「density pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目)

フォトマスクを描画パターンの描画密度変化の所定値を予め定める工程と描画パターンの描画密度変化を求める工程と、求めた描画密度変化が予め定めた所定値より大きい場合には、描画密度変化が所定値以下になるように描画パターンを複数に分割する工程とを備えた作製方法により、ドリフトを抑制することを可能とした。 - 特許庁

例文

The toner density estimating method includes: sensing photo-reflectance of a test pattern having a plurality of grayscales formed by using toner; and estimating a toner density based on a rate of change in the photo-reflectance sensed by the grayscales of the test pattern.例文帳に追加

トナーを用いて形成された複数階調のテストパターンの光反射特性を検知し、テストパターンの階調による検知された光反射特性の変化率からトナーの濃度を推定するトナー濃度推定方法である。 - 特許庁

例文

To provide a pattern forming method by which a pattern can be formed with high definition by homogenizing influences of fluctuation in luminous energy of exposure light due to pattern distortion so as to decrease variance in resolution or density irregularity of a pattern, and a desired pattern having different thicknesses can be formed with high definition.例文帳に追加

パターン歪みによる露光量のばらつきの影響を均し、パターンの解像度のばらつきや濃度のむらを軽減することにより、前記パターンを高精細に形成可能であり、かつ、厚みが異なる所望のパターンを高精細に形成可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a circuit substrate capable of forming a convex pattern on a metal layer of a carrier where a metal layer is laminated, and forming a high density circuit pattern by transferring the convex pattern to an insulating layer.例文帳に追加

金属層が積層されているキャリアの金属層に凸状パターンを形成し、これを絶縁層に転写することにより高密度の回路パターンを形成できる回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus which are capable of improving the uniformity of pattern sizes independent of a position within the surface of a substrate to be processed and inhibiting variations in pattern sizes due to a pattern drawing density.例文帳に追加

被処理基板の面内位置によるパターン寸法の均一性向上及びパターン描画密度によるパターン寸法のバラツキを抑制することができる基板処理方法及び基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a flip chip ball grid array substrate equipped with a high-density circuit pattern and a core of ultra-thin plate, and also to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

高密度の回路パターンおよび超簿板のコアを具備したフリップチップボールグリッドアレイ基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a metalized ceramic substrate having a wiring pattern with high density, high definition, and high conductivity.例文帳に追加

高密度、高精細であり、かつ、高い導電性を有する配線パターンを有するメタライズドセラミックス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a hologram recording method by which an interference pattern can be recorded in a volumetric holographic memory with high density and to provide a recording and reproducing device.例文帳に追加

体積ホログラフィックメモリへ高密度で干渉パターンを記録できるホログラム記録方法及び記録再生装置を提供する。 - 特許庁

To satisfactory attain a purpose on image quality intended by a pattern for binary data generation in a density pattern method or the like even if the feed quantity in multipath recording is changed.例文帳に追加

マルチパス記録におけるフィード量の変更があっても、濃度パターン法などにおける２値データ生成のためのパターンが意図した画質上の目的を良好に実現することを可能とする。 - 特許庁

To provide a method of forming fine patterning of a semiconductor device in which patterns differing in pattern density or pattern width and having various sizes and various pitches are formed on one substrate at the same time.例文帳に追加

同じ基板上にパターン密度またはパターン幅の相異なる多様な大きさ及び多様なピッチのパターンを同時に形成できる半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method of a semiconductor element, which can simultaneously form patterns having a variety of widths, and can increase a pattern density in part of regions by double patterning technique.例文帳に追加

多様な幅を有するパターンを同時に形成しつつ、一部領域ではダブルパターニング技術によりパターン密度を増加させることができる半導体素子のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a drawing method applicable to an ordinary drawing system using a positive resist and drawing patterns by irradiating the portions where there is no pattern data with an electron beam or laser beam in the drawing method for a photomask with the additional patterns provided with the additional patterns for making the pattern density of the photomask uniform and to provide a method for forming the pattern data used therefor.例文帳に追加

フォトマスクのパタン密度を均一化する付加パタンを設けた、付加パタン付きフォトマスクの描画方法で、ポジレジストを用い、パタンデータの無い部分に電子ビームまたはレーザ光を照射して描画する、通常の描画方式に適用できる描画方法を提供する。 - 特許庁

In the pattern forming method in which the surface layer of a substrate 1 is patternwise etched using a resist pattern as a mask, the pattern forming region of the surface of the substrate 1 is divided into a dense first region 2a and a thin second region 2b in accordance with pattern forming density.例文帳に追加

基板１の表面層に対して、レジストパターンをマスクに用いたパターンエッチングを施すパターン形成方法において、基板１表面のパターン形成領域を、パターンの形成密度に応じて密な第１領域２ａと疎な第２領域２ｂとに分割する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a pattern with high sensitivity, excellent resolution of a trench pattern and good density distribution dependency, in order to stably form a high-precision fine pattern for producing a high-integration and high-precision electronic device.例文帳に追加

高集積且つ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、高感度、且つトレンチパターンの解像性に優れ、更には疎密依存性の良好なパターンを形成する為のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a photolithographic pattern, wherein a resist pattern is treated with a substance effective to make the surface of the resist pattern surface alkaline in the manufacture of semiconductor devices for forming high-density lithographic patterns and features.例文帳に追加

高密度リソグラフィパターンおよびフィーチャーを形成するための半導体デバイスの製造におけるレジストパターンの表面をアルカリ性にするのに有効な物質でレジストパターンを処理する、フォトリソグラフィパターンを形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a forming method of a high density recording medium by which costs are reduced and signal characteristics (C/N) can be improved, to provide a pattern forming method and to provide its recording medium.例文帳に追加

コストが節減され、かつ信号特性（Ｃ／Ｎ）を改善できる高密度記録媒体の形成方法、パターン形成方法及びその記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern, a method for fabricating a semiconductor device, and an apparatus for forming the resist pattern, in which advantages of sililation process is displayed while line width can be controlled precisely and uniformly in plane irrespective of density or size of the pattern.例文帳に追加

パターンの粗密やサイズに関係なく、高精度且つ面内均一に線幅制御が可能でありながら、シリル化プロセスの利点を生かすことができるレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法およびレジストパターンの形成装置を提供すること。 - 特許庁

Power density of a laser beam in the fine pattern correction method is lowered by preparing an objective lens 34 at a designated position at first.例文帳に追加

この微細パターン修正方法では、最初は対物レンズ３４を所定のデフォーカス位置に配置してレーザ光のパワー密度を低くしておく。 - 特許庁

To provide a printed wiring board which reconciles both a thin-line and high-density conductor pattern and connection reliability, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

導体パターンの細線化及び高密度化と接続信頼性の双方を兼ね備えたプリント配線板と、その製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a design method, a design device and a program for a semiconductor device, that can form a dummy pattern with suitable density.例文帳に追加

適切な密度のダミーパターンを生成することができる半導体装置の設計方法、設計装置及びプログラムを提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a circuit board, which can manufacture a circuit board having a high-density circuit pattern without adding insulators.例文帳に追加

絶縁体を増加することなく高密度回路パターンを有する回路基板を製造できる回路基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a circuit device which improves the wiring density of a conductive pattern formed on the top face of a circuit substrate, and to provide a method of manufacturing the circuit device.例文帳に追加

回路基板の上面に形成される導電パターンの配線密度を向上させた回路装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a flexible printed circuit board whereby extremely high adhesion is obtained and a high-density pattern can be made by etching.例文帳に追加

密着性が非常に強固でエッチングによる高精細パターン化が可能なフレキシブルプリント回路基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a polyester warp knitted fabric in which a pattern is formed by the roughness and fineness of knitted fabric density, to provide a method for producing the same, and to provide a fiber product.例文帳に追加

編地密度の粗密により模様が形成されてなるポリエステル経編地およびその製造方法および繊維製品を提供する。 - 特許庁

To provide a high quality image processor, capable of reducing the generation of the chain-shaped specific pattern, in a low density region using an error diffusion method.例文帳に追加

誤差拡散法において低濃度域の鎖状の特異模様の発生を抑えた高画質な画像処理装置を提供するものである。 - 特許庁

To provide a servo writing method achieving stable servo track density even if there is a variation in the inclination of a spiral servo pattern.例文帳に追加

スパイラルサーボパターンの傾き変動がある場合でも、安定したサーボトラック密度を実現できるサーボ書込み方法を提供することにある。 - 特許庁

To solve a problem that image quality of a medium tone image is degraded due to a density change by dot deformation because a hounds-tooth check pattern is caused over medium density regions when a conventional error diffusion method is applied to a laser beam printer.例文帳に追加

従来の誤差拡散法をレーザビームプリンタに適用すると、中間濃度域にかけて千鳥格子パターンが発生し、ドット潰れによる濃度変化で、中間調画像の画質低下を生じる。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device comprises the step of predicting flatness of polishing in the case of using a stopper film by using two parameters of a value of a pattern density in a first area representing a processing pressure, and a value of a pattern density in a second area representing a selection ratio.例文帳に追加

加工圧力を代表する第１の領域内のパターン密度の値と、選択比を代表する第２の領域内のパターン密度の値の２つのパラメータを用いることにより、ストッパ膜を用いる場合における研磨の平坦性予測を行う。 - 特許庁

The method of refreshing the toner in two-component developing apparatus includes: detecting a change in toner density in the developing apparatus by using a toner density sensor when a predetermined toner consumption pattern is developed; and carrying out a toner-consuming operation so that the phase of the waveform output from the toner density sensor and generated when the second toner consumption pattern is developed, is out-of-phase with the detected first waveform output from the toner density sensor.例文帳に追加

２成分現像装置におけるトナーリフレッシュ方法において、所定のトナー消費パターンを現像したときの現像装置内のトナー濃度の変化をトナー濃度センサにより検知し、該検知した１回目のトナー濃度センサの出力波形に対して、２回目のトナー消費パターンを現像するときのトナー濃度センサの出力波形の位相がズレるようにトナー消費動作を行う。 - 特許庁

To provide an aligner for forming a microstructural pattern with high precision by controlling dispersion in pattern density-dependent line widths in a chip, and to provide a method for manufacturing semiconductor devices.例文帳に追加