「field pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To make it possible to avert the widening and narrowing of the line width of patterns at field boundaries in a pattern data forming method for forming the pattern data of a photomask for semiconductor device production.例文帳に追加

半導体デバイス製造用のフォトマスクのパターンデータを作成するパターンデータ作成方法において、フィールド境界でのパターンの線幅の太り、細りを回避できるようにする。 - 特許庁

By the collator 18, the intensity of the DC magnetic field making the reproduction signal RFD coincide with the specified recording pattern WDK from a pattern generator 19 is decided by the collator 18 as the suitable intensity.例文帳に追加

照合器１８は、再生信号ＲＦＤがパターン発生器１９からの所定の記録パターンＷＤＫに一致にする直流磁界の強度を好適な強度と決定する。 - 特許庁

On the other hand, during a period while the lighting fixture is turned on, a thinning pattern with the effective pixels P1 distributed across the entire sight field of the camera is applied to monitor the entire sight field of the camera for detecting the presence of the human body in the sight field of the camera.例文帳に追加

一方、照明器具が点灯しているときには、カメラの視野内の人体の存否を検出する必要があるので、カメラの視野の全域に亘って監視するため、カメラの視野全域に有効画素Ｐ１が分布する間引きパターンを適用する。 - 特許庁

A means 350 for applying predetermined field of view always calculates occurrence frequency every pattern to operation patterns which are stored in the data base 340, and it allocates a suitable predetermined field of view to the operation pattern with high frequency from the data base 320.例文帳に追加

既定画角適用手段３５０は、動作パターンデータベース３４０に蓄積される動作パターンに対して、常時、パターン毎の発生頻度を算出しており、発生頻度の高い動作パターンに対して、各々、既定画角データベース３２０から、適した既定画角を割り当てる。 - 特許庁

A particular pattern is decided by using an analyzing device 4 for analyzing and deciding the temporal change of the measured electric field strength because the particular pattern occurs in the temporal fluctuations of the electric field strength when a mobile terminal 7 is moved, and an outputting means 5 outputs these decision results.例文帳に追加

移動端末７が移動すると、電界強度の時間的変動に特定のパターンが生じるので、測定した電界強度の時間的変化を解析、判定する解析装置４を用いて判定し、この判定結果を出力手段５から出力する。 - 特許庁

To solve a problem the intensity of near field light being generated from an opening lowers when the size of the opening is decreased in order to form a dot pattern of microsize using a near field light mask.例文帳に追加

近接場光マスクを用いて微細なサイズのドットパターンを形成するために開口部のサイズを小さくすると、開口から発生する近接場光の強度が減少するという課題を解決する。 - 特許庁

Then, related words are tabulated and extracted from the result of the morphemic analysis by referring to a predetermined field related word notation pattern under the consideration of the rhetoric expression of the document having the field information.例文帳に追加

分野情報を有する文書の修辞表現に着目した所定の分野関連単語表記パターンを参照し、上記形態素解析の結果から関連語が集計抽出される。 - 特許庁

Since the image of the pattern is formed on an image forming surface 11 when the luminous flux is an annular flux, a curvature-of-field adjusting means corrects a curvature of field by raising the wafer 9 to the position of the image forming surface 11.例文帳に追加

輪体状の光束では結像面１１に像が結像するので、像面湾曲調整手段が、この位置までウエハ９を持ち上げることにより像面湾曲の補正を行っている。 - 特許庁

The field image in the image buffer 32 is updated with the binary image data of the frame line area in the frame binary memory 29b, a character pattern is segmented from the updated field image and is recognized as a character.例文帳に追加

枠２値メモリ３９ｂ中の枠線エリアの２値のイメージデータによって、イメージバッファ３２中のフィールドイメージが更新され、更新されたフィールドイメージから文字パターンが切り出されて文字認識される。 - 特許庁

While, in projection stations 105, 108, 111, the pattern of a mask 129 is projected on the field of a first substrate 120, the height of the field of a second substrate 121 is measured in a measuring station 133.例文帳に追加

投影ステーション１０５、１０８、１１１内でマスク１２９のパターンを第１基板１２０の領域に投影する間、第２基板１２１の領域の高さを測定ステーション１３３で測定する。 - 特許庁

When the amplitude of the signal becomes minus, on the other hand, the direction of the magnetic field generated in the wiring pattern 12 becomes identical to the direction of a magnetic field in a wall part 23B, thereby attracting the vibrator 10 to the wall part 23B.例文帳に追加

一方、信号の振幅がマイナスとなると、配線パターン１２に発生する磁界の方向と壁部２３Ｂにおける磁界の方向は同じとなり、振動体１０は壁部２３Ｂに引き寄せられる。 - 特許庁

Consequently, part of each pixel pattern 202 and part of a BM pattern 201 are overlapped with the field cycle in the projected image Ps on the screen, and a human views the image as if the longitudinal width 202C of each pixel pattern 202 were expanded.例文帳に追加

これにより、スクリーン上の投写像Ｐｓにおいて、各画素パターン２０２の一部とＢＭパターン２０１の一部とがフィールド周期で上下方向に重畳され、人間の目には、各画素パターン２０２の縦幅２０２Ｖが擬似的に広がったように見える。 - 特許庁

Attitude data are evaluated to judge a pattern of ship attitude values according to a gas pulse and the field of the force.例文帳に追加

姿勢データは、ガスパルスに応じて且つ前記力の場に応じた乗物の姿勢値のパタンを判定するために、姿勢データは評価される。 - 特許庁

To provide a system and a method of an interference lithography, in which a high resolution pattern is produced with desired contrast over the field as a whole.例文帳に追加

高分解能パターンをフィールド全体にわたり所望のコントラストで生成する干渉リソグラフィのシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device wherein electric field concentration under high voltage between circuit pattern material and insulator is relieved and resistance to voltage is improved.例文帳に追加

回路パターン材と絶縁材間の高電圧下での電界集中を緩和し、耐圧性を向上した半導体装置を提供する。 - 特許庁

To form a circuit pattern larger than one field of an optical stepper, one subfield of an EPL or the-like without a connection error.例文帳に追加

光学ステッパーの１フィールド又はＥＰＬの１サブフィールド等よりも大きい回路パターンを接続誤差なく形成できるようにする。 - 特許庁

The line has a strip line type transmission mode, where an electric field concentrates on the metal pattern 4 of the intermediate layer, as a basic mode.例文帳に追加

この線路は中間層の金属パターン４に電界が集中するストリップ線路型の伝送モードを基本モードにもつものである。 - 特許庁

When the pattern is drawn by multiple drawing, figures divided in the first pass are used for distribution to sub-field areas in the second and following passes.例文帳に追加

多重描画でパターンを描画する場合、１パス目に分割された図形を、２パス目以降のサブフィールド領域への振り分けに用いる。 - 特許庁

To decrease a time until re-synchronization is obtained when a synchronizing signal is acquired by an erroneous pattern due to a weak electric field or interference caused by multi-path.例文帳に追加

弱電界やマルチパスによる干渉により誤ったパターンにより同期を捕捉した場合に再同期までの時間を短くする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device including a Via pattern that suppresses insulation breakdown caused by concentration of electric field in a convex portion of a contact plug.例文帳に追加

コンタクトプラグの凸形状部の電界集中による絶縁破壊を抑制したＶｉａパターンを有する半導体装置を提供する。 - 特許庁

When the 'field' pattern is displayed, the game is continued in an easily passable state of the specific area 138 shown in Fig. 17 (A).例文帳に追加

また、「田」の図柄が表示された場合には、図１７（Ａ）に示す特定領域１３８を通過し易い状態で遊技が継続される。 - 特許庁

To provide a nitride semiconductor laser device, where the far field pattern of a laser beam is good and a laser beam in single mode can be obtained.例文帳に追加

レーザ光のファーフィールドパターンが良好で、単一モードのレーザ光が得られる窒化物半導体レーザ素子を提供することである。 - 特許庁

In treatment to heat sake and milk, the field of view of an infrared ray sensor is moved as the first search and in a given pattern in a heating chamber.例文帳に追加

酒・牛乳あたため処理では、Ｓ５で、赤外線センサの視野を、初回サーチとして、加熱室内で所定のパターンで移動させる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a field emission type electron source capable of enhancing the pattern precision of an electron emission area at low cost.例文帳に追加

低コストで電子放出面積のパターン精度を高めることができる電界放射型電子源の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this sample structure, a Schottky electrode 23 is formed on the surface of a semiconductor substrate 22 where a field pattern 21 is formed.例文帳に追加

このサンプル構造では、フィールドパターン２１が形成された半導体基板２２の表面にショットキー電極２３が形成されている。 - 特許庁

By sticking the sheet 6 of a low dielectric constant, having this pattern 5 for magnetic field control onto the upper surface of the magnet 4, the DC magnetic field of the magnet 4 can be intensified and by exchanging this sheet 6 with the other sheet having a different pattern 5 for magnetic field control, the operating frequency can be controlled easily, even after assembly.例文帳に追加

この磁界調整用パターン５を有する低誘電率のシート６を、磁石４の上面に貼り付けることで、磁石４による直流磁界の大きさを強くすることが可能となり、このシート６を、磁界調整用パターン５が相違する他のシートと交換することにより、組立後でも容易に動作周波数の調整を行うことができる。 - 特許庁

Then, the stage is shifted by a prescribed distance so that the characteristic pattern R is shifted in the field of view V, and the coordinate of a two-dimensional image of the characteristic pattern R at a new position and the stag is stored.例文帳に追加

次いで、ステージを所定の距離だけ移動させて視野Ｖ内で特徴的なパターンＲを移動させ、移動した位置での特徴的なパターンＲの二次元画像とステージとの座標を記憶する。 - 特許庁

By the method, an assist feature for a pattern to be formed on the surface of a substrate is generated by generating an image field map corresponding to the pattern.例文帳に追加

開示する概念には、基板の表面に形成するパターンのための補助フィーチャを、該パターンに対応するイメージ・フィールド・マップを生成することによって生成する、方法、プログラム製品及び装置が含まれている。 - 特許庁

A bias magnet 50 for applying magnetic field to the sensor pattern 20 is directly or through adhesive attached to the back side of a magnetoresistance element 10 with the sensor pattern 20 formed on its substrate front surface.例文帳に追加

基板表面にセンサパターン２０を形成してなる磁気抵抗効果素子１０の裏面に、センサパターン２０に磁界を印加するバイアス磁石５０を直接又は接着剤によって取り付ける。 - 特許庁

To establish a constituting method for the installation pattern and excitation pattern of a transmitting coil which produces a magnetic field so as to expand the range and shape of a space wherein measurement is possible.例文帳に追加

磁気式モーションキャプチャ装置において、測定可能な空間の範囲と空間形状を拡大するために、磁場を発生する送信コイルの設置パターンと励磁パターンの構成方法を確立する。 - 特許庁

To attain the efficient and further accurate formation of a fine magnetizing pattern, in the technology to form the magnetizing pattern on a magnetic disk by combining the local heating and the application of external magnetic field.例文帳に追加

局所加熱と外部磁界印加を組み合わせて磁気ディスクに磁化パターンを形成する技術において、微細な磁化パターンを効率よく更に精度よく形成することができるようにする。 - 特許庁

To provide a magnetic transfer method and a magnetic transfer master, for which a margin for strength of a recording magnetic field is large and a recorded magnetic pattern has a high degree of compatibility between a magnetic pattern recorded with a magnetic head and a read channel.例文帳に追加

記録磁界の強度マージンが大きく、記録される磁気パターンは磁気ヘッドで記録される磁気パターンとリードチャネルの互換性が高い磁気転写方法や磁気転写マスタを提供する。 - 特許庁

A near field pattern of a laser beam L outputted from a semiconductor laser device LD is to be a parallel flux by a collimator lens 26, then the pattern is imaged on an aperture member 20 by a first lens 18.例文帳に追加

半導体レーザＬＤから出力されたレーザビームＬのニアフィールドパターンは、コリメータレンズ２６によって平行光束とされた後、第１レンズ１８によってアパーチャ部材２０上に結像される。 - 特許庁

The sense current substantially eliminates an influence of the vortices magnetization pattern 320 in the free layer by generating a vortex magnetic field 330 opposite in direction to the vortex magnetization pattern 310 fixed inside the stabilization layer.例文帳に追加

センス電流は、安定化層内に固定されている渦磁化パターン310と逆向きの渦磁場330を自由層内に発生させ、実質的に自由層内における渦磁化パターン320の影響を消去する。 - 特許庁

The antenna system disclosed herein also forms magnetic field polarization existing only on a plane of the ferrite core on which a conductor pattern is printed by directly printing the conductor pattern onto the ferrite core.例文帳に追加

また、この発明に係るアンテナ装置では、フェライトコアに直接導体パターンをプリントすることにより、当該導体パターンがプリントされたフェライトコアの平面のみの磁界偏波を形成することもできる。 - 特許庁

To provide a paper pattern for a laying member capable of easily laying the laying member such as brick blocks efficiency in a field such as a gardening and a method for laying the laying member using the paper pattern.例文帳に追加

ガーデニング等の分野において、煉瓦ブロック等の敷設部材を容易且つ効率的に敷設できるようにする敷設部材用型紙及びこれを用いた敷設部材の敷設方法を提供する。 - 特許庁

The communication mode detection method includes a step of receiving a communication frame pattern of data transmitted from a near field communication initiator after making the communication frame pattern synchronized with a preset sampling clock.例文帳に追加

本発明の通信モード検出方法によれば、近距離通信イニシエータから伝送されるデータの通信フレームパターンを予め設定されたサンプリングクロックに同期して受信する段階が用意される。 - 特許庁

To provide a photomask for near field exposure which can give a desired intensity of light directly under the aperture of a light shielding body, to provide a method of forming pattern by using the photomask, and to provide a device for forming pattern.例文帳に追加

遮光体の開口部直下で所望の光強度を与えることが可能な近接場光露光用のフォトマスク、該フォトマスクを用いたパターン作製方法およびパターン作製装置を提供する。 - 特許庁

By this setup, a rectangular dummy pattern region 3a used for prevention of interference in a magnetic field is formed between the trimming grooves 10a and 10b, and a rectangular dummy pattern region 3b used for prevention of interference in a magnetic field is formed between the trimming grooves 11a and 11b.例文帳に追加

こうして、導体パターン２の２本のトリミング溝１０ａと１０ｂの間に磁界干渉防止のための矩形状ダミーパターン領域３ａが形成され、トリミング溝１１ａと１１ｂの間に磁界干渉防止のための矩形状ダミーパターン領域３ｂが形成される。 - 特許庁

The inspection areas 16a-16i are partitioned into a plurality of vertical and lateral visual field areas, and reference pattern portions 17a-17i different each other including respective edge shapes a difference by a difference of the edge shapes of the inspection areas 16a-16i included in the respective partitioned visual field areas are used as the master pattern 17.例文帳に追加

検査領域１６ａ〜１６ｉを縦横の複数の視野領域に区画し、マスタパターン１７として、区画された各視野領域に含まれる検査領域１６ａ〜１６ｉの縁形状の違い毎で各縁形状を含む相互に異なる基準パターン部分１７ａ〜１７ｉを用いる。 - 特許庁

An insufficient discharge pattern that does not cause discharge in at least a (n-1)th and a (n-2)th sub-fields in sequence but causes discharge in an n-th sub-field is detected from among an inputted image signal, and the width of a scan pulse is increased during the address period of the sub-field where the insufficient discharge pattern occurs.例文帳に追加

入力される映像信号から、少なくとも（ｎ−１）番目及び（ｎ−２）番目のサブフィールドで連続的に放電を起こさず、ｎ番目のサブフィール度で放電を起こす低放電パターンを検出し、低放電パターンが発生するサブフィールドのアドレス期間に走査パルス幅を増加させる。 - 特許庁

To provide a method for forming a micro pattern by proximity field exposure by which a micro pattern having a high aspect ratio can be formed in an image formation layer with film thickness enough not to generate any defect such as pin hole or the like, when forming the micro pattern by proximity field exposure while the mask is made close to the image formation layer.例文帳に追加

マスクを像形成層に近接させて近接場露光によって微細パターンを作製するに際して、ピンホール等の欠陥の生じない厚さの膜厚に形成された像形成層に対して、高アスペクト比を有する微細パターンを作製することが可能となる近接場露光による微細パターンの作製方法を提供する。 - 特許庁

When the target pattern 103 of an inspection object is detected from an image 101 of an observation field of view of the inspection object, an image 102 of an observation field of view broader than that of the inspection object is previously obtained, and the target pattern is detected from the obtained image, and then the target pattern is inspected in a specified resolution.例文帳に追加

検査対象の観察視野の画像１０１より検査対象の目的とするパターン１０３を検出する際、あらかじめ、検査対象の観察視野よりも広くした観察視野の画像１０２を取得し、取得した画像から目的とするパターンを検出し、目的とするパターンを指定された解像度にて検査することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a protective circuit for a field effect transistor having a configuration to be manufactured without increasing constraints on a pattern layout and processes.例文帳に追加

パターンレイアウトに対する制約及びプロセス工程を増やすことなく作製できる構成の電界効果トランジスタの保護回路を提供する。 - 特許庁

In a method and a device for determining dynamic scanning distortion occurring in a lithography scanner, a special reticle pattern is exposed over the entire field to be identified.例文帳に追加

リソグラフィスキャナで起る動的走査歪みを判断する方法と装置において、識別するフィールド全体に特殊なレクチルパターンを露光する。 - 特許庁