken out of the frame 16.例文帳に追加

カラム恒温槽６の内部の点検や保守は、カバー２４を外してから、フレーム１６からカラム恒温層６を取り外して行なう。 - 特許庁

The apparatus comprises, as an initial stage, a conditioning bath 1 having an agitation function, a primary aeration bath 2 immediately after the conditioning bath 1, a denitrification bath 3 for decomposing nitrite nitrogen and nitrate nitrogen, a nitrification bath 4 for decomposing organic nitrogen, a sedimentation bath 5 for separating activated sludge, a secondary aeration bath 6, a coagulating sedimentation bath 7, and a filtration bath 8.例文帳に追加

攪拌機能を有する調整槽１を初段槽として、前記調整槽１の直後に一次曝気槽２を設けるとともに、亜硝酸性窒素および硝酸性窒素を分解する脱窒槽３、有機体窒素を分解する硝化槽４、活性汚泥を分離する沈殿槽５、二次曝気槽６、凝集沈殿槽７、および、ろ過槽８から構成されることを特徴とする。 - 特許庁

For example, it is immersed into a potassium cyanide (KCN) solution 4 in a treatment bath 6.例文帳に追加

例えば、処理槽６中のシアン化カリウム（ＫＣＮ）水溶液４中に浸漬する。 - 特許庁

The wet treatment device is provided with a chemical bath 1 for treatment a wafer 2, a sensor 6 for judging the amount of bubbles generated in the chemical bath 1, and a washing bath 15 for pulling up the wafer 2 from the chemical bath 1 after the treatment of the wafer 2 completed for washing.例文帳に追加

ウェハ２を処理する薬液槽１と、この薬液槽１で生ずる気泡の量を判定するセンサー６と、ウェハ２を処理終了後に薬液槽１から引上げて水洗いする水洗槽１５とを有する。 - 特許庁

When the jet bath apparatus B is operated, the air inside the bathroom 6 and the high oxygen concentration air are supplied to an ejector part 20 of the jet bath apparatus B.例文帳に追加

ジェットバス装置Ｂ運転時に浴室６内の空気と高酸素濃度の空気とをジェットバス装置Ｂのエジェクター部２０に供給する。 - 特許庁

This source (30) is mounted so as to emit a plasma jet (31) in order to strike the refining bath (27) directly in the upstream part so as to repel the unmelted elements in the melt bath (6).例文帳に追加

溶解プール(6)に不溶解物を押し戻すために、プラズマアーク源(30)から発生するプラズマジェット(31)が、上流部で精錬プール(27)を直接照射するようプラズマアーク源を設置する。 - 特許庁

The mist is generated in the bathtub 6 with the mist generator 1 to make the mist sauna bath possible.例文帳に追加

浴槽６内でミスト発生器１にてミストを発生してミストサウナ浴をし得るようにする。 - 特許庁

The weir is in the glass bath independently on the upper part of the clarifying wall 6.例文帳に追加

この堰は、上側の部分で完全に独立した状態でガラス浴の中に存在している。 - 特許庁

Next, using an electroless plating bath solution, a lower plated layer is formed on the insulation layers 5, 6.例文帳に追加

次に無電解めっき浴を用いて、絶縁層５，６全体に下地めっき層を形成する。 - 特許庁

The vertical plane (P) contains the normal to the wall at the point of intersection (20) between the propagation axes (17, 18) and the wall (4), so as to stir the melt bath (6).例文帳に追加

垂直平面（Ｐ）は溶解プール(6)を撹拌するための仕切り(4)と伝導軸(17，18)との交点(20)上にある仕切りに法線を含む。 - 特許庁

A small-sized submersible pump 1 is installed at the side bottom of a bathtub 5, while the hot water 6 in the bath is pumped up by it, and the pelting water is attained by the hot water 4 in the bath which naturally flows down.例文帳に追加

風呂桶５の横底に小型水中ポンプ１を設置し、それによって風呂の湯６を汲み上げ、自然に流下する風呂の湯４で打たせ湯とした。 - 特許庁

The output of the sensor 6 controls a wafer pull-up speed in the chemical bath 1 and valves 18 and 19 for determining the amount of water to be supplied to the washing bath 15.例文帳に追加

センサー６の出力は、薬液槽１でのウェハ引上げ速度と、水洗槽１５に供給する給水量を決定するバルブ１８，１９とを制御する。 - 特許庁

When the ozonizer 6 is started to generate ozone, ozone is dispersed through the semitransparent films 10a and 10b into a bath room and antifungus and deodorization in the bath room are carried out.例文帳に追加

オゾナイザー６を起動させオゾンを発生させると、オゾンは半透過膜１０ａ，１０ｂを通って浴室に拡散していき、浴室の抗菌及び脱臭を行う。 - 特許庁

The unit skeleton 1 has an inner room 6 storing water use facilities including at least a bath tub 51 and allowing the user to come in and out of the inner room 6 from the outside.例文帳に追加

ユニット躯体１には、少なくとも浴槽５１を含む水回り設備を収容して外部から出入りできる内室６を設ける。 - 特許庁

The fluorescence reaction bath 6 is formed above the photodiodes 2-1, 2-2 through the plurality of filters 8, 9.例文帳に追加

前記蛍光反応槽６は、前記フィルター８，９を介して前記フォトダイオード２−１、２−２上に形成する。 - 特許庁

After the flux solution is supplied to a nozzle 6 from the storage bath 11 to accumulate the flux solution in the nozzle 6, the flux solution is jet out from the nozzle 6 towards the printed board 2.例文帳に追加

貯留槽１１からノズル６へとフラックス溶液を供給してノズル６内にフラックス溶液を蓄積した後、ノズル６からプリント基板２に向かってフラックス溶液を噴出させる。 - 特許庁

Further, the centering tool 6 is formed from zinc or a zinc alloy and hence the immersion of the centering tool 6 in the molten zinc bath causes the tool to melt and vanish.例文帳に追加

また、芯出し用治具６は亜鉛または亜鉛合金によって形成されているから、溶融亜鉛浴中に浸漬されると、溶融して消失する。 - 特許庁

This steam generator 1 is provided with a porous body 6 partially immersed in a liquid bath W, and heating elements 8 for generating superheated steam S by heating water in the liquid bath supplied by a capillary phenomenon of the porous body.例文帳に追加

水蒸気発生装置(1)は、液浴(W)に部分的に浸漬した多孔質体(6)と、多孔質体の毛細管現象によって供給された液浴の水を加熱して過熱水蒸気(S)を発生させる発熱体(8)とを備える。 - 特許庁

Then the specimen 3 is rotated by a driving motor 5 linked to the support portion 6, and the flow bath 2 is suitably oscillated by an oscillation stand 8 linked thereto, to thereby agitate the polishing solution in the bath.例文帳に追加

支持部６に連係した駆動モータ５により試料３を回転させ、流動槽２はこれと連係した振動台８により適宜に振動させて槽内の研磨液をかき混ぜる。 - 特許庁

This dyeing apparatus 100 has a dye bath 4, a drying oven 70, a first water-washing bath 5 and a second water-washing bath 6 installed in series between a delivery machine 2 for delivering the wound PVDF-based monofilament 10 at a constant line speed, and a winder 3.例文帳に追加

染色装置１００は、巻回されたＰＶＤＦ系モノフィラメント１０を一定のライン速度で送出する送出機２と巻取機３との間に、染浴４、乾燥炉７０、第一水洗浴５及び第二水洗浴６が連設されたものである。 - 特許庁

Each plate group 10 is kept bathed in a electrolyte solution and the opening 1 of the mono-block bath 6 is closed with a capping plate in a solution- tight manner.例文帳に追加

各極板群１０に電解液を保持させ、モノブロック電槽６の開口部１を蓋板で液密に閉じる。 - 特許庁

The water is sucked by the water suction pump 14 from the bathtub or the like to be supplied to a washing/spin-drying tub 6 and the water level in the washing/spin-drying tub 6 is detected by a water level detection means 16 to set the suction of the bath water with a bath water setting switch.例文帳に追加

風呂の浴槽等から吸水ポンプ１４により吸水して洗濯兼脱水槽６に給水し、洗濯兼脱水槽６内の水位を水位検知手段１６により検知し、風呂水設定スイッチにより風呂水吸水を設定する。 - 特許庁

A pressing means 6 is installed above the hot dip galvanizing bath 1, dross inside the dross storage container 4 is pressed by a die 9 to squeeze out molten zinc, and returned into the hot dip galvanizing bath 1.例文帳に追加

溶融亜鉛めっき浴１の上方に押圧手段６を設置し、ドロス収容容器４の内部のドロスを金型９で押圧して溶融亜鉛をしぼり出し、溶融亜鉛めっき浴１中に戻す。 - 特許庁

When bath water of a bathtub is pumped up from the suction port 6 of the main body 5 by the pump 1 to be discharged from a discharge orifice part 7, air is sucked to discharge aerated bath water mixed with air.例文帳に追加

ポンプ１により浴槽の浴水を吸い上げて浴水を吐出する際にエアを吸い込んでエア混じりの気泡浴水として吐出するように構成した気泡浴水発生装置である。 - 特許庁

A drain port 4 is formed at the lower frame 3 of a mounting frame 2 of a bath room door 1 in a bath room 6 facing to an opening plane for draining water entering in the lower frame 3 to a washing area 5.例文帳に追加

浴室ドア１の取付枠２の下枠部３に、この下枠部３内に侵入する水を洗い場５に排水させる排水口４を、浴室６内に開口面を臨ませて形成する。 - 特許庁

At least two management regions where the change of the bath level of the molten steel is allowed to a slag line part 6 of the molten steel pan 1 are set.例文帳に追加

溶鋼鍋１のスラグライン部６に対して溶鋼の湯面の変化を許容する管理領域を２つ以上設定する。 - 特許庁

The hot water supply facility for bath comprises a circuit 2 for reheating a bath by circulating water in a bathtub 4 forcibly to a heat exchanger 6 for reheat through a circulation pump 6 for reheat thereby heating the water by means of the heat exchanger 6 wherein facility drain from the hot water supply facility is discharged to the bathtub 4 through the circulation pump 6 for reheat provided in the reheat circuit 2.例文帳に追加

追焚用循環ポンプ６により、浴槽４中の水を追焚用熱交換器６に強制循環して、この熱交換器６で加熱して風呂の追焚を行う追焚回路２を備えた風呂給湯設備に、給湯設備からの設備排水を、追焚回路２に備えられる追焚用循環ポンプ６を経由して浴槽４に排出するようにする。 - 特許庁

A water purifying device for bath tub has a purifying operation means which cleans water in a bath tub by circulating the water via a circulating flow path 6 and a bypass flow path 3, a filter cleaning means, and a circulating flow path cleaning means which cleans the circulating flow path by pouring a cleaning liquid only to the circulating flow path 6.例文帳に追加

浴槽水を循環流路６とバイパス流路３とを通って循環して浄化する浄化運転手段と、フィルタ洗浄手段と、循環流路６にのみ洗浄液を流して洗浄する循環流路洗浄手段とを有する。 - 特許庁

A dressing room 1, a bathroom 2 and a bath court 3 are arranged in one place and entrance/exit openings 4, 5 and 6 are provided respectively between the dressing room 1 and the bathroom 2, between the bathroom 2 and the bath court 3, and between the bath court 3 and the dressing room 1 to allow passage between them.例文帳に追加

洗面脱衣室(１)、浴室(２)、バスコート(３)を一箇所にまとめて配置し、洗面脱衣室(１)と浴室(２)との間、浴室(２)とバスコート(３)の間、及びバスコート(３)と洗面脱衣室(１)との間に、出入り用の開口部(４)(５)(６)を夫々設けて、これらの間を互いに行き来できるようにした。 - 特許庁

The surface height 19 of a reduction bath liquid and the boundary height 20 of a reactant-product bath liquid are independently set in the process of operation, so that the shape of a sponge lump 6 is cylindrically formed while evading the exposure of the sponge, and the space in the reduction bath liquid is effectively utilized.例文帳に追加

作業中に還元浴液浴面高さ１９、並びに、反応物—生成物浴液界面高さ２０を独立に設定することにより、スポンジ露頭を回避しつつスポンジ塊６形状を円柱状に形成し、還元浴液中の空間を有効活用する。 - 特許庁

Flexibility of the rotary joint 6 enables easier adjustment of the height of the bathtub after the installation of the bathtub even in the narrow bath room.例文帳に追加

回転継手６は可撓性を有しているため、狭い浴室であっても浴槽設置後に容易に浴槽の高さを調節できる。 - 特許庁

The rolling bearing 9 for supporting the planetary gears 8 gets in and out of an oil bath 16 in a casing 6 with the turn of the carrier 7.例文帳に追加

各遊星歯車８を支持する転がり軸受９は、キャリア７の旋回によってケーシング６内の油浴１６に出入りする。 - 特許庁

A waste solution container 6 containing a prescribed quantity of a waste solution of methylene chloride is put in a hot water bath 5 and set on a supporting plate 11.例文帳に追加

一定量の塩化メチレンの廃液を貯留した廃液容器６を温水槽５内に入れて支持板１１の上に載置する。 - 特許庁

The wet etching device 1 is capable of housing a substrate inside, and comprises a process bath 2 for holding a chemical liquid for etching and transportation arms 3a and 3b for transporting a semiconductor substrate 6 into the process bath 2.例文帳に追加

ウェットエッチング装置１は、内部に基板を収容可能であり、エッチングのための薬液を貯留する処理槽２と、処理槽２内に対して半導体基板６を搬送する搬送アーム３ａ・３ｂとを備えている。 - 特許庁

Liquid toner 6 stuck to the non-developing part of a developing roll 4 which supplies the liquid toner 6 to a photoreceptor drum 1 is scraped by a scraper device 20 and is dropped in a developing bath 5 being a toner tank.例文帳に追加

感光体ドラム１に液体トナー６を供給する現像ローラ４の非現像部に付着する液体トナー６をスクレーパ装置２０で掻き取り、トナータンクである現像桶５に落とす。 - 特許庁

A stator 11 for generating the rotating magnetic field is disposed on a part of a support frame 7 of the roll 6 in the bath, and a rotor 16 generating the rotating torque by the effect of the rotating magnetic field caused by the stator 11 and having no slip ring thereon is integrated with a portion in the vicinity of a shaft end of the roll 6 in the bath.例文帳に追加

浴中ロール６の支持フレーム７の一部に、回転磁界を発生する固定子１１を設け、浴中ロール６の軸端付近に、上記固定子１１による回転磁界の作用で回転トルクを生じる、スリップリングを付属しない回転子１６を一体化した。 - 特許庁

The dross (6) is pumped up from the plating bath surface, taken into the dross-housing frame (10) and left for a certain time as a dross-deposited layer (6_0).例文帳に追加

浮遊ドロス（６）をめっき浴面から汲み上げ、ドロス収容枠体（１０）に取り入れドロス堆積層（６_０）として一定時間放置する。 - 特許庁

A liq. carburizing agent 5 is melted in a salt bath 6 and is poured into a female screw part 2 formed at the tip part of a screw.例文帳に追加

ソルトバス６の中で液体浸炭剤５を溶融し、スクリュ先端部に形成された雌ネジ部２の中に液体浸炭剤５を注ぎ込む。 - 特許庁

A straitening vane 5, an ultraviolet lamp 6 and a material to be washed 7 are arranged in sequence from an upstream side of a gas 3 in a washing bath 2.例文帳に追加

洗浄槽２内において、気体３の上流側から順に整流板５、紫外線ランプ６及び被洗浄物７を配置する。 - 特許庁

A cleaner body 6 is connected with a bath boiler 2 through a passage connector 9 mounted on the circumferential wall of interconnection openings 3, 4.例文帳に追加

洗浄機本体６と風呂釜２とを浴槽内の連通口３・４の周囲壁に装着される通路接続装置９で接続する。 - 特許庁

A feed tube 6 for feeding the Japanese Sake 5 to the electrolytic bath 1 is connected to each of the cathode chamber 2 and the anode chamber 3.例文帳に追加

また、陰極室２及び陽極室３のそれぞれには、日本酒５を電解槽１に供給する供給管６が接続されている。 - 特許庁

The circulating purification apparatus comprises bath water circulating piping 2, filtration equipment 5, disinfectant dosing equipment 4, and ultraviolet irradiation equipment 6.例文帳に追加

浴槽水循環配管２と、ろ過設備５と、消毒剤添加設備４と、紫外線照射設備６とからなることを特徴とするものである。 - 特許庁