「first Step」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

A method of manufacturing a percussion instrument has a step of putting a first member 12 with a first diameter into a liquid.例文帳に追加

パーカッション楽器を製造する方法は、第１の直径を有する第１の部材１２を液体中に入れる工程を有する。 - 特許庁

In step S104, a node of the first tire model in contact with the first rim model is restrained so as not to generate relative displacement.例文帳に追加

ステップＳ１０４で、第１リムモデルに接触している第１タイヤモデルの節点が、相対変位が生じないように拘束される。 - 特許庁

Firstly, in a first step, a fence 106 and the like are removed from between first and second existing columns 101 and 102.例文帳に追加

まず、第１工程において、第１既設柱１０１及び第２既設柱１０２の間からフェンス１０６等が除去される。 - 特許庁

In the final step, the second individual electrode 431c is connected to the first power source 521, and the positive electric charge is shifted to the first power source.例文帳に追加

最後のステップでは、第２個別電極４３１ｃを第１電源５２１に接続し、正電荷を第１電源へ移動させる。 - 特許庁

In a first step, a first insulating adhesive 131a is arranged on a protective layer 113 for adhesion.例文帳に追加

第１の工程において、保護層１１３の上に第１の絶縁性接着剤１３１ａを配置してこれに接着させる。 - 特許庁

In the thermal spraying step (S1), a first insulation coating film is formed by thermally spraying a first metal oxide to the surface of the metal base.例文帳に追加

溶射工程（Ｓ１）では、金属基材の表面に第１の金属酸化物を溶射して第１の絶縁被膜を形成する。 - 特許庁

Moving from the first part to the second part, the end address of the first session is transformed into the address of the second session (a step S3).例文帳に追加

第１セッションから第２セッションに移ると、第１セッションのエンドアドレスが第２セッションのアドレスに変換される（ステップＳ３）。 - 特許庁

A step 170 sets the cut off frequency Fc of a first low pass filter for performing complex demodulation analysis of the first time.例文帳に追加

ステップ１７０では、１回目の複素復調解析を行うために、第１のローパスフィルタのカットオフ周波数Ｆｃを設定する。 - 特許庁

The process of dividing the first substrate 10 includes a step of cutting the first substrate 10 in the region inside the recess 14.例文帳に追加

第１の基板１０を分割する工程は、第１の基板１０を凹部１４の内側の領域で切断することを含む。 - 特許庁

Releasing The Package Through The Web Interface First, you should login to the PEAR website using the account you've been given (see the first step). 例文帳に追加

Web インターフェイスを利用してパッケージをリリース まず、PEAR の web サイトに、与えられたアカウント（第１ステップ参照）を使ってログインしてください。 - PEAR

The method of lithography patterning includes: a step of forming a first photoresist layer having at least one opening on a substrate; a step of curing the first photoresist layer; a step of forming a second photoresist layer on the substrate; a step of forming a material layer on the substrate; and a step of removing the first and second photoresist layers to expose the substrate.例文帳に追加

リソグラフィによるパターンニング方法であって、少なくとも一つの開口部を有する第１のフォトレジスト層を基板上に形成する工程と、第１のフォトレジスト層を硬化させる工程と、第２のフォトレジスト層を基板上に形成する工程と、マテリアル層を基板上に形成する工程と、第１および第２のフォトレジスト層を除去して基板を露出させる工程と、を含む。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor device comprises a first step for packaging semiconductor elements on a first substrate; a second step for inspecting the semiconductor elements packaged on the first substrate; a third step for dicing the first substrate into pieces; and a fourth step for packaging the first substrate diced into pieces while the semiconductor elements are packaged on a second substrate.例文帳に追加

半導体素子を第１の基板に実装する第１の工程と、前記第１の基板に実装された前記半導体素子の検査を行う第２の工程と、前記第１の基板をダイシングにより個片化する第３の工程と、個片化された、前記半導体素子が実装された前記第１の基板を、第２の基板に実装する第４の工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The method includes a step of preparing a photomask blank having a light shielding film 15 on a transparent substrate 14, a step of forming a first resist pattern by drawing and developing a resist film formed on the light shielding film, and a step of performing first patterning by etching the light shielding film with the first resist pattern as a mask.例文帳に追加

透明基板１４上に遮光膜１５を有するフォトマスクブランクを準備する工程と、遮光膜上に形成したレジスト膜を描画、現像して第１レジストパターンを形成する工程と、第１レジストパターンをマスクとして遮光膜をエッチングして第１のパターニングを行う。 - 特許庁

A first calculation unit 1c refers to step names of respective steps included in a first flow chart 2a and in a second flow chart 2b that are accepted by an input reception unit 1a, and calculating a similarity between each step name of the first flow chart 2a and each step name of the second flow chart 2b.例文帳に追加

第１の算出部１ｃは、入力受付部１ａが受け付けた第１のフロー図２ａと第２のフロー図２ｂとがそれぞれ有するステップのステップ名を参照し、第１のフロー図２ａのステップ名と、第２のフロー図２ｂのステップ名との名前の類似度を算出する。 - 特許庁

A predetermined quantity of first chemical is stored in the container (Yes at step T3) and the time required for storing that first chemical is measured (step T4) and then actual flow rate of the first chemical delivered from the delivery nozzle into the container is operated based on them (step T6).例文帳に追加

容器に所定量の第１薬液が溜められるとともに（ステップＴ３でＹｅｓ）、その第１薬液を溜めるために要した時間が計測され（ステップＴ４）、これらに基づいて、吐出ノズルから容器内に吐出された第１薬液の実流量が演算される（ステップＴ６）。 - 特許庁

The method for producing the zinc yeast comprises the first step of culturing and proliferating yeast in a first liquid material incorporated with a water-soluble zinc to impart the yeast with zinc tolerance and the second step of treating the resultant yeast in a second liquid material incorporated with the water-soluble zinc in higher concentrations than the case with the first step.例文帳に追加

第１の工程において、水溶性亜鉛を添加した第１の液状物中で酵母を培養して増殖させ、酵母の亜鉛耐性を付与した後、第２の工程で、第１の工程よりも高濃度の水溶性亜鉛を添加した第２の液状物中で酵母を処理する。 - 特許庁

When it is determined that the first task and the second task belong to different task sets in step S100 (step S100: NO), a priority control part 202 raises the priority of the first task to the highest priority (PO) in the task set the first task belongs to (step S103).例文帳に追加

ステップＳ１００にて、第１のタスクと第２のタスクとが異なるタスク集合に属すると判定された場合（ステップＳ１００：ＮＯ）、優先度制御部２０２は、第１のタスクの優先度を、第１のタスクが属するタスク集合の中で最も高い優先度（Ｐ０）まで上げる（ステップＳ１０３）。 - 特許庁

The process for forming metal films comprises: an electroless plating step (step S52) including reduction reaction using a first plating tank; an electroless plating step (step S54) only by substitution reaction using a second plating tank; and an electroless plating step (step S56) only by substitution reaction using a third plating tank.例文帳に追加

金属膜を形成する工程は、第１めっき槽を用いた還元反応を含む無電解めっき工程（ステップＳ５２）と、第２めっき槽を用いた置換反応のみによる無電解めっき工程（ステップＳ５４）と、第３めっき槽を用いた置換反応のみによる無電解めっき工程（ステップＳ５６）を含む。 - 特許庁

In the first corrected data generation process (step S40), according to a first correction rule, first corrected data are generated, by adding first correction pattern data for making the end part of the first wiring thick, at least in the width direction to the first wiring data.例文帳に追加

第１補正後データ生成工程（ステップＳ４０）では、第１の補正ルールに従って、第１配線データに、第１配線の端部を少なくとも幅方向に太らせるための第１の補正パターンデータを付加して第１補正後データを生成する。 - 特許庁

The inventive method comprises a step for forming a first electrode 110 on a semiconductor wafer, a step for forming a layer 120 of tantalum pentoxide on the first electrode 110, a step for forming a first barrier layer 130 on the layer 120 of tantalum pentoxide, and a step for forming a second electrode 140 containing copper on the first barrier layer 130.例文帳に追加

本発明の方法は、半導体ウエハ上に第１電極１１０を形成するステップと、前記第１電極１１０の上に五酸化タンタル製の層１２０を形成するステップと、前記五酸化タンタル製の層１２０の上に第１バリア層１３０を形成するステップと、前記第１バリア層１３０の上に銅を含有する第２電極１４０を形成するステップとを有する製造方法である。 - 特許庁

A semiconductor substrate cleaning method is provided with a first cleaning step in which the surface of the semiconductor substrate is cleaned by using a first brush; and a second cleaning step for cleaning the surface of the semiconductor substrate by using a second brush, after the first cleaning step under a condition that recontamination on the surface of the semiconductor substrate is suppressed compared with the first cleaning step.例文帳に追加

半導体基板の洗浄方法は、第１のブラシを用いて、半導体基板の表面を洗浄する第１の洗浄工程と、第１の洗浄工程の後に、第１の洗浄工程と比較して半導体基板の表面の再汚染を抑制した条件下において、第２のブラシを用いて半導体基板の表面を洗浄する第２の洗浄工程とを備える。 - 特許庁

It is preferable that the fourth step uses a distiller 22 in separating the volatile organic compound and the water, and further preferable that the fifth step to supply the separated water in the fourth step to the first step is added to the process described above.例文帳に追加

第４の工程は、蒸留器２２で揮発性有機化合物と水とに分離する工程が好ましく、第４の工程で分離された水を第１の工程に供給する第５の工程と、を有することが好ましい。 - 特許庁

First, the PIN code is transmitted (step S202), then, the number of digits complementing processing (step S203), separator attaching processing (step S204) and PIN code identification response waiting processing (step S205) are performed in accordance with the identification specification of each exchange.例文帳に追加

まずＰＩＮコード送出を行い（ステップＳ２０２）、その後、各交換機の識別仕様に対応して、桁数補完処理（ステップＳ２０３）、セパレータ付加処理（ステップＳ２０４）、ＰＩＮコード識別応答待ち処理（ステップＳ２０５）をする。 - 特許庁

Until a drawdown amount A is <20 mm, make-up feed (step S10) and a first sequence (step S4) are repeated, and when the drawdown amount A is <20 mm (NO in step S8), a second sequence is started (step S9).例文帳に追加

水位低下量Ａが２０ｍｍ未満となるまで、補給水（ステップＳ１０）および第１シーケンス（ステップＳ４）を繰り返し、水位低下量Ａが２０ｍｍ未満となった時点で（ステップＳ８でＮＯ）、第２シーケンスを開始する（ステップＳ９）。 - 特許庁

This method includes: a manufacturing step (S101) of a first set of wafer group; a cleaning step (S102); a manufacturing step (S103) of a second set of wafer group; and a chip forming step (S104).例文帳に追加

そして、本実施形態の発光素子の製造方法は、第１組目のウェハ群の製造工程（Ｓ１０１）、清掃工程（Ｓ１０２）、第２組目のウェハ群の製造工程（Ｓ１０３）、及びチップ化工程（Ｓ１０４）を含んで構成されている。 - 特許庁

When evaluating nondestructive burnup after irradiating reactor fuel containing plutonium in a reactor, a measurement step (S12), an evaluation first step (S13), an evaluation second step (S14), and an evaluation third step (S15) are performed.例文帳に追加

プルトニウムを含有する原子炉燃料が原子炉で照射された後の燃焼度を非破壊で評価するときに、測定工程（Ｓ１２）と評価第１工程（Ｓ１３）と評価第２工程（Ｓ１４）と評価第３工程（Ｓ１５）とを行う。 - 特許庁

A first step 6_1, a second step 6_2, a third step 6_3, and a fourth step 6_4 are formed by changing the height of a quartz chip 5 stepwise by irradiating a laser beam 4 absorbed by a quartz to the right upper end 5a of the quartz chip 5.例文帳に追加

水晶チップ５の右上端部５ａに水晶に吸収されるレーザビーム４を照射して段階的に水晶チップ５の高さを変化させ、第１段部６_1、第２段部６_2、第３段部６_3、第４段部６_4をそれぞれ形成する。 - 特許庁

A second semiconductor stacked layer etching step S7-3 in the ridge waveguide part forming step S7 and a first semiconductor part etching step S9-3 in the semiconductor diffracting grating element forming step S9 are performed together at a time.例文帳に追加

リッジ導波路部形成工程Ｓ７における第２半導体積層エッチング工程Ｓ７−３と、半導体回折格子要素形成工程Ｓ９における第１半導体部エッチング工程Ｓ９−３とは、一括して行われる。 - 特許庁

This process comprises an adsorption step, a first pressure equalization step having at least two stages where the pressure decreases, a purge step, and a second pressure equalization step having at least two stages where the pressure increases.例文帳に追加

このプロセスは、吸着ステップと、圧力が減少する少なくとも２つの段階を有する第１の等化ステップと、パージステップと、および圧力が増加する少なくとも２つの段階を有する第２の圧力等化ステップとを含んでいる。 - 特許庁

A switching controller 17 selects a step-down choke coil 15 when it takes a step-down action and selects a step-up choke coil 16 when it takes a step-up action, based on input voltage, thereby connecting the circuit to the first transistor 11.例文帳に追加

切換制御部１７は、入力電圧に基づいて、降圧動作をするときには降圧用チョークコイル１５を選択し、昇圧動作をするときには昇圧用チョークコイル１６を選択して、第１トランジスタ１１に接続する。 - 特許庁

Based on the result of the second step, whether the success of the displayed rank in the preceding first step actually appears or not is informed and displayed.例文帳に追加

そして第２段階の結果により、先の第１段階で通知表示したランクの当たりが実際に出現するか否かを通知表示する。 - 特許庁

In the first display step, a part of the numerical data of the case-inside temperature extracted in the numerical data extraction step is displayed on one axis.例文帳に追加

第１表示ステップでは、数値データ抽出ステップにおいて抽出された庫内温度の数値データの一部を一つの軸上に表示する。 - 特許庁

The image is multiplied "b" times in the first reduction step, and "c" times in the second reduction step (b×c=a, and 1>a>0).例文帳に追加

第１縮小ステップでは画像の倍率をｂ倍とし、第２縮小ステップでは画像の倍率をｃ倍とする（ただし、ｂ×ｃ＝ａ、１＞ａ＞０）。 - 特許庁

If a main scanning operation is a first time main scanning operation (Yes at step S1), a recording surface is scanned by means of a recording head 62 (step S2).例文帳に追加

当該主走査動作が１回目の主走査動作ならば（ステップＳ１でＹｅｓ）、記録ヘッド６２にて記録面を走査する（ステップＳ２）。 - 特許庁

A main control part 100 discharges the bonus in a step S1120 by drawing the first bonus in a chance zone in a step S1100, to carry out successive one.例文帳に追加

主制御部１００は、ステップＳ１１００のチャンスゾーンで第一ボーナスを引けば、ステップＳ１１２０でボーナスを放出して連チャンさせる。 - 特許庁

A step response progress level calculating part C-R1 calculates a progress level α1 of the step response of the first control loop whose controlled variable change is the slowest.例文帳に追加

ステップ応答進捗度算出部Ｃ＿R1は、制御量変化が最も遅い第１制御ループのステップ応答の進捗度α1 を算出する。 - 特許庁

The sub control part 160 counts up the number of games in the step SS300, and confirms whether or not a first bonus is won in the step SS310.例文帳に追加

副制御部１６０は、ステップＳＳ３００でゲーム数をカウントアップし、ステップＳＳ３１０で第一ボーナスが当選したか否かを確認する。 - 特許庁

The first branching step-up advance notice branches into the advance-notice presentation G of another system at the timing while the advance-notice presentation B in the main step-up advance notice is executed.例文帳に追加

そして、メインステップアップ予告における予告演出Ｂが実行されている途中のタイミングで別系統の予告演出Ｇに分岐する。 - 特許庁

In a second step, the computing results in the first step are read from the respective disk devices and further computing is carried out between them.例文帳に追加

第二段階の演算では、各ディスク装置から第一段階の演算結果を読み出してそれらの演算結果どうしでさらに演算を行う。 - 特許庁

A main control unit 100 releases bonuses at a step S1020 to successively release bonuses when a first bonus is drawn in a chance zone at a step S1000.例文帳に追加

主制御部１００は、ステップＳ１０００のチャンスゾーンで第一ボーナスを引けば、ステップＳ１０２０でボーナスを放出して連チャンさせる。 - 特許庁

The first-step element S3a and the second-step element S3b are substantially discontinuous in at least one of applying time or inclination.例文帳に追加

第１段階要素Ｓ３ａと第２段階要素Ｓ３ｂとは、印加時間または勾配の少なくとも一方が実質的に不連続である。 - 特許庁

The image processing means of this game system includes a first motion-controlling means (a step S302) and a second motion-controlling means (a step S303).例文帳に追加

ゲーム装置の画像処理手段は、第１動作制御手段（ステップＳ３０２）と、第２動作制御手段（ステップＳ３０３）とを含んでいる。 - 特許庁

The first step-down circuit 1 outputs an input voltage Vin reduced to a voltage V1, and the second step-down circuit 2 steps down the voltage V1 to a voltage V2.例文帳に追加

第１降圧回路１は入力電圧Vinを電圧V1に降圧して出力し、第２降圧回路２は電圧V1を電圧V2に降圧する。 - 特許庁

The initial time step setting part 12 sets an initial calculation time for first calculation and a time step for executing the subsequent analysis calculation.例文帳に追加

初期時間ステップ設定部１２は、最初に計算を行う初期計算時刻と次の解析計算を実行するための時間ステップを設定する。 - 特許庁

In a first and a third step, an etching gas is used containing a fluorocarbon gas having a higher ratio of the number of C atoms to the number of F atoms than in a second step.例文帳に追加

第１ステップ及び第３ステップには、第２ステップよりＣ／Ｆ原子数の比が高いフルオロカーボンガスを含むエッチングガスを使用する。 - 特許庁