「interlayer」に関連した英語例文の一覧と使い方(75ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a glass load receiving structure of vertical band windows capable of following the great interlayer displacement of a building even though a horizontal joint between upper and lower glass panes can be made even narrower (slenderer).例文帳に追加

上下のガラス間の横目地をさらに狭く（細く）できるにも関わらず、建物の大きな層間変位に追従できる縦連続窓のガラス荷重受け構造を提供する。 - 特許庁

The interlayer film may includes the light-transmissive chromatic color resin layer and a light-blocking layer, and the light-blocking layer may be used as a film having a function of attenuating the intensity of transmitted visible light.例文帳に追加

また、有彩色の透光性樹脂層及び遮光層を含む層間膜とし、透過する可視光の光強度を減衰させる機能を有する膜として遮光層を用いてもよい。 - 特許庁

A hard pad is employed and slurry containing silica 5 treated to have a hydrophobic surface is used as the repair component of an interlayer insulation film 2 in which a Cu wire 4 is buried.例文帳に追加

ハードパッドを用い、かつＣｕ配線４が埋め込まれる層間絶縁膜２の修復成分として、表面が疎水性になるように処理されたシリカ５を含むスラリを使用する。 - 特許庁

In this way, an aspect ratio of the depth of a contact trench 11 plus the thickness of the interlayer insulating film 10 to the opening width of the contact hole 10a is made smaller than that in a conventional manufacturing method.例文帳に追加

これにより、コンタクトホール１０ａの開口幅に対するコンタクト用トレンチ１１の深さ＋層間絶縁膜１０の厚みで規定されるアスペクト比が従来と比較して小さくなる。 - 特許庁

To enable generation of a light receiving signal required for tracking control without being influenced by interlayer stray light, even if an optical disk has many recording layers, and lens shifting occurs.例文帳に追加

光ディスクが多数の記録層を有しレンズシフトが発生したときにも層間迷光による影響を受けずにトラッキング制御に必要な受光信号を生成できるようにする。 - 特許庁

Then, the insulating film 2 including the silicon wafer 1 outside the transparent substrate 20 and a protection film 18, a gate insulating film 9, an interlayer insulation film 11, and a protection film 17 are cut and eliminated.例文帳に追加

次に、透明基板２０の外側におけるシリコンウエハ１及び保護膜１８を含む絶縁膜２、ゲート絶縁膜９、層間絶縁膜１１及び保護膜１７を切断して除去する。 - 特許庁

An interlayer dielectric film 16, wiring layers 18-24, a silicon oxide film 26, a silicon nitride film 28, a silicon oxide film 30, and wiring layers 32-36 are sequentially formed on the upper surface of the substrate.例文帳に追加

基板上面に層間絶縁膜１６、配線層１８〜２４、シリコン酸化膜２６、シリコン窒化膜２８、シリコン酸化膜３０及び配線層３２〜３６を順次に形成する。 - 特許庁

Next, wiring 18 and a bonding pad 19 are formed on the interlayer insulating film 8, and a passivation film 20 is formed to form an opening 21 to expose an aluminium layer 16.例文帳に追加

次に、層間絶縁膜８上に配線１８及びボンディングパッド１９を形成し、パッシベーション膜２０を成膜し、開口部２１を形成してアルミニウム層１６を露出させる。 - 特許庁

The upper wiring 2 and the different layer wiring 3 are formed adjacent to each other, and the interlayer insulating film 4 is interposed between the adjacent wirings 2 and 3.例文帳に追加

上層配線２と異層の配線３とは隣り合うように形成されており、異層の配線３は隣り合う上層配線２との間に層間絶縁膜４を挟んで形成されている。 - 特許庁

Furthermore, when second and third interlayer insulation films 20, 30 are formed, the film formation temperature of plasma TEOS layers 23, 33 and the temperature of HDP layers 22, 32 at that time are made the same.例文帳に追加

さらに、第２および第３の層間絶縁膜２０，３０形成の際に、プラズマＴＥＯＳ層２３，３３の成膜温度とそのときのＨＤＰ層２２，３２の温度とを同一にする。 - 特許庁

Moreover, a side wall 314 composed of the same material as the lower electrode 311 is formed in the region contacting the fourth interlayer film 308 in the side of the upper electrode 313.例文帳に追加

また、上部電極３１３の側面で第４の層間膜３０８と接する領域に下部電極３１１と同じ材料で構成されるサイドウォール３１４が形成されている。 - 特許庁

On a substrate provided with a capacitor lower part interlayer insulation film 1 and a plug 3, a line pattern by an electrode forming material 6 which reaches the plug 3 is formed by using a damascene process.例文帳に追加

まずキャパシタ下部層間絶縁膜１およびプラグ３を備える基板上に、ダマシンプロセスを用いてプラグ３まで達する電極形成材料６によるラインパターンを形成する。 - 特許庁

The electro-optic device has a layered structure comprising scanning lines 3, data lines 6, TFTs 30 and pixel electrodes 9 and various kinds of interlayer insulating films (51, 52, 53, 61, 62, 80) appropriately arranged among these elements.例文帳に追加

電気光学装置は、走査線３、データ線６、ＴＦＴ３０及び画素電極９と、これらの間に適宜配された各種の層間絶縁膜（５１，５２，５３，６１，６２，８０）からなる積層構造物を備える。 - 特許庁

Then the 1st metal film 7 formed on the 1st insulating film 4 is polished away by the CMP process, to form an interlayer connection plug 7a only in the opening part 6.例文帳に追加

その後、ＣＭＰ処理により第１の絶縁膜４上に形成されている第１の金属膜７を研磨除去して、開口部６内のみに層間接続プラグ７ａを形成する。 - 特許庁

At least a laminate of a gate insulation film 6 and a gate electrode 7, and an active region 13 are formed on a silicon substrate and then an underlying interlayer insulating film 10 is also formed.例文帳に追加

シリコン基板上に、ゲート絶縁膜６及びゲート電極７の積層体と、活性領域１３とを少なくとも形成し、更に下地層間絶縁膜１０を形成する。 - 特許庁

On an interlayer insulation film 14, a second electrode interconnection 20 is so formed as to be extended in a prescribed direction Y crossing the extended direction of the first electrode interconnection 12.例文帳に追加

層間絶縁膜１４上において第１電極配線１２の伸長方向と交差する所定方向Ｙに伸長するように第２電極配線２０が設けられている。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method which removes an effect to an alignment mark of CMP of an interlayer dielectric film surface, and can accurately and securely carry out the detection of alignment mark.例文帳に追加

層間絶縁膜表面のＣＭＰのアライメントマークへの影響を排除し、アライメントマークの検出を精度良く確実に行うことができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device for accumulating an interlayer insulating film having no film nonuniformity on a base film by removing organic materials deposited on the surface of the base film.例文帳に追加

下地膜表面に付着している有機物を除去することにより、該下地膜上に膜ムラのない層間絶縁膜を堆積できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The first metal layers 27, 28 have parts connected to the second metal layers 21, 22 at a pixel part and provided on the interlayer insulation film 25 whose edge is planarized.例文帳に追加

第１の金属層２７、２８は、画素部において第２の金属層２１、２２と接続された部分を有しかつその端部が平坦化された層間絶縁膜２５上に設けられる。 - 特許庁

To form a small hole exceeding the limit in a photoengraving on an antireflection film in a manufacturing method of a semiconductor device which has a microscopic hole penetrating an interlayer insulating film.例文帳に追加

本発明は層間絶縁膜を貫通する微細なホールを有する半導体装置の製造方法に関し、写真製版の限界を超える小さなホールを形成することを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device having a relatively thick film thickness of an interlayer insulating film and a constitution capable of suppressing an occurrence of an increase or a disconnection in the contact resistance.例文帳に追加

層間絶縁膜の膜厚が比較的厚い構成を有する半導体記憶装置において、コンタクト抵抗の上昇又は断線の発生を抑制可能な構造を提供する。 - 特許庁

And the side of the via 78a is made to be recovered from a damage caused by the etching treatment by processing the side of the via 78a formed in the interlayer insulating film 74 by this etching treatment with a silylation treatment.例文帳に追加

このエッチング処理によって層間絶縁膜７４に形成されたビア７８ａの側面部をシリル化処理し、ビア７８ａの側面部をエッチング処理によるダメージから回復させる。 - 特許庁

To provide an SiOC film and a method of forming an SiOC film capable of forming the SiOC film capable of being preferably used as an interlayer insulating layer between sets of wiring.例文帳に追加

配線間に層間絶縁層として好適に用いることができるＳｉＯＣ膜の形成することができるＳｉＯＣ膜の形成方法およびＳｉＯＣ膜を提供することにある。 - 特許庁

An interlayer insulating film is formed on a substrate 1 with lamination structure that pinches an SiO_2 film 3 as a protection film between an organic film 2 and an SiOC-based film 4 as a low dielectric constant film.例文帳に追加

低誘電率膜である有機膜２とＳｉＯＣ系膜４との間に、保護膜としてＳｉＯ_2膜３を挟持してなる積層構造の層間絶縁膜を、基板１上に形成する。 - 特許庁

Moreover, in the interlayer 102 there are formed plural trenches similarly as the n-type layer 103, and there is formed a p-type layer 104 consisting of a p-type Si so as to bury the trenches.例文帳に追加

また、中間層１０２には、Ｎ型層１０３と同様に複数のトレンチが形成されており、そのトレンチを埋めるように、Ｐ型ＳｉからなるＰ型層１０４が形成されている。 - 特許庁

At a unit pixel, an amplification transistor 26 and a selecting transistor 28 are superposed on a reading transistor 24 and a reset transistor 22 through an interlayer insulating film 37.例文帳に追加

単位画素部において、増幅トランジスタ２６および選択トランジスタ２８を、層間絶縁膜３７を介して読み出しトランジスタ２４およびリセットトランジスタ２２の上に重ねて配置している。 - 特許庁

To provide a hydraulic hose which allows the interlayer thickness between spiral reinforcing layers to be thinned, and which is extremely advantageous in the enhancement of strength as a structure of a hose and excellent in heat resistance.例文帳に追加

スパイラル補強層相互の層間の薄肉化を図れ、ホースの構造体としての強度を高める上で極めて有利となり、しかも、耐熱性に優れる油圧ホースを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing laminated glass, which can improve the strength of the laminated body even after the formation of a laminated body in such a manner that an interlayer is held between a plurality of glass sheets.例文帳に追加

複数枚のガラス間に中間膜を挟んで積層体を形成した後であっても、該積層体の強度を向上させることが可能な合わせガラスの製造方法を提供する。 - 特許庁

A first insulating film (an interlayer dielectric II) is formed on the element and in the trench DTR to cover the element and form a hollow space in the trench DTR, respectively.例文帳に追加

上記素子上を覆うように、かつ溝ＤＴＲ内に中空を形成するように素子上および溝ＤＴＲ内に第１の絶縁膜（層間絶縁膜ＩＩ）が形成される。 - 特許庁

To provide a wiring board that has interlayer connection by a via hole conductor having high reliability of electric connection, and meets the need for a Pb-free feature.例文帳に追加

電気的接続の高い信頼性を有するビアホール導体により層間接続された、Ｐｂフリーのニーズに対応することができる配線基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a touch panel member including an interlayer insulation film excellent in surface hardness and heat resistance, and/or a resin layer such as a surface protection layer, and a touch panel using the touch panel member.例文帳に追加

表面硬度および耐熱性に優れる層間絶縁膜および／または表面保護層などの樹脂層を備えるタッチパネル部材、および該タッチパネル部材を用いたタッチパネルを提供する。 - 特許庁

In a scribe region 3, the cap metal layer 32 connected to the lower wire 25 is formed between the surface of the third interlayer insulating film 27 and the passivation film 33.例文帳に追加

一方、スクライブ領域３においては、第３層間絶縁膜２７表面とパッシベーション膜３３との間には、下配線２５に接続されるキャップメタル層３２が形成されている。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film which can prevent yellowing under high temperature and high humidity, and further, has a high interlayer adhesion under alkaline condition, a touch panel which uses film, and to provide an electronic apparatus.例文帳に追加

高温高湿下での黄変を防止できる上、アルカリ性条件下での層間密着性が高い透明導電性フィルム、並びにこれを用いたタッチパネル及び電子機器を提供する。 - 特許庁

On a semiconductor substrate 10, first and second resistance layers 12A, 12B linearly extending so as to be adjacent to each other are formed, and an interlayer insulating film 13 for covering the layers is formed.例文帳に追加

半導体基板１０上に、互いに隣接して線状に延びる第１及び第２の抵抗層１２Ａ，１２Ｂが形成され、それらを覆って、層間絶縁膜１３が形成されている。 - 特許庁

To prevent an increase in electrode resistance, current leak, etc., without making interlayer capacity large even if electrodes formed on different substrates are misaligned when joined together.例文帳に追加

異なる基板に形成された電極同士を接合する場合、合わせずれが発生しても、電極抵抗の上昇や電流リーク等の発生を、層間容量を大きくせず防止する。 - 特許庁

To provide a polysiloxane based positive radiation sensitive composition which can form an interlayer insulation film having superior radiation sensitivity melt flow-proofness, high heat resistance, transparency or the like.例文帳に追加

放射線感度及び耐メルトフロー性が優れると共に、高い耐熱性、透明性等を有する層間絶縁膜を形成可能なポリシロキサン系ポジ型感放射線性組成物の提供。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device that suppress an influence of a fixed charge in an interlayer film formed between memory cells on a rectifier element, and further prevent wiring and electrodes from oxidizing.例文帳に追加

メモリセル間に形成される層間膜中の固定電荷による整流素子への影響を抑制でき、さらに配線及び電極の酸化を防止できる半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that can be improved in yield by eliminating a step of an interlayer insulating film formed between a memory cell array region and a peripheral circuit region.例文帳に追加

メモリセルアレイ領域と周辺回路領域との間に生じる層間絶縁膜の段差を解消し、歩留まりの向上を図ることができる半導体装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a seal tape which prevents a dimming layer from being deteriorated by an interlayer including a plasticizer and can improve workability when manufacturing the dimming structure.例文帳に追加

可塑剤を含む中間膜による調光層の劣化を防止すると共に、調光構造体を製造するうえで作業性を向上することができる封止テープを提供する。 - 特許庁

To provide a multilayer wiring substrate subjected to interlayer connection by a via hole conductor having high reliability of electrical connection, and capable of responding to the Pb-free need.例文帳に追加

電気的接続の高い信頼性を有するビアホール導体により層間接続された、Ｐｂフリーのニーズに対応することができる多層配線基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an interlayer for laminated glass which is excellent in sound insulation property in a wide range of temperature and prevents an instrument display from being seen doubly when being used for a head-up display.例文帳に追加

広い温度範囲においても遮音性に優れ、かつ、ヘッドアップディスプレイに用いたときに計器表示が二重に見えるのを防止することができる合わせガラス用中間膜を提供する。 - 特許庁

To provide an interlayer for laminated glass, excellent in sound insulating property even in a wide temperature range, excellent in deaerating property in a preliminary press-bonding step and suppressing foaming failure.例文帳に追加

広い温度範囲においても遮音性に優れ、かつ、予備圧着工程における脱気性に優れ発泡不良の発生を抑制できる合わせガラス用中間膜を提供する。 - 特許庁

To provide an exfoliation detection device of composite material capable of detecting the position and the size of interlayer exfoliation generated in the composite material, and an exfoliation detection method using the device.例文帳に追加

複合材料に発生する層間剥離の位置と大きさを検出することができる複合材料の剥離検出装置およびそれを用いた剥離検出方法を提供する。 - 特許庁

The interlayer conduction portion 23 has an external shape of a truncated cone with its peak portion cut (refer to Fig.1(b)), and a sectional shape of a trapezoid along a thickness direction T (refer to Fig.1(a)).例文帳に追加

層間導通部２３は、その外形が、頂部を切り取った円錐形状であり（図１（ｂ）参照）、厚さ方向Ｔに沿った断面形状は台形を成している（図１（ａ）参照）。 - 特許庁

An integrated circuit is completed by conducting a step of contact opening, a step of forming first wiring 19, a step of forming an interlayer insulating film 20, and a step of forming a second wiring 21 (inductor).例文帳に追加

コンタクト開口工程、第１配線１９の形成工程、層間絶縁膜２０の形成工程、及び第２配線２１（インダクタ）の形成工程を経て集積回路として完成する。 - 特許庁