「density pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for producing a metal transfer sheet, in which a specified pattern can be formed easily at a fine pitch, a metal transfer sheet produced by the producing method, and wiring circuit board in which currently requested fine pitch can be dealt with, using the metal transfer sheet, and high density wiring can be realized.例文帳に追加

所定のパターンをファインピッチで容易に形成することのできる金属転写シートの製造方法、および、その製造方法によって得られる金属転写シート、さらには、その金属転写シートが用いられ、近年要求されているファインピッチ化に対応することができ、高密度配線を図ることのできる配線回路基板を提供すること。 - 特許庁

This imprinting method has a transfer process to press the roughened section of a mold structure against the resist layer to transfer the asperity pattern to the resist layer, and a surface modifying process to modify the surface by radiating either an ionizing radiation ray or a far-ultraviolet ray to the resist layer after forming the above asperity pattern to increase the carbon-carbon bonding density at least on the outermost surface of the resist layer.例文帳に追加

モールド構造体の凹凸部をレジスト層に押し付けて該レジスト層に凹凸パターンを転写する転写工程と、前記凹凸パターン形成後のレジスト層に電離性放射線及び遠紫外光のいずれかを照射して、該レジスト層の少なくとも最表面部分の炭素−炭素結合密度を増加させて表面改質する表面改質工程とを含むインプリント方法である。 - 特許庁

To provide an acid-degradable resin imparting good properties to a resist composition and having an alicyclic group, and a method for producing the acid-degradable resin; and to provide the positive-type resist composition having excellent properties of having a wide process window and a small dependency on the pattern density by using the acid-degradable resin.例文帳に追加

レジスト組成物に良好な性能をもたらす脂環基を有する酸分解性樹脂及びその製造方法を提供することであり、また、当該酸分解性樹脂を用いることによりプロセスウインドウが広く、疎密依存性が小さい優れた性能を有するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

In a method for designing the semiconductor integrated circuit by arraying standard cells Sc1, at the ends of gate patterns 5 constituting the standard cells Sc1, dummy patterns 3 are disposed in the direction perpendicular to the gate patterns 5, and reduction in the gate pattern possession density at the ends of the gate patterns 5 is compensated by disposing the dummy patterns 3.例文帳に追加

標準セルＳｃ１を配列して半導体集積回路を設計する方法において、標準セルＳｃ１を構成するゲートパターン５の端部に、該ゲートパターン５と垂直な方向にダミーパターン３を配置し、該ダミーパターン３の配置により、ゲートパターン５の端部での該ゲートパターンの占有密度の低下を補う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a magnetic recording medium by which a magnetic recording medium with high recording density is obtained without blurring of a pattern on a magnetic layer, which can be a simple and convenient manufacturing process, and by which manufacturing is conducted with high productivity and a high yield, and to provide the magnetic recording medium and a magnetic recording and playing back device.例文帳に追加

磁性層のパターンが不鮮明になることなく高記録密度の磁気記録媒体が得られるとともに、簡便な製造工程とすることができ、高い生産性で歩留まり良く製造することが可能な磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a resin circuit board in which catalyst metal in a surface layer of a base made of a polymer resin is suitably removed without damaging the base even when a metal circuit pattern having higher surface density than on a surface of the base is formed using the catalyst metal.例文帳に追加

触媒金属を用いて、高分子樹脂からなる基材の表面により表面密度の高い金属回路パターンを形成した場合であっても、基材にダメージを与えることなく、基材の表面層にある触媒金属を好適に除去することができる樹脂回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a simple and easy-to-prevail device for manufacturing a printed wiring board without raising cost, and a method for manufacturing with a sufficient yield a high-density and highly precise printed wiring board having the uniform precision of a conductor pattern on its top and bottom surfaces without reducing productivity.例文帳に追加

製造装置の製造コスト高騰を招くことなく簡便かつ普及が容易なプリント配線板の製造装置を提供し、生産性を低下させることなく上下面の導体パターン精度を均一にし、高密度・高精度のプリント配線板を歩留まりよく生産することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a method for filling molding sand into a molding flask by blowing with which the filling of the molding sand can be performed by eliminating the sand clogging of a sand blowing hole or a sand blowing nozzle and also, the sand filling density in a molding space on the plural shaped parts of a pattern plate can partially be adjusted.例文帳に追加

砂吹込み口あるいは砂吹込みノズルの砂詰りをなくして充填を行うことができると共に造型空間におけるパタ−ンプレ−トの複雑形状部の砂充填密度を部分的に調整することができる鋳物砂の鋳枠への吹込み充填方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed circuit board with no plated lead-in wire, where the part unrelated to the function of the printed circuit board is removed to maximize the performance of the printed circuit board, and to increase the density of the circuit pattern formed on the printed circuit board and to improve the reliability of the product formed by using it.例文帳に追加

本発明は、印刷回路基板の機能と関係がない部分を除去して印刷回路基板の性能を極大化して、印刷回路基板に形成される回路パターンの密集度を高め、これを用いて形成される製品の信頼性を高める印刷回路基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the color filter includes processes of: forming the negative type films 18 by using green, blue and red colored compositions in accordance with a plurality of photo-electric conversion elements 12 in an imaging device 14; performing pattern-exposure of the films via a density distribution mask; and thereafter, developing the film to form the outer surface of each color filter into a convex lens shape.例文帳に追加

カラーフィルター製造方法は：撮像素子１４の複数の光電変換素１２に対応して緑，青，赤色組成物によりネガ型膜１８を形成し、この膜を濃度分布マスクを介してパターン露光した後に現像し、現像後に各色フィルターの外表面が凸レンズ形状に形成されている。 - 特許庁

In an imaging method having an increased resolution imaging process and a halftone process, a matrix size of the dither is made an integral multiple of a resolution increase coefficient (a ratio of a resolution of images and the resolution of imaging control electrodes), thereby preventing interference fringes between the density irregularity and the dither pattern.例文帳に追加

高解像度化画像形成工程とディザーを用いた中間調処理工程とを有する画像形成方法において、ディザーのマトリックスサイズを、高解像度化係数（画像の解像度と画像形成制御電極の解像度の比）の整数倍とし、濃度むらとディザーのパターンとの干渉縞が発生しないようにした。 - 特許庁

To provide an optical member inspection method for inspecting quality of an optical member such as a lens in an image inspection apparatus and capable of exactly evaluating defect factors of an object to be inspected whose shot image indicates a parallel stripe density pattern.例文帳に追加

レンズ等の光学部材の品質を検査するための画像検査装置における光学部材検査方法であって、撮影した画像に平行縞状の濃淡模様が現れるような被検物に対しても不良要因の評価をより厳密に行うことが可能な光学部材検査方法を提供することである。 - 特許庁

To provide an image processing method wherein the total consumption of consumption articles is reduced, while the character quantity of a font part of a printer is maintained by making periodic unevenness, caused by dot thinning processing using a conventional pattern, is less likely to appear, when image density or the consumption of consumption articles is reduced by the dot thinning processing.例文帳に追加

ドットの間引き処理により画像濃度あるいは消耗品使用量を低減する場合、従来のパターンを用いたドットの間引き処理により生じる周期ムラを発生しにくくし、プリンタのフォント部の文字品位を保ったまま、全体の消耗品使用量を低減する画像処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a recording head having high reliability by a method wherein electric open or short of each wiring pattern is surely inspected even when a recording aperture and a control IC chip are arranged on a substrate with high density in a structure, for example, that the control IC chips are arranged at both sides of the recording aperture.例文帳に追加

例えば記録用開口部を挟んだ両側に制御用ＩＣチップを配置するといった、記録用開口部及び制御用ＩＣチップを基板に高密度で配置する構成を採用する場合であっても、各配線の電気的なオープン・ショートを確実に検査して、信頼性の高い記録ヘッドを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a structure in a cell with high definition by decreasing variance in resolution or irregular density of the pattern formed on the exposure face of a photosensitive layer without using a photomask, to provide a structure in a cell with high definition manufactured by the above method for manufacturing a structure in a cell, and to provide a display device using the structure in a cell.例文帳に追加

フォトマスクを用いることなく、感光層の被露光面上に形成される前記パターンの解像度のばらつきや濃度のむらを軽減することにより、セル内構造を、高精細に形成可能な製造方法、及び該セル内構造の製造方法により製造される高精細なセル内構造、並びに該セル内構造を用いた表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the pixel formation area preformed on a transparent substrate, an ink layer is formed by selectively sticking the curable color ink of ≥40 wt.% in solid-component density which contains a pigment and a curable component with an ink jet method, and the ink layer is cured by light irradiation and/or heat irradiation to form a prescribed pattern.例文帳に追加

透明基板上に予め形成される画素形成領域に、顔料および硬化可能な成分を含む固形分濃度が４０重量％以上である硬化性カラーインクを、インクジェット法によって選択的に付着させて、インク層を形成し、該インク層を、光照射および／または熱照射によって硬化させて所定のパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a resist composition superior in dissolution contrast by simultaneously satisfying high sensitivity, excellent line edge roughness and excellent density independence, and to provide a pattern-forming method using it.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a solid-state imaging device includes: a step for forming an imaging area and a peripheral circuit area on a substrate; a step for forming a plurality of wiring patterns so that the wiring pattern density of the peripheral circuit area may be higher than that of the imaging area; and a step for forming an insulation film to embed among the wiring patterns.例文帳に追加

本発明の固体撮像装置の製造方法は、基板上に撮像領域と周辺回路領域を形成する工程と、撮像領域よりも周辺回路領域の配線パターン密度が高くなるように複数の配線パターンを形成する工程と、配線パターンの間を埋め込む絶縁膜を形成する工程を有する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, satisfactory line width roughness and satisfactory density distribution dependency in microfabrication of a semiconductor element using actinic rays or radiation, particularly KrF excimer laser light, electron beams or EUV light, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインウィズスラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a chemically amplified resist composition suitable for use of an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to more specifically provide a chemically amplified resist composition excellent in sensitivity and dissolution contrast when using a light source of 157 nm and improved in development defects and density distribution dependency, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

２５０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適な化学増幅型レジスト組成物、より具体的には１５７ｎｍの光源使用時の感度、溶解コントラストに優れており、尚且つ、現像欠陥、疎密依存性が改良された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The print controller is arranged to assign the ink ejection quantity to subpixels such that invariance of colorimetric value variation pitch is sustained for increase in ink duty without fixing the variation pitch of ink ejection quantity by eliminating redundant ink ejection quantity when each pixel of image data is converted into an ink ejection quantity for a subpixel by a density pattern method.例文帳に追加

濃度パターン法によって画像データの各画素を上記サブ画素に対するインク吐出量に変換するに当たり、冗長なインク吐出量を排除してインク吐出量の変化ピッチを非一定としつつインクデューティの増加に対する色彩値変化ピッチの一定性を維持するようにサブ画素へのインク吐出量の割り当てを決定する。 - 特許庁

The carbon structure is characterized in that it has a peak in the XRD (X-ray diffraction) diffraction pattern within the range of 19°-26°, a density by the He method of ≥1.4 g/cm^3, and a volume resistivity of ≤1 Ωcm, and it is prepared from graphite oxide by removing a part of oxygen which is covalently bonded through calcination.例文帳に追加

本発明の炭素構造体は、酸化黒鉛の焼成により共有結合した酸素の一部を取り除き、ＸＲＤ（Ｘ線回析）の回折パターンのピークが１９°から２６°の範囲に有しているとともに、Ｈｅ法による密度が１．４ｇ／ｃｍ^３以上、体積固有抵抗値が１Ω・ｃｍ以下であることを特徴としている。 - 特許庁

In a method for exposure comprising the steps of illuminating a reticle Ri and a substrate 4 with slit-like illumination light IL while synchronously moving the reticle Ri and the substrate 4, and sequentially transferring an image of a pattern formed at the reticle Ri onto the substrate 4, a density filter Fj having an attenuator for gradually reducing the illuminance distribution of the light IL is moved in synchronization with the movement of the reticle Ri.例文帳に追加

レチクルＲｉと基板４とを同期して移動しつつスリット状の照明光ＩＬで照射してレチクルＲｉに形成されたパターンの像を基板４上に逐次転写する露光方法において、レチクルＲｉの移動に同期して、照明光ＩＬの照度分布を除々に減少させる減衰部を有する濃度フィルタＦｊを移動する。 - 特許庁

The intensity computation is performed on a forward scatter term and a backward scatter term of an exposure intensity distribution function, the proximity effect is corrected by varying the size of a mask pattern so that the width of an exposure intensity distribution of specific energy intensity becomes equal to design size, and an area density method is used for the backward scatter intensity computation.例文帳に追加

露光強度分布関数における前方散乱項及び後方散乱項の強度計算を行い、所定のエネルギー強度における露光強度分布の幅が設計寸法と一致するようにマスクパターンの寸法を変更して近接効果補正を行うこと、また、後方散乱強度計算に面積密度法を用いることを特徴とする。 - 特許庁

To realize a verification method of proximity effect correction in electron beam image drawing wherein verification by a real image drawing member is omitted and accurate verification can be performed, by fetching and verifying correction quantity of a proximity effect operating unit which is prepared for preventing proximity effect which exerts influence upon mutual patterns by pattern density at the time of real image drawing, in the course of real image drawing.例文帳に追加

実描画時のパターン密度により図形相互に影響を与える近接効果を防止するために準備される近接効果演算ユニットの補正量を実描画途中で取りだし、検証することにより、実描画材料による検証を省略して正確な検証を行うことができる電子ビーム描画における近接効果補正の検証方法を実現する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition superior in dissolution contrast by simultaneously satisfying high sensitivity, excellent line edge roughness and excellent density independence, and to provide a pattern-forming method using it.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

In the method of manufacturing an organic EL display, a first electrode is formed on a substrate, an organic light-emitting medium layer including an organic light-emitting layer wherein the same ink or ink with changed density is repeatedly coated on the same pattern by dividing into multiple times is formed by using letterpress printing on the first electrode, and a second electrode is formed on the organic light-emitting medium layer.例文帳に追加

基板上に第１電極を形成し、第１電極上に凸版印刷法を用いて、同一、または濃度を変化させたインキを複数回に分けて、同一パターン上に重ね塗りする有機発光層を含む有機発光媒体層を形成し、有機発光媒体層上に第２電極を形成することを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。 - 特許庁

This method comprises classifying the traffic state in the traffic network having the effective obstacle factor to at least each state phase of 'traffic state of running without limitation', 'traffic state of synchronous running' and 'moving extensive traffic jam', and classifying the traffic state into a high density traffic pattern including these state phases formed on the upper stream of the effective obstacle factor.例文帳に追加

本発明は、有効障害要因を有する交通網における交通状況を、少なくとも「制限なしに流れている交通状態」と「同期して流れている交通状態」と「移動している広範囲の渋滞」の各状態相に分類すると共に、有効障害要因の上流に形成されるこれらの状態相を含む高密度交通パターンに分類して判定する方法に関する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and an image density control method with which characteristic information such as development γ is accurately obtained with a small number of toner patches when the development γ is not largely varied from the previous value, and two or more toner patches are put within a detection range of an optical detection means by forming a gradation pattern once even when the development γ is much larger than the previous value.例文帳に追加

現像γが、前回の値から大きく変動していない場合は、少ないトナーパッチ数で、現像γなどの特性情報を精度よく求めることができ、現像γが前回よりも大幅に大きい場合でも、一回の階調パターンの作成で、２つ以上のトナーパッチを光学的検知手段の検知範囲内に入れることができる画像形成装置および画像濃度制御方法を提供する。 - 特許庁