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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > first Stepの意味・解説 > first Stepに関連した英語例文

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first Stepの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 7098



例文

In the deposition film forming step S4004, a deposition film is formed on a first substrate to manufacture a first electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

堆積膜形成ステップS4004では、第1の基体に堆積膜を形成して第1の電子写真用感光体を製造する。 - 特許庁

In the first resist patterning step, a first resist pattern 11 having an opening pattern 111 is formed in a contact hole formation region.例文帳に追加

第1のレジストパターン形成工程では、コンタクトホール形成領域に、開口パターン111を有する第1のレジストパターン11を形成する。 - 特許庁

The radio communication method has a step of receiving a first scanning report generated by a first node of a radio communication network.例文帳に追加

無線通信方法は、無線通信ネットワークの第1ノードによって生成される第1の走査報告を受信する段階を有する。 - 特許庁

In a first step, first and second NC programs NP1, NP2 to singly operate right and left machining units are individually prepared.例文帳に追加

第1ステップでは、左右の加工ユニットを単独運転するための第1及び第2NCプログラムNP1、NP2をそれぞれ個別に作成する。 - 特許庁

例文

A first transparent conductive film is formed on a first transparent substrate, and a second transparent conductive film is formed on a second transparent substrate (step a).例文帳に追加

(a)第1の透明基板上に第1の透明導電膜を、第2の透明基板上に第2の透明導電膜を形成する。 - 特許庁


例文

In the separation step, the semiconductor chip 12c is separated from the first member 18 by reducing adhesion of the first layer 17.例文帳に追加

分離工程では、第1接着層17の接着力を低下させて半導体チップ12cを第1ベース部材18から分離する。 - 特許庁

The parallel-flow heat exchanger 30 is the heat exchanger at the first step where the coolant is first made to flow in the indoor heat exchanger 6.例文帳に追加

パラレルフロー型熱交換器30が室内熱交換器6において冷媒が最初に流入する第1段目の熱交換器となる。 - 特許庁

In a first process (a step A20), a groove forming a contour of a part opposite to the terminal of the first substrate is formed in the second substrate.例文帳に追加

第一工程(ステップA20)では、第一基板の前記端子との対向部の輪郭をなす溝を前記第二基板に形成する。 - 特許庁

The imaging element 14 is then driven in the first cycle to perform imaging operation, thereby obtaining a first imaging field signal of the imaging element 14 (step S307).例文帳に追加

次に、撮像素子14を第1の周期で駆動して撮像動作を行い、撮像素子14の第1の撮像フィールド信号を得る(ステップS307)。 - 特許庁

例文

The method is provided with a step in which the prescribed voltage level is applied to a first word line connected to a first resistive memory cell block.例文帳に追加

この方法は第1抵抗型メモリセルブロックに接続された第1ワードラインに所定の電圧レベルを印加する段階を備える。 - 特許庁

例文

A second layer 26 is formed of silicon oxide on a top surface of the first layer 24 formed in the first layer-forming step.例文帳に追加

第1層形成工程によって形成された第1層24の上面に酸化シリコンで形成される第2層26を形成する。 - 特許庁

At a step 601, an X-ray having a first wavelength distribution is radiated to acquire first-time reconstruction projection data I_1A.例文帳に追加

ステップ601において、第1の波長分布を有するX線を照射して1回目再構成用投影データI_1Aを取得する。 - 特許庁

The method for recovering the tea leaf flavor composition from tea leaves in a tea manufacturing step includes a first step for collecting water vapor containing the tea leave flavor composition generated from the tea leave in at least one step of a steaming step, a pan firing step, and a drying step in the tea manufacturing step and a second step for obtaining liquid which contains the tea leaf flavor composition by cooling the collected water vapor.例文帳に追加

製茶プロセスに供される茶葉から茶葉香気成分を回収する方法であって、製茶プロセスの蒸熱工程、釜炒り工程、および乾燥工程の少なくとも一つの工程で、茶葉から発生する茶葉香気成分を含む水蒸気を集める第一の工程、および集められた水蒸気を冷却して茶葉香気成分含有液を得る第二の工程を含むことを特徴とする方法。 - 特許庁

In the first (second) step, the first (second) row-bar is grinding until distances from two reference markers 14 arranged in the first (second) row-bar to the first (second) grinding surface 12 become equal to a first (second) reference distance P1 (P2).例文帳に追加

第1(第2)の研削ステップでは、第1(第2)のローバーに設けられた2つの基準マーカー14から第1(第2)の研削面12までの距離が各々第1(第2)の基準距離P1(P2)となるまで第1(第2)のローバーを研削する。 - 特許庁

In the first determination step, first determination means determines whether a first peak intensity ratio being a ratio of a peak intensity for a second mass number to a peak intensity for a first mass number is within a first range or not.例文帳に追加

第1判定工程では、第1判定手段が、第1の質量数におけるピーク強度に対する、第2の質量数におけるピーク強度の比である第1ピーク強度比が、第1の範囲内であるか否かを判定する。 - 特許庁

A method for processing audio signals includes a step of dividing the first audio signal into a first spectral band signal and a second spectral band signal, a step of scaling the first spectral band signal by a first scaling coefficient proportional to the amplitude of the second audio signal, and a step of scaling the first spectral band signal by a second scaling coefficient to create a second signal portion.例文帳に追加

オーディオ信号を処理する方法は、第1オーディオ信号を第1スペクトル帯域信号および第2スペクトル帯域信号に分割するステップと、第1スペクトル帯域信号を第2オーディオ信号の振幅に比例する第1スケーリング係数でスケーリングするステップと、第1スペクトル帯域信号を第2スケーリング係数でスケーリングし、第2信号部分を形成するステップとを含む。 - 特許庁

The reproduction control method includes: a conversion step of converting first program data stored in a first apparatus into second program data reproducible by the second apparatus; a transfer step of transferring the second program data converted from the first program data to the second apparatus; and a reproduction disabling step of converting the first program data stored in the first apparatus into restorable reproduction disabled data.例文帳に追加

再生制御方法は、第1の装置内に蓄積された第1の番組データを第2の装置で再生可能な第2の番組データに変換する変換ステップと、前記変換された第2の番組データを第2の装置へ移動する移動ステップと、前記第1の装置内に蓄積された第1の番組データを復元可能な再生不能データに変換する再生不能化ステップと、を含む。 - 特許庁

This is a method for making the synthetic waveform panel, and the method comprises a step in which the first panel including the first waveform and a first opening is provided, a step in which the second panel including the second waveform and a second opening is provided, and a step in which panels are piled up by arranging the first waveform in the second opening and by arranging the second waveform in the first opening.例文帳に追加

合成波形パネルを作成する方法であって、第一の波形と第一の開口とを含む第一のパネルを設けることと、第二の波形と第二の開口とを含む第二のパネルを設けることと、第二の開口内に第一の波形を配置し、第一の開口内に第二の波形を配置することによりパネルを積み重ねることとを含む方法が提供される。 - 特許庁

The method includes a first step of extracting an objective region for an objective image (first resolution image) expressed by a first resolution, and a second step of adjusting a boundary in relation with position for the objective region obtained by the first step in an objective image (second resolution image) expressed by a second resolution higher than the first resolution.例文帳に追加

第1の解像度で表された対象画像(以下、「第1解像度画像」と呼ぶ。)において対象物の領域を抽出する第1工程と、第1の解像度より高解像度の第2の解像度で表された前記対象画像(以下、「第2解像度画像」と呼ぶ。)において、第1工程により得られた対象物領域の境界に対して位置調整を行う第2工程と、を備える。 - 特許庁

The method includes a step for fetching a first instruction line from a level 2 cache; a step for extracting, from the first instruction line, an address identifying a first data line containing data targeted by a data access instruction contained in the first instruction line or a different instruction line; and a step for prefetching, from the level 2 cache, the first data line using the extracted address.例文帳に追加

方法は、レベル2キャッシュから第1命令ラインをフェッチするステップと、第1の命令ラインから、第1の命令ラインまたは異なる命令ラインに含まれているデータ・アクセス命令のターゲットとされたデータを含む第1のデータ・ラインの識別アドレスを抽出するステップと、抽出されたアドレスを用いて、レベル2キャッシュから第1のデータ・ラインをプリフェッチするステップを含む。 - 特許庁

The substrate treatment method includes a first step in which a first substrate FB1 including a first process region T1 is aligned with a second substrate FB2 which includes a second process region T2, and a second step in which the first process region of the first substrate is laminated with the second process region of the second substrate at a position where the first substrate and the second substrate cross each other.例文帳に追加

第1処理領域T1を有する第1基板FB1と第2処理領域T2を有する第2基板FB2とを位置合わせする第1工程と、第1基板と第2基板とが互いに交差する位置において、第1基板の第1処理領域と第2基板の前記第2処理領域とを貼り合わせる第2工程と、を有する。 - 特許庁

A plasma processing method includes a step of performing first plasma processing for a first layer A1 adsorbed on a substrate W under a first pressure P1 and a step of performing second plasma processing for a second layer A2 adsorbed on the first layer L1 for which the first plasma processing was performed under a second pressure P2 lower than the first pressure P2.例文帳に追加

本実施形態のプラズマ処理方法は、基板W上に吸着された第1層A1に対して、第1圧力P1下で第1プラズマ処理を施す工程と、第1プラズマ処理を施された第1層L1上に吸着された第2層A2に対して、第1圧力P1より低い第2圧力P2下で第2プラズマ処理を施す工程とを含む。 - 特許庁

In a first wear advancing procedure, friction energy obtained by a rolling analysis (step S102) of the tire model at a present time is acquired (step S103).例文帳に追加

第1摩耗進行手順においては、現時点におけるタイヤモデルの転動解析(ステップS102)により得られた摩擦エネルギーを取得する(ステップS103)。 - 特許庁

In a step S14 in which developing and fixing processings of a printing plate is performed, application of the liquid developer onto the printing plate is performed at first at a step S14a.例文帳に追加

印刷版の現像および定着処理が行われるステップS14では、まずステップS14aによって印刷版に対し現像液の塗布が行われる。 - 特許庁

A first step section 34 and a second step section 35 are formed in the magnetic core 30, and a narrower-width core section 30F having a small width dimension is formed.例文帳に追加

磁気コア30には第1の段差部34と第2の段差部35が形成されて、幅寸法の小さい狭幅コア部30Fが形成されている。 - 特許庁

The side of the contact member 51 opposed to the terminal member 56 is formed in a stepped shape, to form a first step 52, and a second step 53 from the center thereof.例文帳に追加

接触部材51の端子部材56との対向側は階段状に形成されており、中心側から第1段部52、第2段部53を設けている。 - 特許庁

The first heating step is a step of heating and sealing the second end 10B by making a heating means 20 traverse above the second end 10B.例文帳に追加

第1の加熱工程は、加熱手段20を第2の端部10B上を横切らせることにより第2の端部10Bを加熱して封止する工程である。 - 特許庁

A command signal to supply the first compound solution YA is output in Step S20, and a waiting loop is entered for a predetermined reaction time T1 in Step S21.例文帳に追加

ステップS20で、最初の化合物溶液YAの供給指示信号を出力し、ステップS21で、所定の反応時間T1が経過するまで待機する。 - 特許庁

A first regulate circuit 22 is placed in a pre-step of a signal processing circuit 9, and a second regulate circuit 23 is placed in a pre-step of an output circuit 14.例文帳に追加

信号処理回路9の前段に第1のレギュレート回路22を配置し、出力回路14の前段に第2のレギュレート回路23を配置する。 - 特許庁

Maximum annealing temperature is 380-420°C in the first annealing step and 280-320°C in the second annealing step.例文帳に追加

その際、第1のアニール工程での最高アニール温度は380から420℃であり、第2のアニール工程での最高アニール温度は280から320℃である。 - 特許庁

The symmetrical MZIs and the optical path length difference setting circuits (asymmetrical MZIs) are alternately longitudinally connected and the symmetrical MZIs are disposed at the first step and the last step.例文帳に追加

対称MZIと光路長差設定回路(非対称MZI)とを交互に縦列接続すると共に、対称MZIを初段と終段に配置する。 - 特許庁

The auxiliary-layer forming step is a step for forming the auxiliary layer 18 which is in contact with the first side surface region 16a and is made of a material different from that of the core 4.例文帳に追加

補助層形成工程は、第1側面領域16aに接して、コア4とは異なる材料からなる補助層18を形成する工程である。 - 特許庁

In this case, the pre-inking 2 operation starts operating in tune with the start of operation of the second step of the pre-inking 1 after the operation of the first step of the pre-inking 1 is completed.例文帳に追加

この場合、プレインキング2動作は、プレインキング1の第1ステップの作動が完了した後、第2ステップの作動開始に同調して作動を開始させる。 - 特許庁

In the cavity forming process, a first step and a second step for growing a semiconductor film at different growing speeds are alternately executed a plurality of times.例文帳に追加

空洞形成工程は、互いに異なる成長速度で半導体膜の成長を行う第1ステップおよび第2ステップを交互に複数回実施する。 - 特許庁

A plurality of solar battery modules 51 having first engaging parts 111 and second engaging parts 112 at both end parts in a step roofing direction are arranged in a step roofing manner.例文帳に追加

段葺き方向の両端部に第1係合部111と第2係合部112とを有する複数の太陽電池モジュール51を段葺きに配置してある。 - 特許庁

In etching steps, a first etching step is performed by wet etching in which an etchant is used, and a second etching step is performed by dry etching in which an etching gas is used.例文帳に追加

エッチング工程において、第1のエッチング工程は、エッチング液によるウエットエッチングを用い、第2のエッチング工程はエッチングガスによるドライエッチングを用いる。 - 特許庁

Rd and Ts are read out from a nonvolatile memory of a disk drive (step S1), and Rm and Tm described in a first data file are read (step S2).例文帳に追加

ディスクドライブの不揮発メモリからRdとTsを読み出し(ステップS1)、第1のデータファイルに記述されているRmとTmを読み取る(ステップS2)。 - 特許庁

In a first step, the radio mobile equipment of a CDMA system spreads inversely a P-SCH signal by using PSC, and detects the slot timing (step S301).例文帳に追加

第1段階では、CDMA方式の無線移動機は、PSCを使用してP−SCH信号を逆拡散し、スロットタイミングを検出する(ステップS301)。 - 特許庁

If the road surface is decided to be a level ground in the first step, a road surface inclination deciding action is switched to a speed feedback control action with a zero speed command (second step).例文帳に追加

第一ステップで平地と判定したとき、路面傾斜判定動作から速度指令ゼロの速度フィードバック制御動作に切り替える(第二ステップ)。 - 特許庁

An outline of a moving object area is recognized quickly in the block unit, in the first step, and only the area is corrected in the block unit, in the second step.例文帳に追加

第1段階で移動物体領域の概略をブロック単位で高速に認識し、第2段階で該領域のみについてブロック単位で修正する。 - 特許庁

This antibacterial medical instrument is an antibacterial medical instrument manufactured by the above first step and second step.例文帳に追加

また、本発明に係る抗菌性医療器具は、前記する第1ステップと第2ステップによって製造された抗菌性医療器具であることを特徴とする。 - 特許庁

If it is determined in the step 223 that the present mode is the mode 1, first side white reference data of a mode 2 are acquired by arithmetic operation (step 224).例文帳に追加

ステップ223にて、現在のモードがモード1であると判断した場合、演算によって、モード2の1枚目のサイド白基準データを取得する(ステップ224)。 - 特許庁

A pilot injection quantity is set at a first quantity (step 1) and exhaust gas temperature (exhaust gas temperature after catalyst) in a flow downstream an oxidation catalyst is measured (step 104).例文帳に追加

パイロット噴射量を第1の量に設定し(ステップ102)、酸化触媒の後流の排気温度(触媒後排気温度)を計測する(ステップ104)。 - 特許庁

An improved method of forming an intrinsic polarizer, referred to as a K-type polarizer, includes a step of stretching a polymeric film in a first stretching step.例文帳に追加

Kタイプ偏光子と呼ばれる固有偏光子を形成する向上された方法は、第1の延伸工程でポリマーフィルムを延伸する工程を含む。 - 特許庁

The pilot injection quantity is then set at a second quantity different from the first quantity (step 106) and the exhaust gas temperature after catalyst is measured again (step 108).例文帳に追加

次いで、パイロット噴射量を第1の量とは異なる第2の量に設定し(ステップ106)、触媒後排気温度を再度計測する(ステップ108)。 - 特許庁

Step parts 2a and 2b are situated at the two ends of the first rotary shaft 2 and the rolling bearings 4 are fitted in the step parts 2a and 2b.例文帳に追加

第1の回転軸2の両端には段差部分2a,2bが設けられており、この段差部分2a,2bに転がり軸受4が嵌め込まれている。 - 特許庁

A global search that is a first step of a step search method, is performed only for a predetermined macro block pair structure in a frame structure or a field structure.例文帳に追加

ステップサーチ法による最初のステップである大域サーチを、フレーム構造またはフィールド構造のうち予め決められたマクロブロックペア構造に対してのみ行う。 - 特許庁

In a subsequent second polishing step, the residual metal material 12 left in the periphery of the semiconductor wafer 6 in the first polishing step is polished and removed.例文帳に追加

そして、続く第2の研磨ステップで、第1の研磨ステップで半導体ウエハ6周辺部に残存させた残存金属材12を研磨除去する。 - 特許庁

Next, the waveguide is irradiated with ultraviolet rays at a second place (step 306), and the optical circuit is heat-treated at a second temperature lower than the first (step 308).例文帳に追加

次に、第2の箇所で導波路に紫外線を照射し(ステップ306)、第1の温度よりも低い第2の温度で光回路を熱処理する(ステップ308)。 - 特許庁

例文

Furthermore, correlation of the number of months for leaving the organic compound powders alone and insertion force can be obtained based on data obtained from a first measurement step and the second measurement step.例文帳に追加

さらに、第1および第2測定ステップから得られたデータに基づき、放置月数と挿入力との相関関係を得ることをも可能としている。 - 特許庁




  
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