「fluoric」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To sensitively analyze aluminum being contained in fluoric acid by using a frameless atomic absorption method regardless of the concentration of the fluoric acid.例文帳に追加

フッ酸の濃度に拘らず、フッ酸中に含まれるアルミニウムをフレームレス原子吸光法により高感度で分析する。 - 特許庁

The fluoric intermediate gases COF_4 react with water and become fluoric etching gases of HF or the like with oxide silicon etching ability.例文帳に追加

フッ素系中間ガスのＣＯＦ_４は、水と反応して酸化シリコンのエッチング能を有するＨＦ等のフッ素系エッチングガスとなる。 - 特許庁

A glass plate 1 and a silicon substrate 3 are bonded by fluoric acid.例文帳に追加

ガラス板１とシリコン基板３をフッ酸で接合する。 - 特許庁

Next, fluoric acid vapor 6 is sprayed on the surface of the silicon wafer 4.例文帳に追加

次に、フッ酸蒸気６をシリコンウェーハ４の表面に吹き付ける。 - 特許庁

Thereafter, the first metal layer 6 is etched with nitric fluoric acid via the second metal layer 6.例文帳に追加

その後、フッ硝酸で第２金属層１０を媒介して第１金属層６をエッチングする。 - 特許庁

Thus, obtained low dew point fluoric raw material gases are passed through a plasma space 26 near an atmospheric pressure.例文帳に追加

こうして得られた低露点フッ素系原料ガスを大気圧近傍のプラズマ空間２６に通す。 - 特許庁

Fluoric acid vapor is generated by a fluoric acid generation container 10, and is supplied to a substrate treatment chamber 10 via a treatment gas supply path 40.例文帳に追加

ふっ酸蒸気発生容器１０でふっ酸蒸気を発生させ、これをキャリアガスにより、処理ガス供給路４０を介して基板処理室１０に供給する。 - 特許庁

Thus, fluoric reactive gases are generated which contain COF_4 of non-radical fluoric intermediate gases and in which a ratio of the number of fluorine atoms (F), and the number of hydrogen atoms (H) is (F)/(H)>1.5.例文帳に追加

これにより、非ラジカルのフッ素系中間ガスであるＣＯＦ_４を含み、フッ素原子数（Ｆ）と水素原子数（Ｈ）の比が（Ｆ）／（Ｈ）＞１．５であるフッ素系反応性ガスが生成される。 - 特許庁

This lubricant agent layer comprises a fluoric lubricant agent containing polytetrafluoroethylene resin and a fluoric lubricating oil and has thickness of 0.5 μm or more and 10 μm or less.例文帳に追加

この潤滑剤層は、ポリ四フッ化エチレン樹脂及びフッ素系潤滑油を含有するフッ素系潤滑剤からなり、その厚さは０．５μｍ以上１０μｍ以下である。 - 特許庁

To provide a method for modifying a fluoric resin by which a fine pulverizable process can be easily carried out, and to provide a fine fluoric resin powder excellent in abrasion resistance obtained by the method.例文帳に追加

微細な粉砕加工を容易に行えるようになる弗素樹脂の改質方法と、これより得られる微細かつ耐摩耗性に優れた弗素樹脂粉末を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma CVD method which prevents an electrostatic chuck from being damaged due to fluorine, in cleaning that uses fluoric gas.例文帳に追加

フッ素系ガスを用いるクリーニングにおいてフッ素による静電チャックの損傷を防止し得るプラズマＣＶＤ方法を提供する。 - 特許庁

The obtained polyolefin fiber contains 0.001-5 mass% of the fibrillar fluoric polymer and has ≥2.0 GPa tensile modulus of elasticity.例文帳に追加

得られたポリオレフィン系繊維は、フィブリル状のフッ素系ポリマーを０．００１〜５質量％含み、引張弾性率が２．０ＧＰａである。 - 特許庁

The 1st washing liquid contains liquid chemicals, such as fluoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, acetic acid, ammonia, and pure water.例文帳に追加

第１の洗浄液は、フッ酸、硝酸、塩酸、リン酸、酢酸、アンモニアなどの薬液、および純水を含む。 - 特許庁

As this oxidation treatment, flame irradiation, coating of an aqueous hydrogen peroxide solution, coating of fluoric acid or ultra-violet light irradiation is preferred.例文帳に追加

この酸化処理としては、火炎の照射、過酸化水素水の塗布、フッ酸の塗布又は紫外線照射が好ましい。 - 特許庁

Water of a quantity of with a 10°C-40°C dew point is added to CF_4 that is a fluoric raw material containing fluorine and having no reactivity with silicon.例文帳に追加

フッ素を含みシリコンとの反応性を有しないフッ素系原料であるＣＦ_４に、露点が１０℃〜４０℃になる量の水を添加する。 - 特許庁

To obtain a flowmeter that can accurately measure the flowrate of fluid with a high corrosion property such as fluoric acid.例文帳に追加

フッ酸等の腐食性の高い流体の流量を精度良く計測することができる流量計を提供すること。 - 特許庁

The oxide film 4a is decomposed by the fluoric acid vapor 6 and the surface of the silicon wafer 4 becomes hydrophobic.例文帳に追加

フッ酸蒸気６によって酸化膜４ａが分解し、シリコンウェーハ４の表面は疎水性となる。 - 特許庁

Even if non-aqueous electrolytic solution is encapsulated in the sack, it is possible to sufficiently prevent production of fluoric acids originating from externally water infiltration.例文帳に追加

従って、封入袋の内部に非水電解液が封入されても、外部からの水分の侵入によるフッ酸の生成が十分に防止される。 - 特許庁

This plating soln. consists of a silver salt, a fluoric surfactant and a pH buffer salt.例文帳に追加

銀塩、銀の錯化剤、フッ素系界面活性剤および、ＰＨバッファー塩とからなることを特徴とする電子部品用無電解銀めっき液。 - 特許庁

Subsequently, the slurry layer 21a is immersed in a fluoric solution S to impart liquid repellency to the slurry layer 21a.例文帳に追加

次いで、スラリー層２１ａをフッ素系溶液Ｓ中に浸すことによってスラリー層２１ａに撥液性を付与する。 - 特許庁

After that, the ground surface is subjected to wet etching by a fluoric nitric acid, and the thickness of the silicon wafer 1 is set to 300 μm.例文帳に追加

次に、研削面をフッ硝酸によりウエットエッチングして、シリコンウエハ１の厚さを３００μｍにする。 - 特許庁

The thermally oxidized SiO_2 film 22 which becomes unnecessary is etched and removed using fluoric acid to obtain the shadow mask 24.例文帳に追加

不要となった熱酸化ＳｉＯ_2膜２２を、弗酸を用いて蝕刻除去することでシャドウマスク２４を得る。 - 特許庁

In a mask 28, a mask substrate 41 made of aluminum is covered with fluoric resin coating 43.例文帳に追加

マスク２８は、アルミニウムからなるマスク基板４１の表面にフッ素樹脂コーティング４３が施されている。 - 特許庁

Crystallized silicon 3 is etched with a fluoric acid or hydrochloric, and an unrequired metal element is removed to form an active layer.例文帳に追加

結晶化したシリコンをフッ酸や塩酸でエッチングして、不要な金属元素を除去し、活性層を形成する。 - 特許庁

A first mixing section 14 mixes a fluoric acid undiluted solution (for example, having a concentration of 49 wt.%) supplied from a fluoric acid tank 30 and DIW supplied from a DIW supply source to generate a rare-hydrofluoric acid (for example, having a concentration of 2.3 wt.%).例文帳に追加

第１混合部１４は、ふっ酸タンク３０から供給されるふっ酸原液（濃度がたとえば４９ｗｔ％）と、ＤＩＷ供給源から供給されるＤＩＷとを混合して、希ふっ酸（濃度がたとえば２．３ｗｔ％）を生成する。 - 特許庁

A wafer W is rotated by a wafer-rotating section 10, fluoric acid is supplied onto surfaces Wa and Wb of the wafer W as washing liquid from upper and lower nozzles 64 and 14, and the wafer W is cleaned by the fluoric acid (a cleaning process).例文帳に追加

ウエハ回転部１０によってウエハＷが回転させられ、上ノズル６４および下ノズル１４より洗浄液としてのふっ酸がウエハＷの両面Ｗａ，Ｗｂに供給されて、ふっ酸によるウエハＷの洗浄が行われる（洗浄工程）。 - 特許庁

This lithographic printing plate recording medium is equipped with an ink accepting layer including 20-500 mg/m^2 of at least one kind of organic fluoric compound selected from the group consisting of an organic fluoric compound having a 6-C fluoroalkyl group and a carboxylate in a molecule and an organic fluoric compound having two 6-C fluoroalkyl group and a sulfonate in a molecule on an aluminum support having an anodically oxidizing layer.例文帳に追加

陽極酸化層を有するアルミ支持体上に、分子内に炭素数６のフルオロアルキル基とカルボン酸塩とを有する有機フッ素化合物、及び、分子内に炭素数６のフルオロアルキル基を２つとスルホン酸塩とを有する有機フッ素化合物からなる群より選択される１種以上の有機フッ素化合物を２０〜５００ｍｇ／ｍ^２含有するインク受容層を備えた平版印刷版用記録媒体である。 - 特許庁

(b) Inflammation of mucous membranes of the eyes or respiratory troubles such as inflammation of mucous membranes of the respiratory organs due to jobs exposed to pyrolytic products of synthetic resins such as of fluoric resin, vinyl chloride resin, or acrylic resin 例文帳に追加

２　弗素樹脂、塩化ビニル樹脂、アクリル樹脂等の合成樹脂の熱分解生成物にさらされる業務による眼粘膜の炎症又は気道粘膜の炎症等の呼吸器疾患 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To balance reduction of relative permittivity and, enhancement of mechanical strength, by controlling the quantity of the fluoric atoms contained in an organic film containing fluorine.例文帳に追加

フッ素含有有機膜中に含まれるフッ素原子の量をコントロールできるようにして、比誘電率の低減と機械的強度の向上とのバランスをとれるようにする。 - 特許庁

A water-dispersion type fluoric copolymer composition comprising a copolymer that contains the polymeric unit of a monomer having a polyfluoroalkyl group and one polymerizable unsaturated group, an ammonium salt and an aqueous medium.例文帳に追加

ポリフルオロアルキル基と１個の重合性不飽和基とを有する単量体の重合単位を含む共重合体と、アンモニウム塩と、水系媒体とを含む、水分散型フッ素系共重合体組成物。 - 特許庁

Ozone water from an ozone water supply source 43A, and hydrofluoric acid from a fluoric acid supply source 43B are alternately supplied to the upper and lower surfaces of the wafer W.例文帳に追加

基板Ｗの上下面に対して、オゾン水供給源４３Ａからのオゾン水と、フッ酸供給源４３Ｂからのフッ酸とが交互に供給される。 - 特許庁

The thermosetting resin composition containing a fluoric resin having a thermosetting group and a polymerization initiator, the resin cured film formed by heat-polymerizing the thermosetting resin and the electronic member having the film are provided.例文帳に追加

熱硬化性基を有するフッ素樹脂と、重合開始剤とを含有してなる熱硬化性樹脂組成物、およびこの熱硬化性樹脂を用いて加熱重合して形成された樹脂硬化膜、さらに樹脂硬化膜を有してなる電子部材。 - 特許庁

Before the fluoric acid vapor is supplied to a substrate treatment chamber 20, valves 71 and 81 are closed, and a carrier gas is supplied to a substrate treatment chamber 20 via a bypass path 75 and a treatment gas supply path 40.例文帳に追加

ふっ酸蒸気を基板処理室２０に供給する前に、バルブ７１，８１を閉じ、バイパス経路７５および処理ガス供給路４０を介して、基板処理室２０へとキャリアガスが供給される。 - 特許庁

First, the plate is dipped into a fluoric acid solution and then into pure water to remove an oxygen atom from silicon oxide for covering the surface of the silicon particle for composing the plate before drying.例文帳に追加

そしてこのプレートを先ずフッ酸溶液に浸漬し、次に純水に浸漬してプレートを構成するシリコン粒の表面を覆う酸化シリコンから酸素原子を取り除き、しかる後乾燥を行う。 - 特許庁

This soln. consists of silver nitrate, a silver complexing agent consisting of a hydantoin compd., a fluoric surfactant and a pH buffer salt.例文帳に追加

硝酸銀と、ヒダントイン化合物からなる銀の錯化剤と、フッ素系界面活性剤と、ＰＨバッファー塩とからなることを特徴とする電子部品用無電解銀めっき液。 - 特許庁

The soln. contains 0.05-30 g/l silver ion, 0.1-200 g/l hydantoin compd. and 0.01-10 g/l fluoric surfactant and further contains an inorg. acid, an org. acid or both as the pH buffer salt.例文帳に追加

銀イオン０．０５〜３０ｇ／ｌ、ヒダントイン化合物０．１〜２００ｇ／ｌ、フッ素系界面活性剤０．０１〜１０ｇ／ｌ含有し、ＰＨバッファー塩として無機酸または有機酸若しくは両方を含む。 - 特許庁

Then only the front-surface oxide film 301 is removed from the semiconductor wafer 101 using diluted fluoric acid, leaving the nitride film 201 only on the front surface of the semiconductor wafer 101.例文帳に追加

続けて、希弗酸を用いて半導体ウェハ１０１表面の酸化膜３０１のみを除去し、半導体ウェハ１０１の表面にのみ窒化膜２０１を残す。 - 特許庁

To provide a gate electrode, that can prevent corrosion due to buffer fluoric acid solution and alkaline-based developer, and to provide a semiconductor device having the gate electrode.例文帳に追加

緩衝フッ酸溶液及びアルカリ系現像液により腐食を防止出来るゲート電極、及びこのゲート電極を有した半導体装置を提供する。 - 特許庁

Fluoric acid vapor is supplied onto the surface of the substrate W by a fluid umbrella nozzle 22 in the etching treatment of an oxide film formed on the substrate W.例文帳に追加

基板Ｗ上に形成された酸化膜のエッチング処理において、流体傘ノズル２２によりフッ酸蒸気が基板Ｗの表面に供給される。 - 特許庁

A method for forming fine irregularities by applying blast processing to the surface or a method for substituting other atoms for a fluoric atoms to be the source of water repellent force by plasma processing is used as processing for reducing the water repellent property.例文帳に追加

撥液性の低下する処理については、表面にブラスト処理を施して微細な凹凸を形成する方法、またはプラズマ処理にて撥液力の元となるフッ素原子を他の原子に置換する方法等がある。 - 特許庁

The polymer electrolytic film is provided, which comprises a conjugated fiber which uses a fluoric polymer fiber as a inner layer and provides with an outer layer comprising the ion exchange resin which has a sulfonic group around the inner layer.例文帳に追加

フッ素系高分子繊維を内層とし、その周囲にスルホン酸基を有するイオン交換樹脂からなる外層を具備した複合繊維からなる、高分子電解質膜を提供する。 - 特許庁

Next, the upper surface of the SOI layer 3 is exposed by removing the silicon oxide film 6aa in the first and second element forming regions by wet etching using fluoric acid, etc.例文帳に追加

次に、フッ酸等を用いたウェットエッチング法により、第１及び第２の素子形成領域におけるシリコン酸化膜６ａａを除去してＳＯＩ層３の上面を露出する。 - 特許庁

A polyester powder coating material and a fluoric powder coating material are dry-blended with a mixing ratio of 7:3, and after they are electrostatically coated onto a coating object, atmosphere heating is performed on the coating object.例文帳に追加

混合比率をポリエステル粉体塗料７、フッ素粉体塗料３とし、これらをドライブレンドして、被塗物に静電塗着した後、被塗物を雰囲気加熱する。 - 特許庁

In more practical, a pre- process to form a surface oxide layer 6s on the amorphous silicon film 6a with a solution including ozone and a post-process to remove the surface oxide layer 6s with a solution including fluoric acid are performed.例文帳に追加

具体的には、オゾンを含む溶液でアモルファスシリコン膜６ａに表面酸化層６ｓを形成する前処理と、フッ酸を含む溶液で表面酸化層６ｓを除去する後処理を行なう。 - 特許庁

An inlet port 2a and a discharge port 2b are provided to the glass plate 2 by a sand blasting method and the processed glass plate 2 is bonded to the silicon substrate 3 by fluoric acid.例文帳に追加

一方、ガラス板２に導入口２ａと排出口２ｂをサンドブラスト法で加工し、加工したガラス板２を前記シリコン基板３上にフッ酸で接合する。 - 特許庁