「functional pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

A conductive film and a conductive pattern are formed and a multilayered wiring board is manufactured by using an epoxy resin composition containing an epoxy resin having ≥2 epoxy groups in one molecule, a curing agent having ≥2 functional groups reactive with the epoxy group in one molecule, and a photopolymerization initiator as essential components.例文帳に追加

１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂、該エポキシ基と反応する官能基を１分子中に２個以上有する硬化剤、及び光重合開始剤を必須成分として含有するエポキシ樹脂組成物を用いて、導電膜及び導電性パターンを形成すると共に、多層配線板を製造する。 - 特許庁

To provide a liquid drop ejector wherein the behavior of liquid drops at the time of impact can be recognized easily and a functional thin film of a more precise good fine pattern can be formed under the optimal ejection conditions to provide a technique of determining the optimal ejection conditions, and provide a method for producing a device.例文帳に追加

最適な吐出条件を決定し得る手法を提供するべく、液滴の着弾時の挙動等を容易に認識できるようにし、これにより最適な吐出条件の下でより精密で良好な微細パターンの機能性薄膜を形成できるようにした、液滴吐出装置およびデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The ink for correcting the defect of the fine colored pattern comprises at least a coloring agent, a polymer, a monomer having a reactive functional group, and a solvent, in a compounding amount of the above solvent of 25-70 wt.% based on the entire weight, and has viscosity of the ink of 40-300 mPa sec.例文帳に追加

少なくとも、着色剤と、ポリマーと、反応性官能基を有するモノマーと、溶剤を含有し、前記溶剤の配合量が全体の２５重量％〜７０重量％であり、且つ、インキの粘度が４０〜３００ｍＰａ・ｓｅｃであることを特徴とする微小着色パターン欠陥修正用インキである。 - 特許庁

The method for press forming the optical element provided with fine pattern with ruggedness of 0.1-50 μm on an optically functional face with a pair of top and bottom mold members, is characterized in that the glass raw material is press formed at a room temperature and the mold members are kept at a temperature corresponding to 10^13-10^8 dPa.s of glass viscosity.例文帳に追加

０．１μｍ〜５０μｍの凹凸を持つ微細パターンを光学機能面に備えた光学素子を、上下一対の型部材により、プレス成形する方法において、ガラス素材を室温にて、また、前記型部材をガラスの粘度で１０^13〜１０^8 ｄＰａ・ｓに相当する温度で、プレス成形することを特徴とする。 - 特許庁

DRAWING PATTERN GENERATION METHOD, DRAWING PATTERN DATA GENERATION APPARATUS AND FUNCTIONAL DROPLET DISCHARGE APPARATUS PROVIDED THEREWITH, LIQUID CRYSTAL DISPLAY APPARATUS MANUFACTURING METHOD, ORGANIC EL APPARATUS MANUFACTURING METHOD, ELECTRON EMISSION APPARATUS MANUFACTURING METHOD, PDP APPARATUS MANUFACTURING METHOD, ELECTROPHORETIC DISPLAY APPARATUS MANUFACTURING METHOD, COLOR FILTER MANUFACTURING METHOD, ORGANIC EL MANUFACTURING METHOD, SPACER FORMING METHOD, METAL WIRING FORMING METHOD, LENS FORMING METHOD, RESIST FORMING AND OPTICAL DIFFUSION BODY FORMING METHOD例文帳に追加

描画パターンデータ生成方法、描画パターンデータ生成装置並びにこれを備えた機能液滴吐出装置、液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法 - 特許庁

The composite optical filter has the electromagnetic wave-shielding properties and the near-infrared light-absorbing properties, and the composite optical filter includes, sequentially on a transparent base material 1: a conductor pattern layer 2; an ultraviolet-curing resin layer containing composite tungsten oxide compound particles 5, or a thermoplastic resin layer 3 that is thermally fused and is cooled and solidified; and a functional member 4.例文帳に追加

透明基材１上に、導電体パターン層２、複合酸化タングステン化合物微粒子５を含む紫外線硬化樹脂層又は加熱溶融・冷却固化した熱可塑性樹脂層３、及び機能性部材４がこの順に積層されてなる、電磁波遮蔽性能と近赤外線吸収性能とを有する複合光学フィルタである。 - 特許庁

The ink for correcting the minute defect in colored pattern contains monomer having at least a colorant, a dispersing agent, and a reactive functional group and a solvent, wherein the solvent contains 40-100 wt.% of a solvent (A) having boiling point of 160-250°C and specific evaporation rate of 40 or less based on the total amount of solvent.例文帳に追加

少なくとも、着色剤と、分散剤と、反応性官能基を有するモノマーと、溶剤を含有し、前記溶剤が、沸点が１６０℃〜２５０℃で、且つ比蒸発速度が４０以下の溶剤（Ａ）を溶剤全量に対して４０重量％〜１００重量％の範囲で含有することを特徴とする、微小着色パターン欠陥修正用インキ。 - 特許庁

A part of an electrode for injecting a current into the light emitting element is constituted by jointing an electrode pad 6 provided on the first substrate 21 by leading out to a part of the light emitting element other than the functional part 8 with an electrode pad 13 on a wiring pattern formed on a second substrate 22 different from the first substrate 21 such that both pads are conducted electrically.例文帳に追加

発光素子へ電流を注入するための電極の一部は、発光素子の機能部８以外の部分に引き出して第１の基板２１に設けられた電極パッド６と、第１の基板２１とは異なる第２の基板２２に形成された配線パターン上の電極パッド１３とを電気的導通が得られる様に接合して成る。 - 特許庁

The black ink for correcting microscopic defects in a coloring pattern contains at least red, yellow and blue coloring agents, a polymer, a monomer having a reactive functional group, and a solvent, with the solvent being blended by 25 to 70 wt.% of the entire ink, and the viscosity of the ink being 40 to 300 mPa sec.例文帳に追加

少なくとも、赤色及び黄色及び青色着色剤と、ポリマーと、反応性官能基を有するモノマーと、溶剤を含有し、前記溶剤の配合量が全体の２５重量％〜７０重量％であり、且つ、インキの粘度が４０〜３００ｍＰａ・ｓｅｃであることを特徴とする微小着色パターン欠陥修正用黒インキである。 - 特許庁

The black ink for correcting the defect of the fine colored pattern comprises at least red, yellow, and blue coloring agents, a polymer, a monomer having a reactive functional group, and a solvent in a compounding amount of the solvent of 25-70 wt.% based on the entire weight, and has viscosity of the ink of 40-300 mPa sec.例文帳に追加

少なくとも、赤色及び黄色及び青色着色剤と、ポリマーと、反応性官能基を有するモノマーと、溶剤を含有し、前記溶剤の配合量が全体の２５重量％〜７０重量％であり、且つ、インキの粘度が４０〜３００ｍＰａ・ｓｅｃであることを特徴とする微小着色パターン欠陥修正用黒インキである。 - 特許庁

The method also includes a functional fluid arranging step of forming the thin film pattern by arranging the functional fluid in the lyophilic sections by a droplet discharging method on the basis of the alignment marks.例文帳に追加

基板上の機能液が配置されるパターンと同じ形状、大きさの開口パターンを有する薄膜パターン用開口部と、アライメントマークを形成するアライメントマーク用開口部とが具備された金属製マスクを用いて、前記基板に撥液性を付与する撥液化処理工程と、撥液化処理された前記基板上に前記金属製マスクを配した後、薄膜パターン及びアライメントマーク用の親液部を形成する親液パターン形成工程と、アライメントマークを形成するアライメントマーク形成工程と、前記アライメントマークに基づき、液滴吐出法により前記親液部に機能液を配置して薄膜パターンを形成する機能液配置工程と、を具備する。 - 特許庁

The electronic device substrate on which an electronic device element is formed by forming a desired pattern 1 of a combination of dot patterns formed by injecting and applying droplets of liquid containing a functional material onto the substrate 10, evaporating a volatile component in the liquid, and leaving sold contents on the substrate 10 is characterized in that the optical device element is optically shielded in an invisible state.例文帳に追加

基板１０上に機能性材料を含む液体の液滴をインクジェット法で噴射付与し、該液体中の揮発成分を揮発させ、固形分を基板１０上に残留させてなるドットパターンの組み合わせによって所望のパターン１を形成してなる電子デバイス素子を形成した電子デバイス基板において、電子デバイス素子を光学的に視認不可の状態に遮蔽する。 - 特許庁

According to a QR code 10 related to this embodiment, since a micro QR code 16 is recorded instead of a bright module or dark module of the same color arranged in a square n×n module 11' being an aggregate of unit modules 11 or unit cells constituting a functional pattern, the micro QR code 16 can be recorded without reducing data patterns DP and regions thereof.例文帳に追加

本実施形態に係るＱＲコード１０によると、機能パターンを構成する単位モジュール１１または単位セルの集合体で正方形状のｎ×ｎモジュール１１’に配置される同一色の明モジュールまたは暗モジュールに代えて、マイクロＱＲコード１６を記録していることから、データパターンＤＰやその領域を減らすことなく、マイクロＱＲコード１６を記録することができる。 - 特許庁

This method consists of three sequential processes: (a) process for creating a patternized polymer that has a functional group interacting with an electroless plating catalyst or its precursor, and forms a chemical union with the corresponding board directly; (b) process for absorbing or assigning the electroless plating catalyst or its precursor on the corresponding pattern; and (c) process for conducting electroless coating and forming patternized metal films.例文帳に追加

（ａ）基板上に、無電解メッキ触媒またはその前駆体と相互作用する官能基を有し該基板と直接化学結合するポリマーをパターン状に設ける工程と、（ｂ）該パターン上に無電解メッキ触媒またはその前駆体を吸着または付与させる工程と、（ｃ）無電解メッキを行い、パターン状に金属膜を形成する工程と、を順次有することを特徴とする。 - 特許庁

"functional design" means any design applied to any article, whether for the pattern or the shape or the configuration thereof, or for any two or more of those purposes, and by whatever means it is applied, having features which are necessitated by the function which the article to which the design is applied, is to perform, and includes an integrated circuit topography, a mask work and a series of masks works;例文帳に追加

「機能的意匠」とは，物品に応用される意匠であって，その模様，形状若しくは輪郭の何れかに係るものであるか又はこれらの目的の2 以上に係るものであるかを問わず，かつ，如何なる方法によって応用されているかを問わず，当該意匠が応用される物品が果たす機能によって必要とされる特徴を有するものであり，集積回路の回路配置，マスクワーク及び連続マスクワークを含む。 - 特許庁

A negative pattern of carbon nanotubes is formed by introducing double bond-containing functional groups participating in radical polymerization into surfaces of carbon nanotubes, dispersing the carbon nanotubes with a photo-initiator in an organic solvent, applying the dispersion liquid on a substrate to form a coating, exposing the coating to UV rays through a photomask to induce radical polymerization of the carbon nanotubes in an exposed part, and removing an unexposed part with a developer solution.例文帳に追加

炭素ナノチューブの表面に、ラジカル重合への参加が可能な二重結合を有する作用基を導入し、前記炭素ナノチューブを光開始剤と共に有機溶媒に分散させて基材上にコーティングし、その後フォトマスクに介してＵＶに露光させて露光部で炭素ナノチューブのラジカル重合を誘発した後、非露光部を現像液で取り除くことにより、炭素ナノチューブのネガティブパターンを形成する。 - 特許庁

At any time during the term of the industrial design registration, any person upon payment of the required fee, may petition the Director to cancel the industrial design on any of the following grounds: (a) that the industrial design does not give a special appearance to and can not serve as pattern for an industrial product or handicraft; (b) that the industrial design is not new or original; (c) that the industrial design is dictated essentially by technical or functional consideration to obtain a technical result; (d) that the industrial design is contrary to public order, health or morals; or (e) that the subject matter of the industrial design extends beyond the content of the application as originally filed.例文帳に追加

意匠登録の存続期間中，何人も，所定の手数料を納付して，次の何れかの理由に基づき，意匠の取消を局長に申請することができる。 (a)意匠が工業製品又は手工芸品に特別の外観を与えておらず，これらの模様として機能していないこと (b)意匠が新規又は独創的でないこと (c)意匠が技術的な結果を得るための本質的に技術的若しくは機能的考慮による特徴を主としていること (d)意匠が公の秩序，健康又は善良の風俗に反すること (e)意匠の内容が原出願の内容を超えていること - 特許庁