「density pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method of a printed circuit board, which is effective in thinning of line and high precision of a circuit pattern in a build-up printed wiring board capable of high density wiring and high density mounting, by preventing thickening of etching margin of the circuit pattern caused by copper plating used in interlayer connection.例文帳に追加

高密度配線および高密度実装が可能なビルドアッププリント配線板において、層間接続のための銅めっきにより配線パターンのエッチング代が厚くなるのを阻止し、細線化と配線パターンの高精度化にも有効なプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a multilayer wiring substrate which uses a pattern formation method (a semi-additive method and a subtractive method) for each layer according to pattern width and pattern density of a wiring layer, by discriminating a layer with a fine wiring layer (such as a signal wiring layer) and a layer with a relatively rough layer appropriately, and to provide the multilayer wiring substrate.例文帳に追加

微細な配線層（例えば、信号配線層等）を有する層と比較的粗い配線層を有する層とに層別し、配線層のパターン幅及びパターン密度に応じて、層毎にパターン形成方法（セミアディテイブ法、ブトラクティブ法）を使い分ける多層配線基板の製造方法及び多層配線基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method includes: a step of forming a first region having a first pattern density on the semiconductor substrate 1, and a second region having a second pattern density that is smaller than the first pattern density; a step of forming a light transmission film that is composed of a silicon oxide film and silicon nitride film on the first region; and a step of irradiating the semiconductor substrate 1 with light through the light transmission film.例文帳に追加

本発明では、半導体基板１上に、第１のパターン密度を有する第１の領域と、第１のパターン密度より密度が小さい第２のパターン密度を有する第２の領域を形成する工程と、前記第１の領域上にシリコン酸化膜及びシリコン窒化膜からなる光透過膜を形成する工程と、前記光透過膜を通して前記半導体基板１に光を照射する工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a method which can be applied to a case of high pattern density by preventing generation of edge roughness, while making good use of chemical amplification type resist, and suppressing pattern deformation due to proximity effect.例文帳に追加

化学増幅型レジストの特徴を生かしながら、エッジラフネスの発生を防止すると共に、近接効果によるパターンの変形を押さえ、もって、パターン密度の高い場合にも使用可能なようにする方法を提供する。 - 特許庁

To obtain an image with high quality without causing a stripe pattern depending on a structure of a threshold value matrix and a dot pattern in a specific density level area in an image processing unit adopting an error spread method.例文帳に追加

誤差拡散法を適用した画像処理装置において、特定の濃度レベル領域におけるドットパターンや閾値マトリクスの構造に依存した縞模様が生じることなく、良質な画像が得られるようにすること。 - 特許庁

To obtain an image with excellent quality without causing a stripe pattern depending on a structure of a threshold value matrix and a dot pattern in a specific density level area in an image processing unit adopting the error spread method.例文帳に追加

誤差拡散法を適用した画像処理装置において、特定の濃度レベル領域におけるドットパターンや閾値マトリクスの構造に依存した縞模様が生じることなく、良質な画像が得られるようにすること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which decreases dependence of temperature of a semiconductor substrate on a pattern density, in heat-processing the semiconductor substrate where multiple patterns with different pattern densities exist.例文帳に追加

パターン密度が異なる複数の種類のパターンが存在する半導体基板の熱処理において、半導体基板温度のパターン密度依存性を低減することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of proper optical proximity effect correction for an entire circuit pattern in which exposure deviation caused by inhomogeneous pattern density in a local region of a photomask is not taken into consideration.例文帳に追加

フォトマスクの局部領域における不均等なパターン密度によって起こされる露光偏差を考えていない全体の回路パターンに対して、適切な光近接効果補正の方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern by which a high- density resist pattern the line width of which can be controlled excellently on the surface of a wafer and between wafers can be formed, a semiconductor manufacturing apparatus a semiconductor device, and a portable information terminal.例文帳に追加

ウェハ面内,ウェハ間の線幅制御性の良好な高密度レジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法および半導体製造装置および半導体装置および携帯情報端末を提供する。 - 特許庁

To provide a method for relatively easily creating a pattern data of a photomask for multiple exposure techniques with high positional accuracy by controlling the pattern density of each photomask to be almost equal to others in a plurality of photomasks for multiple exposure.例文帳に追加

多重露光用の複数のフォトマスクにおいて、各々のフォトマスクのパタン密度をほぼ同じにし、位置精度の高い多重露光技術用フォトマスクのパタンデータを比較的容易に作成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection method and device that can inspect a pattern defect formed on a substrate with high accuracy in a short time, and specially, sufficiently prevent degradation of detecting sensitivity and inspection accuracy of a defect to a boundary part of pattern density of an element.例文帳に追加

基板上に形成されたパターンの欠陥検査を高精度且つ短時間で行うことができ、殊に、素子のパターン疎密の境界部に対しても、欠陥の検出感度及び検査精度の低下を十分に防止できるパターン検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To realize the formation of a highly precise, highly accurate and high density pattern by improving the landing accuracy through a method capable of quickly coping with the change of design and limited production with a wide variety at a low cost, in the formation of the pattern such as a circuit pattern or the like utilizing ink jet technique.例文帳に追加

インクジェット技術を利用した回路パターン等のパターンの形成において、設計変更や多品種少量生産に迅速かつ低コストに対応可能な方法で、着弾精度を向上し、高精細、高精度の高密度パターン形成を実現する。 - 特許庁

To provide an image formation control method capable of appropriately maintaining the image density of a toner pattern image by easily and accurately calibrating an image density sensor, and then, capable of obtaining a stable image of high quality, and to provide an image forming apparatus used for the performance of the aforesaid method.例文帳に追加

容易かつ正確に画像濃度センサを較正して、トナーパターン画像の画像濃度を適正に保持することができ、安定した高品質の画像を得ることができる画像形成制御方法及びその実施に用いる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The image forming method includes performing density conversion to an image data indicating the original image, and adding the additional information to the original image by replacing an image on a position (portion B) of generating the trace pattern with the density corresponding to the information to be added.例文帳に追加

原稿画像を示す画像データに対して濃度変換を行い、追跡パターンの生成位置（部分Ｂ）の画像を、付加する情報に応じた濃度で置き換えることにより原画像に追加情報を付加する画像形成方法。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure method or the like which minimizes influence of change of blurring, which depends on pattern density, and improves imaging performance and throughput.例文帳に追加

パターン密度に依存したボケの変化の影響を最小限に抑え、結像性能やスループットの向上を目指した荷電粒子線露光方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a printed wiring board in which connection with a high- density LSI is improved by improving the fineness of a pattern especially in the upper layer, and to provide a method for manufacturing it.例文帳に追加

特に上層におけるパターンの精細度を向上させ，高密度ＬＳＩとの接続性を良くしたプリント配線板およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a superior transfer material for stamping a fine pattern for a semiconductor manufacturing process, an optical element, high-density recording, etc., and a manufacturing method.例文帳に追加

半導体製造プロセス、光学素子、高密度記録等の微細なパターンをスタンピング成形するための優れた転写材料および製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for designing a dummy pattern for preventing dishing and errosion phenomena due to the CMP process in an optimum density and arrangement.例文帳に追加

ＣＭＰプロセスによって生じるディッシングおよびエロージョン現象を抑制するためのダミーパターンを最適密度かつ最適配置で形成するダミーパターン設計方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of high topography patterning which results in a uniform pattern density facilitating the next processing steps and obtains relaxed requirements for active patterning lithography.例文帳に追加

次の処理を簡単にすることができる均一なパターン密度が得られ、アクティブ・パターニング・リソグラフィについての緩和要求が得られる高トポグラフィ・パターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a multilayer printed wiring board which can surely carry out read of an alignment mark for positioning and cope with turning into high density/fining of a wiring pattern.例文帳に追加

位置合わせ用アライメントマークの読み取りを確実に行え、配線パターンの高密度化・微細化に対応できる多層プリント配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a magnetic recording medium which significantly increases a recording density and minimizes cohesive force and residual magnetization in an area between magnetic recording pattern parts.例文帳に追加

記録密度を大幅に増加させ、また磁気記録パターン部間領域の保磁力、残留磁化を極限まで低減できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask which prevents a density correction pattern from being transferred onto a wafer, and which is inexpensive and which has excellent uniformity of line width, and to provide a method for manufacturing the photomask.例文帳に追加

密度補正パターンがウェーハに転写されることを予防し、かつ安価で優れた線幅均一性を有するフォトマスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device having a fine gate electrode, while suppressing the difference in dimensions and difference in shapes, regardless of the density of an electrode pattern.例文帳に追加

電極パターンの疎密の程度に関わらず、寸法差や形状差を抑制して微細なゲート電極を備えた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a flexible circuit substrate which has a high density wiring pattern, and is used for a bending application with superior dimension precision and high reliability; and its manufacturing method.例文帳に追加

本発明は高密度の配線パターンを有し、寸法精度に優れた、接続信頼性の高い、折り曲げ用途に用いるフレキシブル回路基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device for suppressing the adhesion of a reaction product on the sidewall of a mask material by etching regardless of the density of a pattern.例文帳に追加

パターンの密度に関係なく、エッチングによる反応生成物がマスク材料の側壁に付着することを抑制可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method comprising an exposure correction method for correcting variations in dimensions caused by a density difference of a pattern which occurs during processing in addition to a proximity effect correction and fogging exposure correction.例文帳に追加

近接効果補正及びかぶり露光補正に加えて、プロセス上で生じるパターンの疎密差に起因した寸法ばらつきを補正する露光量の補正手法を備えた露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a semiconductor device, and method and system of electroplating in which local rising of metallization due to pattern density can be suppressed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上のパターン密度に依存する金属配線の局所的な盛り上がりを抑制できる半導体装置の製造方法、電解めっき方法および電解めっき装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a polyimide-copper foil laminated plate, the method for manufacturing an extremely thin flexible printed circuit board for a high density circuit pattern highly efficiently in a high yield while reducing production steps.例文帳に追加

高密度回路パターン用の超薄膜フレキシブルプリント基板を高収率高能率にしかも生産ステップを少なくすることが可能なポリイミド銅箔積層板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which is capable of making the best of a merit of a silylation process although width of a line can be precisely and uniformly controlled through a plane independently of size and density of a pattern, a method of manufacturing a semiconductor device, and a silylation device.例文帳に追加

パターンの粗密やサイズに関係なく、高精度且つ面内均一に線幅制御が可能でありながら、シリル化プロセスの利点を生かすことができるレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法およびシリル化装置を提供すること。 - 特許庁

To obtain a forming method for a magnetization pattern wherein a fine magnetization pattern is efficiently and highly accurately formed using one and the same mask, to obtain the mask used for the method and to obtain a magnetic recording medium and a magnetic recording device capable of high density recording in a short period of time and inexpensively.例文帳に追加

同一のマスクを用いて、微細な磁化パターンを効率よく精度よく形成する磁化パターン形成方法、及びそれに用いるマスクを得、ひいてはより高密度記録が可能な磁気記録媒体及び磁気記録装置を短時間かつ安価に得る。 - 特許庁

To provide a stamper for pattern transfer in which the edge shape of a pattern formed on the surface thereof by film deposition or etching has satisfactory linearity, and capable of corresponding to a fine pattern accompanying the increase of the density and capacity in an information recording medium or the like, and to provide its production method.例文帳に追加

成膜又はエッチングによりスタンパ表面に形成されたパターンの端形状が良好な直線性を有し、情報記録媒体等の高密度、高容量化に伴う微細パターンに対応可能な、パターン転写用スタンパ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a ceramic thick film printed circuit board which can print a superior printing pattern with a high density, and has no problem in a film peeling of a printed matter after being sintered, a deformation of the pattern, a pin hole, or the like.例文帳に追加

焼成後の印刷物の膜剥がれやパターンの変形やピンホールなどの問題のない良好な印刷パターンを高密度に印刷可能なセラミック厚膜印刷回路基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a correction method for design pattern data of semiconductor circuits which adopts the correction of the design pattern data relating to making of fine patterns onto semiconductor wafers at a practicable level amidst the recent increasing tendency to the higher fineness and hither density of patterns.例文帳に追加

最近の、パタンの微細化、高密度化がますます進む中、半導体ウエハ上への微細パタン作製に係わる設計パタンデータの補正を、実用レベルで採り入れた半導体回路の設計パタンデータの補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern by which the difference in etching shapes caused by the pattern density can be eliminated, and which is excellent in rapid response to the variation of the etching shift amount or the like and is at low cost.例文帳に追加

パターン形成方法に関し、パターン疎密に依るエッチング形状の差を解消することが可能であり、また、エッチングシフト量の変動などに対して即応性に優れ、且つ、低コストのパターン形成方法を提供しようとする。 - 特許庁

To provide a printed circuit board manufacturing method that enables implementation of a fine circuit pattern and a high density circuit pattern, reduction of cost and time involved in the manufacturing process, and enhancement of reliability in insulation between patterns.例文帳に追加

微細回路パターン及び高密度回路パターンが実現でき、かつ、製造工程にかかる費用及び時間を減らすことができ、パターン間の絶縁信頼性を向上させることができる印刷回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a method of removing a density variation in a 3-dimensional lookup table for image signal conversion, a neutral gray area is located in an exposure pattern for creation of a 3-dimensional lookup table, a density variation irregularly occurring is corrected on the basis of the density variation quantity of the neutral gray area, thus increasing a reproduction accuracy for color signal conversion.例文帳に追加

３次元ルックアップテーブル作成用の露光パターンに中性グレイエリアを配置し、中性グレイエリアの濃度変動量に基づいて、不規則に起こる濃度変動を補正し、色信号変換の再現精度を向上する画像信号変換用３次元ルックアップテーブルの濃度変動除去方法により、上記課題を解決する。 - 特許庁

To obtain a method of producing a fine pattern which has excellent transfer printing e and high pattern accuracy; is capable of performing transfer- printing at high alignment accuracy using a master with a light transmission part; has high fineness and high density; and is capable of mass-producing with a high yield, and a printed wiring board using the method.例文帳に追加

転写性に優れ、パターン精度が高く、光透過部を有したマスター版を使用してアライメント精度よく転写することができ、高精細で高密度で、そして歩留り良く量産可能な微細パターンの製造方法およびそれを用いたプリント配線板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of forming a solid circuit which can form a wiring pattern capable of handling density and micronization of wirings three- dimensionally with precision and at low cost.例文帳に追加

配線の高密度化、微細化に対応することのできる配線パターンを構成物に、精密かつ低コストで３次元的に形成できる立体回路の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a printed wiring board excelling in workability, high in manufacturing efficiency, allowing via holes for executing inter-layer connection to be made adjacent to each other, and allowing a high-density wiring pattern.例文帳に追加

作業性が良く製造効率が高く、層間接続を行うビアホールの近接化を可能にし、高密度な配線パターンを可能にするプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To restrain a wiring groove from varying in depth independently of the diameter of a via hole and the density of a pattern provided thereunder when interconnections are formed through a dual damascene method.例文帳に追加

デュアルダマシン法を用いて配線を形成する際に、直下に形成されるビアホールの径やパターン密度にかかわらず配線溝の深さのばらつきを抑制することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a circuit conductor where a prescribed conductor pattern is provided with no dislocation of the circuit conductor while arrangement density of the circuit conductor is improved.例文帳に追加

回路導体が位置ずれを起こすことなく、所定の導体パターンを得ることができ、しかも回路導体の配置密度を向上させることができる回路導体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve the image quality of a hatched pattern of low density in the case of performing image processing by using a dither matrix method.例文帳に追加

ディザマトリックス法を用いて画像処理を行う場合、低濃度のハッチングパターンの画質を向上させる画像処理装置、画像処理方法及びプログラムを記憶した記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for molding a mold by which the density of the mold molded in a molding flask can be made almost uniform even if there is a deeply engraved part on a pattern plate.例文帳に追加

模型板に深い堀り込みがある場合においても、鋳枠内に造型される鋳型の密度をほぼ均一にできる鋳型造型方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a defect inspection method capable of inspecting a defect by setting a size determination region having defect detection sensitivity corresponding to the size of a defect part automatically according to the pattern density.例文帳に追加

パターンの密度に応じて自動的に欠陥部分のサイズに応じた欠陥検出感度を有するサイズ判定領域を設定して欠陥検査できる欠陥検査方法を提供すること。 - 特許庁

BORON NITRIDE THIN FILM EMITTER MADE BY CRYSTAL WITH POINTED TIP TAKING ON SELF-SIMILARITY FRACTAL PATTERN TWO-DIMENSIONALLY DISTRIBUTED AT DENSITY SUITED FOR ELECTRON EMISSION ON BORON NITRIDE FILM FRONT SURFACE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

窒化ホウ素膜表面に先端の尖った結晶が自己相似性フラクタル模様を呈して電子放出に適った密度で二次元分布してなる窒化ホウ素薄膜エミッターとその製造方法 - 特許庁