「complexing agent」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The electroplating liquid which contains copper ions and a complexing agent of the copper ions and has a pH ranging from 4 to 10, the plating method using such electroplating liquid, and the silicon wafer obtained by such plating operation.例文帳に追加

銅イオンおよび銅イオンの錯化剤を含み、ｐＨが４〜１０の範囲である電気めっき液、かかる電気めっき液を使用しためっき方法、およびかかるめっき操作により得られたシリコンウエハー。 - 特許庁

The electroless gold plating liquid comprises, as components, (i) a water soluble gold cyanide compound, (ii) a complexing agent, and (iii) a pyridinium carboxylic acid compound which has a phenyl group or an aralkyl group at a position 1.例文帳に追加

無電解金めっき液の成分として、（ｉ）水溶性シアン化金化合物、（ｉｉ）錯化剤、および（ｉｉｉ）１位にフェニル基またはアラルキル基を有するピリジニウムカルボン酸化合物を含有するめっき液。 - 特許庁

The oligonucleotide radical can bond specifically and with high bonding affinity to target structures, and can perform specific therapeutic or diagnostic effects by the bonded complexing agent or the complex.例文帳に追加

オリゴヌクレオチドラジカルは標的構造に特異的かつ高結合アフィニティーで結合することができ、これにより、結合複合剤又は複合体による特定の治療又は診断効果を行うことができる。 - 特許庁

The method for producing the charge control agent includes a process of synthesizing a specific azo-based metal complex by bringing an azo-based metal complex salt obtained by reacting a specific monoazo compound with a complexing agent into an ion exchange reaction with an ammonium counter-ion forming agent comprising urea and an inorganic ammonium salt.例文帳に追加

荷電制御剤の製造方法は、特定のモノアゾ化合物および錯化剤を反応させることによって得られるアゾ系金属錯塩と、尿素および無機アンモニウム塩よりなるアンモニウム対イオン形成剤とをイオン交換反応させることによって特定のアゾ系金属錯体を合成する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

The oxidizing agent, such as hydrogen peroxide, acts in the state that the titanium complexing agent is complexed to titanium ions and therefore the adhesion of hydrate to the titanium base metal surface and the generation of precipitate in the liquid do not occur and the adhesion property to the electrodeposition film in electroplating increases effectively.例文帳に追加

上記チタン錯化剤がチタンイオンに錯化した状態で過酸化水素などの酸化剤が作用するため、チタン素地面に水和物が付着したり、液に沈殿が生じることもなく、電気メッキに際して電着皮膜に対する密着性が有効に増大する。 - 特許庁

The surface of a semiconductor substrate which has a metal film is cleaned, while preventing the corrosion of the metal film, using cleaning liquid consisting of (1) hydrogen peroxide water, ozone water, or electrolytic anode water, (2) inorganic acid or an alkaline agent, and (3) a complexing agent and/or an interface activator.例文帳に追加

金属膜を有する半導体基板を、（１）過酸化水素水、オゾン水または電解アノード水、（２）無機酸またはアルカリ剤、（３）錯化剤および／または界面活性剤、からなる洗浄液を用いて、金属膜の浸食を防ぎつつ基板表面を洗浄する。 - 特許庁

To provide a polishing agent being adapted to polish semiconductor wafer, comprising a chelating agent having high complexing capability to copper ion, and avoiding undesired deposition and the deposition of iron hydroxide without inviting the problem of biological sewage disposal.例文帳に追加

半導体ウェハの研磨に適しており、銅イオンに対して高い錯化能力を有するキレート剤を含有し、同時に生物学的汚水処理の問題をまねくことがなく、ならびに望ましくない沈殿、殊に水酸化鉄の沈殿を回避するポリッシング剤を提供する。 - 特許庁

When an electroless plating bath containing metal ions, a complexing agent, a reducing agent and a pH adjusting agent is prepared and electroless plating is carried out using the electroless plating bath, the content of the reducing agent in the electroless plating bath is made equal to the amount of the reducing agent consumed until the end of electroless plating.例文帳に追加

無電解めっき浴を用意する工程における無電解めっき浴の還元剤の含有量を、前記無電解めっきを行う工程でのめっき終了時に還元剤が消費し尽くされる量とした、金属イオン、錯化剤、還元剤、ＰＨ調整剤を含む無電解めっき浴を用意する工程と、前記無電解めっき浴を用いて無電解めっきを行う工程とを有する、無電解めっき方法。 - 特許庁

The composition contains the compound (a) and the complexing agent (b) capable of forming the complex with the compound (a) and having ≤10^-1 dissociation constant at 25°C.例文帳に追加

本発明の組成物は、具体的には、化合物ａ）及び、化合物ａ）と錯体を形成することができ、かつ２５℃の温度で１０^-1に等しいか又はそれより小さい解離定数を有する錯化剤ｂ）を含む化粧組成物である。 - 特許庁

This gene transfer agent is produced by adsorbing or complexing a peptide having an RGD sequence to a complex of a nucleic acid with a polymer obtained by introducing a plurality of polymer chains as substituents to an aromatic ring.例文帳に追加

芳香環に複数の高分子鎖が置換基として導入された高分子化合物と核酸とのポリプレックスに対し、ＲＧＤ配列を有するペプチドを吸着又は複合させてなる遺伝子導入剤。 - 特許庁

The CMP slurry is formulated with an oxidizer, capable of oxidizing a metal undergoing planarization and yielding a complexing agent which complexes with the oxidized metal, thereby minimizing overetching.例文帳に追加

ＣＭＰスラリーは、平坦化される金属を酸化することができ、また酸化された金属と錯体を形成する錯化剤を生ずることができる酸化剤を使用して処方され、それによりオーバーエッチィングを最小限度に抑える。 - 特許庁

An organic complexing agent is stuck to the non-plating region in the material to be plated, and the material to be plated is subjected to electroless plating treatment, thus a plating layer is selectively formed on the plating region in the material to be plated.例文帳に追加

被めっき材の非めっき領域に有機錯化剤を付着させ、前記被めっき材に無電解めっき処理を施すことにより前記被めっき材のめっき領域にめっき層を選択的に形成する。 - 特許庁

To provide a method of producing complexes that contain a complexing agent and a useful complexant, in which the method omits one or more of the steps from the conventionally well-known production and/or purification method for producing such complexes.例文帳に追加

複合化剤および有用な複合体形成物質を含有する複合体を製造するための従来公知の製造および／または精製法から１以上の段階を省略する方法を提供する。 - 特許庁

Next, a method for electroless-nickel-plating the glass substrate comprises degreasing, sensitizing and catalysis-activating the glass substrate; and then electroless-nickel-plating it in an electroless nickel plating bath containing a carboxylic acid as a complexing agent.例文帳に追加

第２に、ガラス基板上に無電解ニッケルめっきを行う際、脱脂処理、感受性化及び触媒活性化処理後、錯化剤としてカルボン酸類を用いた無電解ニッケルめっき浴中で無電解ニッケルめっきを行う。 - 特許庁

The inkjet ink for the metallic pattern formation contains copper metal salt, complexing agent and the hydrazine system compound, characterized by containing a compound which has a reactivity with oxygen.例文帳に追加

銅金属塩、錯化剤およびヒドラジン系化合物を含有する金属パターン形成用インクジェットインクであって、酸素と反応性を有する化合物を含有することを特徴とする金属パターン形成用インクジェットインク。 - 特許庁

The faucet fittings made of the lead-containing copper alloy are immersed into a neutral, weakly basic or weakly acidic etchant containing a complexing agent having high complex ion formability with the lead, by which the lead particles on the surface are selectively removed.例文帳に追加

鉛含有銅合金製水栓金具を、鉛と錯イオン形成能力の大きい錯化剤を含む中性、弱塩基性若しくは弱酸性のエッチング液に浸漬し、表面の鉛粒子を選択除去する。 - 特許庁

Alternatively, the plating chemical containing the complexing agent and the reducing agent of ≥3 mols based on a first metal material of 1 mol mainly constituting a plating film, and prepared to ≥pH 9 is accommodated and used under the inert gas or ammonium atmosphere.例文帳に追加

あるいは、無電解メッキ処理薬液として、メッキ膜の主成分を供給する第１金属材料１モルに対してそれぞれ３モル以上の錯化剤と還元剤を含有し、ｐＨ９以上に調整された処理薬液を不活性ガスあるいはアンモニアガス雰囲気下に収容して用いる。 - 特許庁

Plating treatment is performed by using an electroless Ni plating liquid obtained by adding phosphoric acid or phosphate to the conventional electroless Ni plating liquid containing an Ni source, a reducing agent, a complexing agent or the like, so that the electronic component such as a ceramic multilayer substrate or the like is produced.例文帳に追加

Ｎｉ源、還元剤、及び錯化剤等が含有された従来の無電解Ｎｉめっき液にリン酸又はリン酸塩を添加し、該リン酸又はリン酸塩が添加された無電解Ｎｉめっき液を使用してめっき処理を施し、セラミック多層基板等の電子部品を製造する。 - 特許庁

In this noncyanic gold-tin alloy plating bath containing the salt of gold sulfite, the salt of thiosulfate, the soluble auric salt of halogenated auric acid or the like, a complexing agent of gold and soluble tin salt, a high polymer cationic surfactant and/or a high polymer cationic agent is incorporated.例文帳に追加

亜硫酸金塩、チオ硫酸金塩、ハロゲン化金酸などの可溶性金塩、金の錯化剤、可溶性スズ塩を含有する非シアン系金−スズ合金メッキ浴において、高分子カチオン系界面活性剤及び／又は高分子系カチオン性剤を含有する非シアン系金−スズ合金メッキ浴である。 - 特許庁

This invention relates to the electroless copper plating liquid forming a copper film on a nickel film by substitution reaction with a nickel metal, wherein the electroless copper plating liquid does not contains a reducing agent of copper and contains a complexing agent of copper relaxing the substitution reaction.例文帳に追加

ニッケル皮膜上にニッケル金属との置換反応によって銅皮膜を形成する無電解銅めっき液であって、前記無電解銅めっき液には、銅の還元剤が非含有であると共に、前記置換反応を緩和する銅の錯化剤が含有されていることを特徴とする。 - 特許庁

A protective film for covering buried wiring itself and/or its surface for protection is formed by plating by the use of a plating solution composed of copper ions, ions of a copper alloy composed of copper and non- solid solution metal, a complexing agent, and a reducing agent which includes no alkaline metal.例文帳に追加

銅イオン、銅と非固溶の金属からなる銅合金を得る金属の金属イオン、錯化剤、及びアルカリ金属を含まない還元剤を有するめっき液を使用しためっきを施して、埋込み配線自体及び／または該配線の表面を覆って保護する保護膜を形成するようにした。 - 特許庁

For reduction of cost of a catalyst material, low-cost precursor bodies of Pt and Ru are used, to which a complexing agent forming chelates in a synthetic system under existence of a reducing agent to narrow reduction potential differences of Pt and Ru, and synthesize PtRu system catalyst with Pt and Ru atoms fully combined into an alloy.例文帳に追加

触媒材料コスト低減のため、安価なPtおよびRuの前駆区体を使用し、還元剤の存在下、合成系内にキレートを形成する錯化剤を添加することにより、PtとRuの還元電位差を狭め、PtとRu原子が十分に混合合金化したPtRu系触媒を合成する。 - 特許庁

The autocatalytic electroless gold-plating liquid is formed of an aqueous solution including; (1) a water-soluble gold compound; (2) a complexing agent; (3) a reducing agent; and (4) at least one component selected from the group consisting of a compound containing a quaternary ammonium group and a compound containing a quaternary phosphonium group.例文帳に追加

（i）水溶性金化合物、（ii）錯化剤、（iii）還元剤、並びに（iv）第四級アンモニウム基を含む化合物及び第四級ホスホニウム基を含む化合物からなる群から選ばれた少なくとも一種の成分、を含有する水溶液からなる自己触媒型無電解金めっき液。 - 特許庁

The electroless palladium-nickel bath prepared by selecting and using amine and carboxylic acid or its derivative as a complexing agent in the electroless palladium-nickel bath containing hydrazine as a reducing agent, the plating method using the same and the plated products obtained by the method.例文帳に追加

ヒドラジンを還元剤とする無電解パラジウム−ニッケルめっき浴において錯化剤としてアミンとカルボン酸またはその誘導体を選択、使用することを特徴とする無電解パラジウム−ニッケル浴およびこれを用いるめっき方法ならびにこの方法により得られるめっき製品。 - 特許庁

The electroless copper plating solution is obtained by incorporating a compound having a disulfide bond (S-S bond) into an electroless copper plating solution containing a solvent, a copper salt, a complexing agent for copper ions, a pH conditioner, and a reducing agent.例文帳に追加

課題を解決するために本発明の無電解銅めっき液は、溶媒、銅塩、銅イオンの錯化剤、ｐＨ調整剤、及び還元剤を含む無電解銅めっき液において、ジスルフィド結合（Ｓ−Ｓ結合）を有する化合物をさらに含むことをその特徴とするものである。 - 特許庁

Polishing is carried out using an aqueous composition useful for CMP of a semiconductor wafer containing a metal and comprising an oxidizing agent, a nonferrous inhibitor, a nonferrous complexing agent, modified cellulose, 0.001-10 wt% of copolymer blend of first copolymer and second copolymer, and the remainder of water.例文帳に追加

金属を含有する半導体ウェーハのＣＭＰに有用な水性組成物であって、酸化剤、非鉄金属のインヒビター、非鉄金属の錯化剤、改質セルロース、第一のコポリマーと第二のコポリマーとのコポリマーブレンド０．００１〜１０重量％及び残余としての水を含む組成物を使って研磨する。 - 特許庁

By adopting a liquid phase reduction method where a reducing liquid comprising a B-based reducing agent is dropt to a raw material liquid comprising an iron salt, a complexing agent, a dispersant, a pH adjustor and a P-based reducing agent, the amorphous soft magnetic alloy powder having a grain size smaller than that of the metal powder by the conventional technique and having high saturated magnetic flux density can be obtained.例文帳に追加

鉄塩、錯化剤、分散剤、ｐＨ調整剤、Ｐ系還元剤を含む原料液に対して、Ｂ系還元剤を含む還元液を滴下する液相還元法を採用することで、従来技術による金属粉末よりも粒径が小さく、高い飽和磁束密度を有する非晶質軟磁性合金粉末を得ることができる。 - 特許庁

The method for manufacturing the metallic powder includes: a first process of producing aqueous solution containing metallic ion derived from metallic compound by melting metallic compound, a reducing agent, a complexing agent, and a dispersant; and a second process of reducing the metallic ion by the reducing agent by adjusting ph of the aqueous solution to deposit the metallic powder.例文帳に追加

金属化合物、還元剤、錯化剤、分散剤を溶解することにより、金属化合物に由来する金属イオンを含有する水溶液を作製する第１工程と、水溶液のｐＨ調整をすることにより金属イオンを還元剤により還元させ、金属粉末を析出させる第２工程とを備える金属粉末の製造方法。 - 特許庁

In the method for producing the fluid composition, a divalent copper oxide is mixed with a reducing agent in a liquid medium in the presence of a complexing agent and a protein-based protective agent to produce metal copper microparticles, then a proteolytic enzyme is added in the liquid medium to agglutinate the metal copper microparticles, and the obtained metal copper microparticles after separation and a dispersion medium are mixed to be prepared.例文帳に追加

錯化剤及びタンパク質系保護剤の存在下で、２価の銅酸化物と還元剤とを媒液中で混合して、金属銅微粒子を生成させた後、媒液中にタンパク質分解酵素を添加して金属銅微粒子を凝集させ、分別した得られた金属銅微粒子と分散媒とを混合して調製する。 - 特許庁

The catalyst solution for electroless plating comprises a water- soluble palladium chloride or palladium sulfate as a palladium salt, potassium pyrophosphate and/or sodium pyrophosphate as an inorganic salt, and an organic acid having a carboxyl group as a complexing agent.例文帳に追加

パラジウム塩として水溶性の塩化パラジウムまたは硫酸パラジウムと、無機塩としてピロリン酸カリウムおよび／またはピロリン酸ナトリウムと、錯化剤としてカルボキシル基を持つ有機酸とを含む無電解めっき用触媒液を使用する。 - 特許庁

The tin plating bath contains a stannous salt, a complexing agent, at least one surfactant as a brightener, and at least one halogen compound in a content of 10-1,000 mol/m^3 expressed in terms of a halogen.例文帳に追加

スズめっき浴が、第１スズ塩、錯化剤、及び少なくとも１種以上の光沢剤としての界面活性剤に加え、少なくとも１種以上のハロゲン化合物をハロゲン換算で１０ｍｏｌ／ｍ^３〜１０００ｍｏｌ／ｍ^３含有している。 - 特許庁

A displacement-silver-plating bath containing a soluble silver salt and a complexing agent formed of a sulfur-containing compound such as thiourea further includes at least one of a chlorine-containing compound and a bromine-containing compound.例文帳に追加

可溶性銀塩と、チオ尿素類などの含イオウ化合物からなる錯化剤とを含有する置換銀メッキ浴において、塩素含有化合物及び臭素含有化合物の少なくとも一種を含有する置換銀メッキ浴である。 - 特許庁

The non-cyanide electroless gold plating solution does not contain cyan-based compound, and bis-(3-sulfopropyl) disulfide is added thereto as a complexing agent for stabilizing gold.例文帳に追加

本発明に係る非シアン無電解金めっき液は、シアン系化合物を含有しない非シアン無電解金めっき液において、該無電解金めっき液には、金の安定化錯化剤として、ビス−（３−スルホプロピル）ジスルファイドが添加されていることを特徴とする。 - 特許庁

This processing liquid contains water, an amphoteric surfactant, an anionic surfactant, a complexing agent, resin particles having carboxyl groups and sulfonyl groups on surfaces and each primary particle size ≥10 mm and ≤60 mm, and tetramethyl ammonium hydroxide.例文帳に追加

水と、両性界面活性剤と、陰イオン性界面活性剤と、錯化剤と、表面にカルボキシル基およびスルホニル基を有し、一次粒子径が１０ｎｍ以上６０ｎｍ以下の樹脂粒子と、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドとを含有する処理液である。 - 特許庁

In the coloration method for discriminating the asbestos, a specific metal in an asbestos structure is turned into a complex by a coloration-use complexing agent in order to selectively color the asbestos, thereby enabling the asbestos which is contained in the product, such as the building material, to be recognized visually.例文帳に追加

アスベスト構造中の特定の金属をアスベスト着色用錯化剤で錯化することによりアスベストを選択的に着色し、建材等製品中のアスベストを視覚的に確認できるようにしたアスベストの着色判別方法。 - 特許庁

The polishing slurry for the copper CMP includes a first complexing agent including a heterocyclic compound forming a water-insoluble complex with copper, and a second complex agent including a heterocyclic compound forming a slightly water-soluble or water-soluble complex to leave one and more a ligand after forming the complex.例文帳に追加

銅と水不溶性錯体を形成するヘテロ環化合物を含有する第１の錯体化剤と、銅と水難溶性ないし水可溶性錯体を形成し、錯体形成後に１個以上の配位子を余すヘテロ環化合物を含有する第２の錯体化剤とを含むことを特徴とする銅のＣＭＰ用研磨スラリー。 - 特許庁

A divalent copper oxide is mixed with a reducing agent in a liquid medium to produce metallic copper microparticles, in the presence of: at least one complexing agent selected from amines, nitrogen-containing heterocyclic compounds, nitriles and cyanogen compounds, ketones, amino acids and alkanolamines, or the salts or derivatives of them; and a protective colloid.例文帳に追加

アミン類、窒素含有複素環化合物、ニトリル類及びシアン化合物、ケトン類、アミノ酸類、アルカノールアミン類またはそれらの塩または誘導体から選ばれる少なくとも１種の錯化剤、及び保護コロイドの存在下で、２価の銅酸化物と還元剤とを媒液中で混合して、金属銅微粒子を生成させる。 - 特許庁

The plating solution is used for depositing the Ni-B alloy film by electroless plating at least on a part of the wiring of electronic device equipment having buried wiring structure and contains a nickel ion, a complexing agent for the nickel ion, alkylamine borane or borohydride compound as a reducing agent for the nickel ion, and an ammonia ion (NH4+).例文帳に追加

埋め込み配線構造を有する電子デバイス装置の配線の少なくとも一部にＮｉ−Ｂ合金膜を無電解めっきで形成するめっき液であって、ニッケルイオン、ニッケルイオンの錯化剤、ニッケルイオンの還元剤としてのアルキルアミンボランまたは硼素化水素化合物及びアンモニアイオン（ＮＨ_４^＋）を含有する。 - 特許庁

To provide a recycling method for a gold plating solution by which current efficiency or a current density is remarkably recovered, and adsorption of the components (i.e., gold salt, conduction salt, a complexing agent and a crystal control agent) in the gold plating solution is suppressed, and a film having a crystal structure same as that in the initial gold plating solution can be formed.例文帳に追加

電流効率又は電流密度範囲を著しく回復され、金めっき液の成分（即ち、金塩、伝導塩、錯化剤及び結晶調節剤）の吸着が抑制され、かつ当初の金めっき液と変わらない結晶構造の皮膜を生成可能な、金めっき液の再生処理方法を提供すること。 - 特許庁

This electroplating pretreatment liquid for titanium contains a water-soluble oxidizing agent, such as hydrogen peroxide, a water-soluble complexing agent which is at least one kind of compounds selected from the group consisting of polyamines, oxycarboxylic acids, aminocarboxylic acids, phenols, ascorbic acids and polyphosphoric acids and a base and is prepared to neutrality or alkalinity.例文帳に追加

過酸化水素などの水溶性酸化剤と、ポリアミン類、オキシカルボン酸類、アミノカルボン酸類、フェノール類、アスコルビン酸類、ポリリン酸類よりなる群から選ばれた化合物の少なくとも一種である水溶性チタン錯化剤と、塩基を含有し、中性乃至アルカリ性に調整されたチタン用の電気メッキ前処理液である。 - 特許庁

The substrate containing copper and tantalum or tantalum nitride, or both tantalum and tantalum nitride is polished using a chemical mechanical polishing slurry including at least a polishing material, an oxidant, a complexing agent, at least a film forming agent, and acetic acid, wherein the mass ratio of the oxidant for acetic acid is at least 10 or larger.例文帳に追加

少なくともひとつの研磨材、酸化剤、錯化剤、少なくともひとつの膜形成剤および酢酸を含み、酢酸に対する酸化剤の質量比が少なくとも１０か、それより大きい化学的機械研磨スラリーを用いて銅およびタンタルもしくは窒化タンタル、またはタンタルおよび窒化タンタルの両方を含む基体を研磨する。 - 特許庁

An aqueous solution comprising: a bivalent iron salt (1); a cerium salt (2); an antioxidant (3); and a complexing agent (4) which forms a complex with iron but does not form a complex with cerium is used as a plating bath, and an Fe-Ce-O granular thin film is deposited by electrodeposition.例文帳に追加

（１）二価鉄塩、（２）セリウム塩、（３）酸化防止剤、及び（４）鉄と錯体を形成するがセリウムとは錯体を形成しない錯化剤を含む水溶液をめっき浴として使用し、電析によりＦｅ−Ｃｅ−Ｏグラニュラ薄膜を形成する。 - 特許庁

To provide an electrolytic tin plating solution containing no complexing agent, extremely small in coupling rate in electrolytic tin plating, particularly using a barrel method and having excellent solder wettability and a plating method.例文帳に追加

本発明は、錯化剤を含有せず、電気錫めっきを行う場合、特にバレルめっき法を用いて電気錫めっきを行う場合にカップリングレートが極めて小さく、かつはんだぬれ性の良好なめっき液及びめっき方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Instead of ethylenediaminetetraacetic acid-2 sodium (EDTA-2Na), the other complexing agent such as trans1,2diaminocyclohexane-N,N,N',N'-tetraacetic monohydrate (CyDTA) and diethylenetriamine-N,N,N',N'',N'''-pentaacetic acid (DTPA) can be used.例文帳に追加

また、エチレンジアミン四酢酸・２ナトリウム（ＥＤＴＡ・２Ｎａ）に代えて、トランス１，２ジアミノシクロヘキサン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸一水和物（ＣｙＤＴＡ）、ジエチレントリアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ’’’−五酢酸（ＤＴＰＡ）などの他の錯化剤を使用することができる。 - 特許庁

To provide a nickel plating solution in which an organic complexing agent is not used, which has a pH within the neutral range where ceramics and protection coat layers thereof are hardly eroded and with which the conventional productivity can be obtained, and to provide an electroplating method using the nickel plating solution.例文帳に追加

有機系錯化剤を使用せず、セラミックスやその保護コート層の浸食の少ない中性領域のｐＨを備え、従来通りの生産性が得られるニッケルめっき液、及び、そのニッケルめっき液を用いた電気ニッケルめっき方法を提供する。 - 特許庁